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国家自然科学基金(90206022)

作品数:13 被引量:70H指数:6
相关作者:雒建斌荆阳张朝辉温诗铸庞思勤更多>>
相关机构:清华大学北京理工大学青华大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家杰出青年科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:金属学及工艺机械工程理学自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 12篇中文期刊文章

领域

  • 4篇机械工程
  • 3篇金属学及工艺
  • 3篇电子电信
  • 3篇自动化与计算...
  • 2篇理学
  • 1篇自然科学总论

主题

  • 4篇硬盘
  • 4篇硬盘驱动
  • 4篇硬盘驱动器
  • 4篇驱动器
  • 3篇致动器
  • 3篇微致动器
  • 2篇有限元
  • 2篇有限元分析
  • 2篇元件
  • 2篇润滑
  • 2篇薄膜润滑
  • 2篇MOS
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化钛
  • 1篇压电
  • 1篇压电薄膜
  • 1篇压电厚膜
  • 1篇液晶
  • 1篇硬磁盘
  • 1篇油膜

机构

  • 10篇清华大学
  • 2篇北京理工大学
  • 1篇北京交通大学
  • 1篇中国科学院
  • 1篇青华大学

作者

  • 11篇雒建斌
  • 7篇荆阳
  • 2篇张力
  • 2篇温诗铸
  • 2篇张朝辉
  • 2篇庞思勤
  • 1篇李文治
  • 1篇黄朋生
  • 1篇张学恒
  • 1篇易晓星
  • 1篇路新春
  • 1篇张晨辉
  • 1篇杨文言
  • 1篇雷红
  • 1篇马俊杰
  • 1篇潘国顺
  • 1篇陈大融

传媒

  • 2篇清华大学学报...
  • 2篇北京理工大学...
  • 1篇机械工程学报
  • 1篇物理学报
  • 1篇力学学报
  • 1篇中国机械工程
  • 1篇润滑与密封
  • 1篇兵工学报
  • 1篇压电与声光
  • 1篇Scienc...

年份

  • 1篇2006
  • 3篇2005
  • 8篇2004
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
TiN和Ti_(1-x)Si_xN_y薄膜的微观结构分析被引量:11
2004年
使用x射线衍射 (XRD)、x射线光电子谱 (XPS)、高分辨透射电子显微镜 (HRTEM)和原子力显微镜 (AFM)多种观测手段分析了TiN薄膜和Ti1 -xSixNy 纳米复合薄膜的微观结构 .实验分析证明Ti1 -xSixNy 薄膜是由直径为 3—5nm的纳米晶TiN和非晶Si3N4 相构成 ,并且Ti1 -xSixNy 薄膜的表面粗糙度小于相同条件下制备的TiN薄膜 ,在Ti1 -xSixNy 薄膜体系的自由能中引入界面能的概念 ,在此基础上分析了体系中TiN晶粒的取向问题 .
张晨辉雒建斌李文治陈大融
关键词:纳米复合薄膜自由能氮化钛高分辨透射电子显微镜晶粒取向
Structural and mechanical properties of nano-crystal TiN coatings
2004年
The structural and mechanical properties of TiN coatings prepared by ion beam assisted deposition (IBAD) were studied. The coatings have a polycrystal structure with grain size of ~10 nm or less. The hardness of the coatings increases with increasing grain size of TiN crystallites. The coating with grain size of 10.3 nm even has a superhardness of 44.7GPa. The relationship between the hardness and the grain size in the nano-crystalline coatings was discussed on the basis of grain-boundary triple junctions.
ZHANG Chenhui PAN Guoshun LUO Jianbin LI Wenzhi CHEN Darong
关键词:GRAIN-BOUNDARYTRIPLE
硬盘用压电厚膜微致动器的制作及有限元分析被引量:5
2004年
设计、制作并分析了一种用于高密度硬盘磁头精确定位的新型压电厚膜微致动器.采用流延技术制备PMN-PZT多层膜元件,使用丝网印刷工艺制作Ag/Pd内电极,并对其进行了有限元建模和仿真.仿真结果表明,当采用4层结构的压电厚膜微致动器时,在外加电压±30V的条件下,可以实现0.9216μm的悬臂自由端位移和19.638kHz的谐振频率.
荆阳雒建斌张学恒张力
关键词:硬盘驱动器微致动器PMN-PZT压电厚膜
有序薄膜润滑的速度场被引量:3
2004年
基于有序膜分子模型分析薄膜润滑中的速度场分布。薄膜润滑中有序膜分子的取向与向列相液晶分子有类似性,可用“向矢”表示。利用液晶理论可以分析薄膜润滑的速度场和润滑剂分子的取向,为分析薄膜润滑的特性提供依据。薄膜润滑区别于弹流润滑之处在于有序膜分子的弹性。粘弹比可以很好地表征这种差异。给出了不同粘弹比下的“向矢”角度和等效粘度的分布情况以及速度场的分布情况。
张朝辉雒建斌温诗铸
关键词:薄膜润滑液晶速度场
Ti或TiN的添加对MoS_2基复合薄膜耐磨性能的影响被引量:2
2004年
为改进纯MoS2薄膜在大气环境下极易氧化失效且耐磨损性能较差的缺点,采用非平衡纳米复合等离子体镀膜技术合成了MoS2基薄膜,该薄膜由Ti或TiN与MoS2共沉积而成.采用扫描电子显微镜、干钻削和车削实验确定薄膜的结构、成份和机械性能.结果显示,在潮湿和超低温环境下,薄膜具有优异的耐磨寿命和抗氧化性.实验表明,改进后的MoS2基复合薄膜在机加和成型等领域中具有广泛的应用前景.
荆阳雒建斌庞思勤
关键词:耐磨性能
TiN-MoS_2/Ti复合薄膜的摩擦性能被引量:7
2004年
采用纳米复合非平衡等离子体镀膜方法制作了应用于月球车活动关节的新型TiN-MoS2/Ti复合润滑薄膜,通过SEM、XPS等对复合薄膜的微观结构和成分进行了分析,并进行了耐磨和抗潮湿性能试验。研究结果显示,与传统多层膜结构相比,TiN-MoS2/Ti新型复合膜的钻孔数从278个提高到356个;潮湿储存10d后,其耐磨性能与多层膜相比,提高了2.5倍。因此,通过优化制备工艺及加入Ti添加剂等方法可以有效提高月球车活动关节处润滑薄膜的耐磨和抗潮性能。
荆阳雒建斌庞思勤
压电微致动器元件的制作及特性分析被引量:7
2006年
目的是设计和制作一种新型压电微致动器,用于高密度硬盘磁头的精确定位。其中,压电元件由传统的或改进的溶胶一凝胶工艺制备并利用反应离子刻蚀成型,压电层厚度范围为0.6~3μm。采用X-射线衍射和原子力显微镜等对PZT薄膜的物相、表面形貌以及颗粒尺寸等进行分析。结果显示,随着PZT层厚度从0.6~3μm的不断增加,其内部颗粒尺寸也相应增大,粗糙度越低。此外,该微致动器的驱动机理通过多普勒干涉仪进行测量。结果表明,对于封装了3μm厚PZT元件的U型微致动器悬臂装置,在±20V交变电压作用下,微致动位移达到1.146μm,谐振频率超过22kHz。
荆阳雒建斌路新春
关键词:硬盘驱动器溶胶-凝胶法
一种新型微致动元件的制作及特性研究
2005年
介绍了一种用于计算机磁头精确定位的新型压电元件。该元件采用高速流延工艺制备Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-Pb(Zr0.52Ti0.48)O3多层膜,由丝网印刷工艺制作Ag/Pd内电极。为优化元件的制作工艺,对流延过程作了DTA/TGA分析。结果显示,采用110℃、350℃和1090℃的三步烧结工艺可显著提高元件的钙钛化程度,从而提高其压电性能,减少内部缺陷。对元件的XRD分析显示,110℃和350℃时压电薄膜中以钙钛矿相为主,且存在大量的焦绿石相,当烧结温度达到1090℃时,焦绿石相的含量已经很少。SEM分析表明,与最终烧结温度1070℃相比,当烧结温度达到1090℃时元件的显微结构更为致密,内部缺陷更少。封装测试在多普勒干涉仪上进行,结果表明,该致动器具有优异的位移/电压灵敏度、谐振频率等特点。
荆阳雒建斌张力
压电薄膜微致动器的制作和有限元分析被引量:1
2005年
为实现高密度硬盘驱动器磁头的精确定位,设计和制作了一种与不锈钢基体粘结的压电薄膜微致动器。该致动器中的锆钛酸铅多层膜元件采用溶胶凝胶技术制作而成。对该致动器进行了实验测试和有限元分析。结果表明:当采用双层膜结构时,压电微致动器的位移/驱动电压灵敏度和谐振频率分别达到了1.396μm/±20V和15.13kHz;有限元仿真结果与实测结果基本吻合。
荆阳雒建斌易晓星黄朋生
关键词:硬盘驱动器
计算机硬磁盘CMP中抛光工艺参数对去除率的影响被引量:13
2004年
对于计算机硬磁盘的生产,为了最大限度地提高盘片生产量,降低生产成本,要求化学机械抛光(chemieal mechanical polishing,简称CMP)中在保证优质表面质量情况下,实现最大去除量(Material Removal,简称MR)和去除率(Material Removal Rate,简称MRR)。本文讨论了硬盘片的化学机械抛光过程中的外加压力、转速和抛光时间对去除率的影响。实验采用含多种添加剂的纳米二氧化硅(SiO_2)胶体作为研磨液在双面抛光机上对镍磷敷镀铝镁合金基片进行精抛光。结果表明,不降低表面质量,MRR随着压力的增加而增大到一个最大值,随后随着压力继续增加而减小;增加抛光机下盘的转速将使MRR变大到一定值后再下降;增加抛光时间将使MR增大,而MRR变化是非线性的。
马俊杰潘国顺雒建斌雷红肖宏清
关键词:硬磁盘化学机械抛光去除率
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