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天津市科技发展战略研究计划项目(06YFGX02100)
作品数:
1
被引量:7
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相关作者:
孙建
黄宇
耿新华
马铁华
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作者
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熊强
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薛俊明
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2006
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中频脉冲磁控溅射制备ZnO:Al透明导电薄膜
被引量:7
2006年
采用中频磁控溅射工艺,以2%的Al掺杂的Zn(纯度99.99%)金属材料为靶材制备平面及绒面透明导电ZnO:Al(ZAO)薄膜,系统研究了衬底温度、工作气压和溅射功率等对平面ZAO结构和光电特性的影响,并对湿法腐蚀制备绒面ZAO薄膜进行了介绍。获得了适合太阳电池的高性能薄膜,其电阻率为4.6×10^-4Ω·cm,载流子浓度为4.9×10^20cm^-3,霍尔迁移率为56cm^2/V·s,可见光范围内(400~800nm)的平均透过率大于85%。
黄宇
孙建
薛俊明
马铁华
熊强
赵颖
耿新华
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中频磁控溅射
衬底温度
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