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博士科研启动基金(20122036)

作品数：1 被引量：0H指数：0
相关作者：张海杰张敏刚柴跃生熊杰陈峰华更多>>
相关机构：太原科技大学更多>>
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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇形貌
  • 1篇形状记忆
  • 1篇形状记忆合金
  • 1篇记忆合金
  • 1篇合金
  • 1篇薄膜形貌
  • 1篇NI-MN-...
  • 1篇MO
  • 1篇表面形貌
  • 1篇磁性能

机构

  • 1篇太原科技大学

作者

  • 1篇陈峰华
  • 1篇熊杰
  • 1篇柴跃生
  • 1篇张敏刚
  • 1篇张海杰

传媒

  • 1篇磁性材料及器...

年份

  • 1篇2013
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
Mo衬底厚度对Ni-Mn-Ga形状记忆合金薄膜形貌及磁性能的影响
2013年
采用射频磁控溅射法制备不同厚度Mo衬底的Ni-Mn-Ga薄膜，采用扫描电子显微镜（FE-SEM）、原子力显微镜（AFM）、磁力显微镜（MFM）、振动样品磁强计（VSM）以及X射线衍射仪（XRD）对其形貌及磁性能进行观测和分析。实验发现，制备的Mo衬底Ni-Mn-Ga薄膜经退火后为T型马氏体结构，且当Mo衬底厚度在0-200nm范围内变化时，其饱和磁化强度及居里温度呈现先减小后增大的趋势。当Mo衬底厚度约为100nnl时饱和磁化强度和居里温度具有最低值。薄膜表面颗粒直径随着Mo厚度的增大而减小，但在Mo厚为100nm时出现增大。
熊杰张敏刚柴跃生陈峰华张海杰
关键词：表面形貌磁性能
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