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一种抛光效果好的管内抛光装置: 本实用新型涉及管道抛光技术领域，且公开了一种抛光效果好的管内抛光装置，包括加工台，所述加工台的顶部固定安装有数量为两个且呈左右对称分布的电动滑台，两个所述电动滑台的移动端顶部均固定安装有气缸，两个所述气缸的伸缩端内部均滑...; 俞贵梅俞贵洲

一种抛光效果好的大米加工设备及其使用方法: 本发明涉及粮食加工设备技术领域，具体为一种抛光效果好的大米加工设备及其使用方法，包括机架、驱动装置、抛光室、抛光辊、驱动轮、计量组件、挡板、推环和调节组件，机架上固定安装有驱动装置与抛光室；抛光辊位于抛光室内；抛光室上开...; 姜孝龙胡国四张功磊

抛光工艺参数对高纯氧化铝陶瓷基材抛光效果的影响被引量：1: 2024年; 高纯氧化铝陶瓷基材广泛应用于精密电阻、微波集成电路等高端领域。为了获得具有超高平整度、纳米级表面质量的高纯氧化铝陶瓷基材,采用机械抛光(精研)与化学机械抛光(CMP)(精抛)相结合的工艺路线,系统研究了精研过程中的压力、转速、磨料的粒径、抛光液流速及CMP过程中的抛光压力、转速等工艺参数对抛光效果的影响。结果表明,精研压力为588 N,上、下研磨盘转速分别为45和50 r/min,多晶金刚石研磨液的粒径为1μm,磨料添加速率为15 mL/min,精研时长达到25 h时,陶瓷基材即可达到抛光工序的表面质量要求。抛光压力为588 N,上、下研磨盘转速分别为20和25 r/min,硅溶胶抛光液粒径为80 nm,抛光2 h时,高纯氧化铝陶瓷基材的表面粗糙度可达到纳米级别。; 姚忠樱崔鸽常逸文任瑞康任佳乐张洪波旷峰华; 关键词：高纯氧化铝机械抛光

CMP抛光垫表面及材料特性对抛光效果影响的研究进展: 2024年; 对化学机械抛光(CMP)工艺中的抛光垫特性、劣化以及修整进行了简单阐述,重点先从抛光垫表面特性(抛光垫表面微形貌、微孔及抛光垫的结构、表面沟槽纹理的形状、微凸体的分布)和材质特性(硬度、弹性模量和化学性能)入手,对近年来国内外的实验研究与理论模拟分析两方面进行了概括,总结了目前各个特性参数对抛光垫性能以及对CMP过程影响的进展,此外,从机械磨损和化学腐蚀两方面对抛光垫的劣化机理进行简要分析。随后,为进一步探究抛光垫修整对抛光性能影响,对抛光垫的两种修整方式和修整参数对修整的效果进行了归纳,介绍了几种新型自修整材料。最后,指出了抛光垫特性和修整在发展现状中存在的问题,未来抛光垫的发展趋势将逐渐走向创新化、智能化、理论化以及应用集成化。; 梁斌高宝红刘鸣瑜霍金向李雯浩宇贺斌董延伟; 关键词：抛光垫表面特性材质特性

一种抛光效果好的PS板夹持装置: 本实用新型涉及PS板生产技术领域，具体涉及一种抛光效果好的PS板夹持装置，包括：底座，所述底座两侧分别设有矩形安装架，所述底座两侧还分别连接有安装板，所述安装板上连接有驱动两个矩形安装架进行相向和相反移动第三驱动装置，所...; 严培祥

一种抛光效果好的吊挂式抛丸机: 本实用新型涉及抛丸机领域，且公开了一种抛光效果好的吊挂式抛丸机，包括装置壳体，所述装置壳体的顶部内壁固定连接有驱动电机，所述驱动电机的输出轴通过联轴器固定连接有驱动轴，所述驱动轴的顶部固定连接有顶活动板，所述驱动轴的底部...; 袁月红董晨赵剑赵爱斌夏文军

一种铝合金表面抛光效果视觉检测系统: 本发明涉及图像分析领域，具体涉及一种铝合金表面抛光效果视觉检测系统。该系统首先采集铝合金表面的灰度图像，对灰度图像进行边缘检测获得边缘线以及边缘线上像素点的梯度幅值和梯度方向；根据边缘线的像素点灰度值获得灰度阈值；根据梯...; 王林清季永乐李佳亮徐志烽苏小波王雪峰

不同椅旁抛光系统对聚醚醚酮抛光效果的比较被引量：1: 2023年; 目的比较不同成分椅旁抛光系统对不同聚醚醚酮(polyetheretherketone,PEEK)材料的抛光效果,以期为临床合理选择PEEK材料抛光系统提供参考。方法使用舒适捷TM PEEK冠桥材料、Bio⁃PAEK®牙科PEEK材料、BioHPP®PEEK材料各制作36个试件,共108个试件,每种材料试件随机分为6组,每组6个试件,分别用OptiDisc®、Super⁃Snap®Rainbow TechniqueKit、VITA ENAMIC®Polishing Setclinical、Sof⁃Lex^(TM)Diamond Polishing System、Visio.lign FinishingKitforCompositeVeneers和CERAMAGE PolishingKit进行抛光,对照组选用Lava^(TM)Ultimate树脂基陶瓷和VITA ENAMIC®树脂基陶瓷分别制作6个试件,对应使用各自配套的抛光系统Sof⁃Lex^(TM)Diamond PolishingSystem及VITA ENAMIC®Polishing Setclinical进行抛光。测量每组试件抛光后的表面粗糙度(Ra值和Sa值)和光泽度,扫描电镜观察抛光后试件表面形貌。结果材料表面粗糙度(Ra值和Sa值)及光泽度主要受抛光系统类型影响,在不同PEEK材料种类间也有差异。Sof⁃LexTM Diamond PolishingSys⁃tem抛光PEEK材料所得的表面粗糙度最高,光泽度最低;Super⁃Snap®Rainbow TechniqueKit、Visio.lign Finishing Kitfor Composite Veneers及CERAMAGE PolishingKit抛光PEEK材料所得表面粗糙度较低,Visio.lign Finishing Kitfor Composite Veneers及CERAMAGE PolishingKit抛光PEEK材料所得光泽度较高。Visio.lign Finishing Kit for Composite Veneers抛光PEEK材料后,材料表面可观察到抛光膏颗粒嵌入,而CERAMAGE PolishingKit抛光组材料表面光滑,未见抛光膏颗粒残留。使用相同抛光系统,受试的PEEK材料中BioHPP®获得的抛光效果最佳。经CERAMAGE PolishingKit抛光后的3种PEEK材料,表面粗糙度与LavaTM Ultimate树脂基陶瓷及VITA ENAMIC®树脂基陶瓷相当,光泽度则高于两者。结论使用CERAMAGE PolishingKit抛光3种PEEK材料,均可获得良好的抛光效果,其表面粗糙度与抛光后的计算机辅助设计和制造(computer⁃aideddesignand manufacturing; 刘恒妍刘昱晨李康杰田敏牛丽娜白石柱方明; 关键词：聚醚醚酮抛光表面粗糙度光泽度扫描电镜

EVE与3M抛光组合对IPS e.max CAD全瓷修复体抛光效果及维氏硬度的影响: 2023年; 目的探究EVE与3M抛光组合对IPS e.max CAD全瓷修复体抛光效果及维氏硬度的影响。方法制备45个规格为15.0mm×10.0mm×4.0mm的IPS e.max CAD全瓷修复体样本,根据不同的表面处理方法分为3组。G组:上釉处理;3M组:采用Sof-Lex^(TM) Discs瓷抛光系统抛光;EVE组:采用EVE DIAPRO瓷抛光系统抛光。比较各组的表面粗糙度、维氏硬度以及断裂韧性。结果各组Ra值和断裂韧性从低到高依次为3M组0.05),EVE组有显著性差异(P<0.05);而各组的维氏硬度无明显差异(P>0.05)。结论3M抛光组合对IPS e.max CAD全瓷修复体抛光效果明显优于EVE抛光组合,且抛光处理能显著提高IPS e.max CAD全瓷修复体的断裂韧性,3M抛光组合效果更佳。而不同的抛光工具对IPS e.max CAD全瓷修复体的维氏硬度未产生明显影响。; 陈卓郭震威刘惠莉姚海亮; 关键词：EVE 抛光效果维氏硬度

工艺参数对316L不锈钢电解抛光效果的影响被引量：2: 2023年; 通过正交试验确定了316L不锈钢电解抛光工艺的最佳温度和抛光液流速,并在此基础上通过单因素实验研究了电流密度和抛光时间对抛光表面特性的影响。结果表明,随抛光时间延长或电流密度增大,316L不锈钢的表面粗糙度先减小后增大。在温度60℃、电流密度45 A/dm^(2)、抛光液流速800 mL/min的条件下抛光90 s时,316L不锈钢表面平整、均匀,缺陷最少,表面粗糙度(Ra)低至0.051μm。电解抛光后316L不锈钢表层富Fe氧化物被有效去除,形成富含Cr_(2)O_(3)的钝化膜,具有更好的耐蚀性。; 宣宇娜唐佳斌冯凯周赵琪詹秦芳李会英王振卫蒋继波; 关键词：不锈钢电解抛光耐蚀性

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