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表面改性非球面碳化硅反射镜的加工被引量：20: 2008年; 为了获得高质量光学表面的非球面碳化硅(SiC)反射镜,对碳化硅反射镜表面改性技术以及离子束辅助沉积(IBAD)Si改性后的非球面碳化硅反射镜的加工技术进行了研究。介绍了碳化硅反射镜表面改性技术以及本文所采用的离子束辅助沉积(IBAD)Si的改性方法。然后,采用氧化铈(CeO2)、氧化铝(Al2O3)以及二氧化硅(SiO2)等各种抛光液对离子束辅助沉积(IBAD)Si的碳化硅样片进行抛光实验。最后,在上述实验的基础上,采用计算机控制光学表面成型(CCOS)技术对尺寸为650mm×200mm的表面改性离轴非球面碳化硅反射镜进行加工。实验结果表明:CeO2抛光液的抛光效率较高;使用SiO2抛光液抛光后的样片表面质量最好;表面改性离轴非球面碳化硅反射镜加工后的最终检测结果为:实际使用口径内的面形精度(RMS值)为0.016λ(λ=0.6328μm),表面粗糙度为0.85nm(Rq值)。反射镜的加工结果满足设计技术指标的要求。; 张峰徐领娣范镝高劲松张学军; 关键词：离轴非球面碳化硅反射镜表面改性

磁流体辅助抛光的材料去除和表面粗糙度研究: 建立在电磁学和流体动力学理论之上的磁流体辅助抛光可以实现对光学元件的超光滑加工。建立了磁流体抛光的数学模型,介绍了加工原理和的抛光设备。通过实验讨论了磁性微粒粒度和磁流体粘度对加工结果的影响。; 张斌智殷龙海张峰; 关键词：超光滑表面; 文献传递

磁流体辅助抛光工件表面粗糙度研究被引量：29: 2005年; 给出了磁流体辅助抛光的机理,以及依据Preston方程建立的磁流体辅助抛光的数学模型。并通过实验详细研究了磁流体辅助抛光后工件的抛光区形状,以及抛光区内表面粗糙度情况。最终加工出了表面粗糙度为0.76 nm(rms值)的光学元件,其高频表面粗糙度达到0.471 nm(rms值),满足了对一定短波段光学研究的要求。结果表明:磁流体辅助抛光可以用于对光学元件进行超光滑加工;在磁流体辅助抛光过程中,较大粒度的磁流体抛光液有利于工件表面粗糙度快速降低,较小粒度的磁流体抛光液可以获得更加光滑的光学表面。; 张峰张斌智; 关键词：磁流变抛光超光滑表面

非球面研磨阶段检测技术的优化被引量：4: 2002年; 研磨阶段非球面的面形误差将由几十微米收敛到几个微米,适当的测量方法决定了该阶段误差的收敛速度和精度,而非圆对称离轴非球面加工研磨阶段的检测无疑更具难度。本文基于双四阶B样条函数的概念,提出了NURBS曲面拟合模型并用于指导非球面的研磨,同时给出应用实例,验证了该方法的有效性。; 程灏波张学军郑立功张峰范镝; 关键词：离轴非球面

大数值孔径、高次非球面透镜的加工与检验被引量：9: 2003年; 通过一空间相机光学系统中某透镜的高次非球面表面加工过程,提出了一种基于小磨头数控光学表面成型技术(CCOS,Computercontrolopticalsurfacing)和非球面轮廓检验、零位补偿检验技术的中等口径高次非球面光学表面的加工、检测方法,并且给出了补偿器实际光学设计结果。文中采用这种方法加工的高次非球面表面,最终精度优于1λP V(λ=632.8nm),满足了设计要求。对这种技术的适用范围进行了简明的讨论。; 郑立功常军张学军程灏波张峰; 关键词：空间相机光学系统透镜光学加工

磁流变抛光液的研制被引量：18: 2002年; 磁流变抛光是近十年来新兴的一种先进光学制造技术。首先简要介绍了磁流变抛光的抛光机理。然后对在磁流变抛光中起重要作用的磁流变抛光液的组成、流变性和稳定性进行了研究。在外加磁场强度高于 3 18kA m时 ,磁流变抛光液的剪切应力大于 2 0kPa ,该应力足以完成磁流变抛光。最后给出一个磁流变抛光的实例 ,证明了磁流变抛光液的实用性。实验中磁流变抛光的最大材料去除率约为 0 .2 μm s。; 张峰潘守甫张学军张忠玉郑立功程灏波牛海燕; 关键词：磁流变抛光剪切应力材料去除率

离轴非球面轮廓测量导轨直线度误差补偿模型被引量：4: 2003年; 由于研磨阶段非球面的面形误差将由几十微米收敛到几个微米,因此采用高重复精度的离散测量技术是决定误差收敛效率、影响加工进程的关键。在新一代数控光学加工中心(FSGJ Ⅱ)上,设计了双测头对非球面进行面形定量检测的轮廓测量机构。通过对测头运动导轨在x、z方向的直线精度的分析,建立了导轨直线度误差补偿模型,以较低的成本实现了较高的测量精度。; 程灏波王英伟郑立功张学军张忠玉; 关键词：离轴非球面空间相机

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国家自然科学基金(60108003)