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钛金属表面构建氧化硅薄膜载药系统用于BMP-2缓释被引量:1
2021年
目的构建钛金属表面氧化硅薄膜(mesoporous silica membranes on titanium substrates,Ti@mSiO2)负载及缓释骨形态发生蛋白-2(bone morphogenetic protein 2,BMP-2)的载药系统。方法利用油水两相法在钛金属表面生长具有垂直道的氧化硅薄膜,构建所需的药物载体。使用扫描电子显微镜(scanning electron microscope,SEM)观察材料表面形态及径大小;紫外-可见光分光仪测量并对比吸附平衡线性方程,计算得出Ti@mSiO2载体对BMP-2吸附量;间接紫外光分光光度法检测Ti@mSiO2载体的BMP-2缓释量。结果钛金属表面具有厘米尺度上均匀分布的氧化硅薄膜,薄膜具有超薄的厚度,形貌与钛金属表面的微结构一致。由于氧化硅薄膜高的比表面积,明显提高了钛片表面的吸附性能,25℃下10 nm径的Ti@mSiO2对BMP-2的吸附量达0.206μg/cm2,是纯钛片的10.5倍。更重要的是,该材料在模拟体液中可实现对BMP-2的缓慢释放,缓释时长由3 h增加到72 h。结论Ti@mSiO2可实现对BMP-2的可控负载及缓释,是促进牙种植体早期骨整合的理想材料。
黄芳毕玮孙杨刘玉普李伟
关键词:钛金属模拟体液表面形态
一种氧化硅薄膜及其制备方法和应用
本发明提出了一种氧化硅薄膜,其为立方相(MCM‑48)氧化硅薄膜,空间群为Ia3d;所述氧化硅薄膜以双子型季铵盐表面活性剂为模板制备而成,所述双子型季铵盐表面活性剂具有如式Ⅰ所示结构;其中,n=0‑4;R1=...
不公告发明人
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一种氧化硅薄膜材料的制备方法
一种氧化硅薄膜材料的制备方法,将P123和PDMS-PEO加入到聚合氧化硅溶胶中形成低聚硅酸盐前躯体溶液,然后经老化、旋涂到硅片上,再经焙烧制得低电常数氧化硅薄膜材料;所述聚合氧化硅溶胶是将TEOS、水、盐酸和...
刘玉荣
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一种氧化硅薄膜材料的制备方法
一种氧化硅薄膜材料的制备方法,将P123和PDMS-PEO加入到聚合氧化硅溶胶中形成低聚硅酸盐前躯体溶液,然后经老化、旋涂到硅片上,再经焙烧制得低电常数氧化硅薄膜材料;所述聚合氧化硅溶胶是将TEOS、水、盐酸和...
刘玉荣
一种低电常数氧化硅薄膜材料的制备方法
一种低电常数氧化硅薄膜材料的制备方法,将P123和PDMS-PEO加入到聚合氧化硅溶胶中形成低聚硅酸盐前躯体溶液,然后经老化、旋涂到硅片上,再经焙烧制得低电常数氧化硅薄膜材料;所述聚合氧化硅溶胶是将TEOS、...
刘玉荣
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一种低电常数氧化硅薄膜材料的制备方法
一种低电常数氧化硅薄膜材料的制备方法,将P123和PDMS-PEO加入到聚合氧化硅溶胶中形成低聚硅酸盐前躯体溶液,然后经老化、旋涂到硅片上,再经焙烧制得低电常数氧化硅薄膜材料;所述聚合氧化硅溶胶是将TEOS、...
刘玉荣
疏水性有序氧化硅薄膜的制备被引量:1
2011年
采用溶胶-凝胶技术并结合蒸发诱导自组装工艺,以三嵌段共聚物EO20PO70EO20(P123)为模板剂,使用浸渍提拉法制备了有序氧化硅薄膜,并使用不同的表面修饰剂对薄膜进行表面处理,制备了疏水性有序氧化硅薄膜.利用FT-IR、小角XRD、HRTEM分别表征薄膜的化学物种和结构,探讨了热处理温度和老化时间对薄膜结构的影响,通过接触角测试研究薄膜的疏水性能,考察了修饰剂种类、修饰浓度和修饰时间对薄膜疏水性的影响,结果表明所制备的薄膜为高度有序的氧化硅薄膜,径大小约为8 nm;表面修饰对薄膜的有序性有一定影响,经三甲基氯硅烷(TMCS)和γ-氨丙基三乙氧基硅烷(KH-550)修饰后的薄膜具有很好的疏水性能,接触角分别为112°和96°;修饰后薄膜的水汽稳定性良好,仍能保持有序结构,径达7.5 nm,接触角达93°.
彭迟香吴国友余煜玺程璇
关键词:有序介孔氧化硅薄膜表面修饰
一种超亲水性氧化硅薄膜的制备方法
本发明公开了一种超亲水性氧化硅薄膜的制备方法。本发明采用溶胶-凝胶工艺,以正硅酸乙酯为硅源,聚氧乙烯(4)醚月桂醇为模板剂,通过旋转涂覆法在玻璃基板表面制备出氧化硅薄膜。制得的薄膜与水的接触角为0°,表现出超亲水...
胡芸陈佩仪吴艳林韦朝海
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一种超亲水性氧化硅薄膜的制备方法
本发明公开了一种超亲水性氧化硅薄膜的制备方法。本发明采用溶胶-凝胶工艺,以正硅酸乙酯为硅源,聚氧乙烯(4)醚月桂醇为模板剂,通过旋转涂覆法在玻璃基板表面制备出氧化硅薄膜。制得的薄膜与水的接触角为0°,表现出超亲水...
胡芸陈佩仪吴艳林韦朝海
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电常数氧化硅薄膜的结构与电性能研究被引量:1
2008年
利用溶胶-凝胶技术制备了氧化硅薄膜。采用MIM结构,通过平行板电容器法测量了氧化硅薄膜电常数,结果表明采用表面修饰的方法可以在保持较低电常数(k=2.25)的前提下极大地降低薄膜的漏电流,提高薄膜的环境稳定性能。通过对富氏红外光谱的分析,讨论了薄膜的键结构与电性能之间的关系,结果表明去除氧化硅薄膜中的OH基团是提高薄膜电性能的关键。
吴兆丰姚兰芳
关键词:低介电常数介孔氧化硅薄膜

相关作者

刘玉荣
作品数:85被引量:83H指数:5
供职机构:重庆文理学院
研究主题:多面体低聚倍半硅氧烷 量子点材料 低聚 高温热处理 量子点
姚兰芳
作品数:73被引量:232H指数:9
供职机构:上海理工大学理学院
研究主题:溶胶-凝胶法 溶胶-凝胶 SIO 表面活性剂 光学性能
王孝利
作品数:10被引量:22H指数:3
供职机构:同济大学
研究主题:多孔氧化铝膜 纳米孔阵列 有序介孔氧化硅 SIO2气凝胶 自组织
吴兆丰
作品数:8被引量:23H指数:3
供职机构:同济大学波耳固体物理研究所
研究主题:溶胶-凝胶技术 表面活性剂 介电常数 低介电常数 光学薄膜
徐翔
作品数:51被引量:44H指数:5
供职机构:同济大学
研究主题:光敏 溶胶-凝胶 碳气凝胶 社交网络 ZRO2