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3D CFC/GWs/Au电极结合DNAzyme逻辑门控生物传感平台及其应用
本发明公开了3D CFC/GWs/Au电极结合DNAzyme逻辑门控生物传感平台及其应用,该传感平台包括电化学检测装置、DNA四面体结构、Zr‑MOF‑Au‑Fc‑H1信标探针以及逻辑门模块;该平台利用低背景信号的CFC...
杨慧思包静侯长军陈鸣霍丹群
A/NP-Au电极及基于该电极的电解合成对苯二酚中间产物对苯醌在线监测的方法
本发明公开了一种A/NP‑Au电极及基于该电极的电解合成对苯二酚中间产物对苯醌在线监测的方法。所述A/NP‑Au电极的制备方法包括如下步骤:(1)将金丝表面进行预处理以除去表面的油污以及氧化层,得到光亮的金丝电极表面;(...
赵峰鸣周慧慧陈赵扬严辉张惠萱许腾飞赵丽丽
一种基于In/Au电极的硒化铟忆阻器的制备方法
本发明公开了一种基于In/Au电极的硒化铟忆阻器的制备方法,属于半导体器件领域。本发明所述的制备铟金电极的铟硒忆阻器的方法包括如下步骤:先利用机械剥离技术分别得到少层的InSe和h‑BN薄膜;之后通过干法转移技术将h‑B...
南海燕高小玉顾晓峰肖少庆蔡正阳
以多孔Au电极为传感界面的酶标记免疫传感器双底物研究
2021年
利用比表面较大的多孔Au电极为传感界面,构建夹心结构的电化学免疫传感器.采用双底物法对甲胎蛋白(AFP)进行检测,得到甲胎蛋白浓度在1~100 ng/mL范围内,邻苯二胺(OPD)和对氨基苯酚(PAP)的差分脉冲伏安法(DPV)响应电流线性回归方程及相关系数,检出限为0.1 ng/mL.结果发现,在双底物体系下,DPV响应电流与AFP浓度之间的线性范围和检测限基本一致,且用PAP为底物时检测的结果更明显,线性范围更宽一些.
何涛毕烩元詹颜刘云龙沈燕婷沈红霞
关键词:甲胎蛋白免疫传感器
在GaAs基电注入阴极中的Ti/Pt/Au电极制备工艺研究
2020年
制备Ga As基电注入阴极需要在p型Ga As材料上制备周期性分布的金属薄膜电极。实验中,分别采用正性光刻胶AZ5214和负性光刻胶RPN1150作为掩膜层,利用热阻蒸发法和电子束蒸发法在材料表面沉积Ti/Pt/Au薄膜,通过薄膜剥离技术去除多余的金属薄膜,形成基极电极。实验结果表明采用负性光刻胶制备的电极质量更好,正性光刻胶制备的电极边缘粗糙,合理地沉积Ti/Pt/Au薄膜厚度可提高电注入阴极的基极电极质量,从而提升电注入阴极的性能。
夏聚洋
关键词:光刻胶
一种能提高PI柔性衬底与Au电极粘结性能的Cr层
本发明涉及柔性气体传感器制作技术领域,且公开了一种能提高PI柔性衬底与Au电极粘结性能的Cr层,所述Cr层包括以下重量份数配比的原料:60‑75g纳米Cr粉、5‑8g玻璃粉、2‑5mL水性环氧树脂、2‑4g聚乙烯醇、1‑...
不公告发明人
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一种能增强与Au电极和PI衬底粘结性能的PDADMAC复合敏感膜
本发明涉及NH<Sub>3</Sub>气传感器制作技术领域,且公开了一种能增强与Au电极和PI衬底粘结性能的PDADMAC复合敏感膜,所述PDADMAC复合敏感膜包括以下重量份数配比的原料:15‑30mLPDADMAC、...
不公告发明人
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一种能增强与Au电极粘结性能的PDADMAC-SnO<Sub>2</Sub>复合敏感膜
本发明涉及室温乙醇气体传感器制作技术领域,且公开了一种能增强与Au电极粘结性能的PDADMAC‑SnO<Sub>2</Sub>复合敏感膜,所述PDADMAC‑SnO<Sub>2</Sub>复合敏感膜包括以下重量份数配比的...
不公告发明人
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CdZnTe晶体表面Au电极薄膜的制备及其欧姆接触性质
2018年
为了研究不同制备工艺对电极欧姆接触特性的影响,分别采用真空蒸发法、溅射法及化学沉积法在CdZnTe晶片表面制备了Au薄膜电极,通过测试样品的SEM、I-V曲线及交流阻抗谱,研究了不同电极制备工艺及退火处理对Au薄膜电极的微观结构及欧姆接触特性的影响。结果表明化学沉积法制备的Au薄膜表面更加平整、致密,接触势垒的高度较低,电极欧姆接触特性最好。退火处理可以改善电极的欧姆接触特性,100℃退火后,化学沉积法制备的Au电极的欧姆系数由0.883提高至0.915,势垒高度由0.492降低至0.487 e V。交流阻抗谱分析表明,化学沉积法制备电极具有最低的接触势垒,这与界面处晶片表面的掺杂及缺陷的变化有关。
谢经辉刘雨从王超殷子薇陈嘉栋邓惠勇沈悦王林军张建国戴宁
关键词:碲锌镉欧姆接触交流阻抗谱
Au电极与CdMnTe晶体的表面接触电阻率研究
2016年
采用圆形传输线模型研究了金(Au)电极与碲锰镉(CdMnTe)晶体的欧姆接触特性,Au电极采用AuCl3化学镀金法制备,计算了其接触电阻率。实验探讨了表面处理和退火对Au/CdMnTe接触电阻率的影响。结果表明,CdMnTe晶体经过化学抛光和化学机械抛光后Au/CdMnTe的接触电阻率分别为544.5和89.0Ω·cm2。通过AFM与XPS分析了晶体表面的形貌与成分,发现表面粗糙度和富Te成分对CdMnTe薄层电阻和载流子传输长度有较大的影响,决定了接触电阻率的大小。在150℃空气气氛退火1h后,经CP和CMP表面处理的样品,Au/CdMnTe接触电阻率均减小,分别为313.6和30.2Ω·cm2。退火促进了Au向CdMnTe晶体的扩散,使接触电阻率进一步降低,欧姆接触性能提高。
沈敏张继军王林军闵嘉华汪琳梁小燕
关键词:接触电阻率化学抛光化学机械抛光

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研究主题:预烧 介电损耗 变容管 化学计量 压控