搜索到201篇“ 小角X射线衍射“的相关文章
- 一种实现小角X射线衍射功能的方法
- 本发明公开了一种实现小角X射线衍射功能的装置及方法，本发明一种实现小角X射线衍射功能的装置包括X射线光源、X射线出射狭缝、样品台、X射线接收狭缝、X射线探测器、涡轮蜗杆升降装置和步进马达；所述的X射线光源、样品台、X射线...
- 季振国席俊华刘永强
- 文献传递
- 一种实现小角X射线衍射功能的装置
- 本实用新型公开了一种实现小角X射线衍射功能的装置，本实用新型一种实现小角X射线衍射功能的装置包括X射线光源、X射线出射狭缝、样品台、X射线接收狭缝、X射线探测器、涡轮蜗杆升降装置和步进马达；所述的X射线光源、样品台、X射...
- 季振国席俊华刘永强
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- 一种实现小角X射线衍射功能的装置及方法
- 本发明公开了一种实现小角X射线衍射功能的装置及方法，本发明一种实现小角X射线衍射功能的装置包括X射线光源、X射线出射狭缝、样品台、X射线接收狭缝、X射线探测器、涡轮蜗杆升降装置和步进马达；所述的X射线光源、样品台、X射线...
- 季振国席俊华刘永强
- 文献传递
- 小角X射线衍射技术在TiAlN涂层中的应用
- 2012年
- 主要采用常规X射线衍射法(XRD)和小角X射线衍射法对微米级厚度的Ti0.5Al0.5N涂层分别进行了物相检测、晶格常数计算和残余应力测定,并对测量结果进行了比较。结果表明:常规XRD法得到的图谱中基体信息强,而小角XRD法排除了基体衍射峰的干扰,更好地反映出TiAlN涂层信息;与常规XRD相比,小角XRD技术能显著降低晶格常数测量误差,有效测定TiAlN涂层的残余应力值。
- 胡明媚朱丽慧倪旺阳刘一雄
- 关键词：TIALN涂层小角X射线衍射晶格常数残余应力
- Mo/Si多层膜小角X射线衍射结构表征被引量：6
- 2010年
- 为了实现对Mo/Si多层膜的结构表征,测量了多层膜样品的小角X射线衍射谱。介绍了小角X射线衍射谱的分析方法,包括Bragg峰值拟合法,傅里叶变换法,反射谱拟合法。Bragg峰值拟合法和反射谱拟合法得到多层膜的周期厚度为7.09nm,两种模型的反射谱拟合法得到界面的粗糙度(扩散长度)为0.40～0.41nm(Si在Mo上),0.52～0.70nm(Mo在Si上),前者要比后者小,这与透射电镜法(TEM)得到的结果0.40nm(Si在Mo上),0.6～0.65nm(Mo在Si上)是一致的。通过基于扩散模型的反射谱拟合法得到的折射率剖面也与由高倍率透射电镜(HRTEM)积分得到的灰度值剖面在趋势上是一致的。通过X射线衍射谱和TEM图像对Mo/Si多层膜进行综合表征,得到了多层膜的精细结构信息,这对多层膜制备工艺的优化具有十分重要的意义。
- 喻波
- 关键词：MO/SI多层膜小角X射线衍射傅里叶变换遗传算法
- 磁控溅射Si/Co多层膜的小角X射线衍射测试研究
- 2001年
- 用小角X射线衍射方法对Si/Co多层膜进行了测试研究 ,应用衍射理论对测试中出现的周期数不多的强峰和其间的一系列次强峰进行了分析 ,在计算多层和单层膜厚度时 ,提出利用相邻两个衍射峰的角度之差来消除系统误差和定位误差的简便方法 ,使数据处理得到简化 .最后 ,通过XPS分析指出 ,在膜层界面具有硅的化合物存在 .
- 钱天才饶之帆杨喜昆
- 关键词：小角X射线衍射磁控溅射膜结构
- 小周期多层膜的小角X射线衍射强度研究被引量：2
- 2000年
- 水窗波段 X射线反射元件的特征是周期比较小 ,吸收层和间隔层很难形成连续的膜面 .提出了这种膜系内密度变化的简单物理模型 ,通过理论衍射强度计算和小角 X衍射实验证明这种模型是合理的 .同时理论上证明这种模型仍然有较强的小角 X射线一级反射强度 ,其强度相当于结构参数相同的理想尖锐界面多层膜一级反射强度的 70 %～ 80 % .对于小周期的多层膜设计 。
- 冯仕猛赵强汤兆胜易葵范正修
- 关键词：电子密度
- 金属单层膜的小角X射线衍射强度的研究被引量：3
- 1999年
- 本文对金属单层膜进行研究，在多种样品中没有发现Ｘ射线衍射峰．我们在基底上预先淀积一层重金属膜，然后再淀积所需样品，发现样品有较好的衍射峰产生．
- 冯仕猛易葵赵强汤兆胜范正修
- 关键词：X射线衬底单层膜衍射强度金属膜
- a-Si/Ni多层膜的小角X射线衍射分析
- 通过对用磁控溅射法制备的a-Si/Ni多层膜进行小角X射线衍射(小角XRD)分析,证实了a-Si/ Ni多层膜具有一维人工周期成分调制结构,其结构参数的实验计算值与设计值基本相符。
- 李燕卿吴兴惠陈劲波
- 文献传递
- UHMWPE凝胶结晶膜结晶形态的小角X射线衍射研究被引量：2
- 1994年
- 由准稀溶液速冷凝胶（冻胶）化结晶方法制备出超高分子量聚乙烯（ＵＨＭＷＰＥ）膜。对不同成膜浓度条件，以及再经不同温度（室温～１３０℃）热处理后所获得的膜，用小角Ｘ射线衍射方法及广角Ｘ射线衍射仪对称反射几何布置，观测了它们的片晶层积状结构及其形态的变化。结果表明，这种Ｃ轴垂直于膜面的片晶层积状形态结构与初始成膜浓度有关。发现在可达最大拉伸比的成膜浓度范围（０．４～０．５ｇ／１００ｍｌ）内，膜中片晶排列比较均匀规整。经１２９～１３４℃热处理后，随片晶厚化，片晶生长更趋完善，片晶层积长周期的周期性更好。同时，对在经不同温度热处理后接着拉伸的初期取向过程及形态结构的变化，由小角Ｘ射线衍射的结果也作了讨论。
- 朱清仁戚嵘嵘洪昆仑周贵恩
- 关键词：UHMWPE聚乙烯X射线衍射
相关作者
- 冯仕猛
- 作品数：58被引量：148H指数：7
- 供职机构：上海交通大学
- 研究主题：反射率 多层膜 多晶硅 形貌 绒面
- 易葵
- 作品数：336被引量：468H指数：12
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所
- 研究主题：镀膜 多层膜 激光损伤 色散 镀膜机
- 刘永强
- 作品数：4被引量：5H指数：1
- 供职机构：杭州电子科技大学
- 研究主题：小角X射线衍射 步进马达 衍射 狭缝 衍射仪
- 范正修
- 作品数：503被引量：1,595H指数：19
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所
- 研究主题：光学薄膜 激光损伤阈值 激光损伤 多层膜 薄膜光学
- 祝国龙
- 作品数：19被引量：20H指数：3
- 供职机构：上海交通大学
- 研究主题：保护方法 网络资源利用率 网络 小角X射线衍射 波长变换器
