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河北省自然科学基金(599033)

作品数:9 被引量:38H指数:5
相关作者:刘彩池徐岳生王海云唐蕾郝景臣更多>>
相关机构:河北工业大学信息产业部中华人民共和国信息产业部更多>>
发文基金:河北省自然科学基金国家自然科学基金国防科技技术预先研究基金更多>>
相关领域:电子电信理学机械工程更多>>

文献类型

  • 9篇中文期刊文章

领域

  • 6篇电子电信
  • 2篇理学
  • 1篇机械工程

主题

  • 7篇半绝缘
  • 5篇单晶
  • 5篇砷化镓
  • 5篇半绝缘砷化镓
  • 5篇SI-GAA...
  • 4篇位错
  • 3篇砷化镓单晶
  • 3篇微缺陷
  • 3篇半绝缘砷化镓...
  • 2篇中碳
  • 2篇晶体
  • 1篇单晶生长
  • 1篇电子显微技术
  • 1篇直拉硅
  • 1篇砷化镓晶体
  • 1篇碳含量
  • 1篇体缺陷
  • 1篇能谱
  • 1篇能谱分析
  • 1篇小角度晶界

机构

  • 8篇河北工业大学
  • 1篇中国电子科技...
  • 1篇信息产业部
  • 1篇中华人民共和...

作者

  • 8篇王海云
  • 8篇徐岳生
  • 8篇刘彩池
  • 5篇唐蕾
  • 3篇魏欣
  • 3篇郝景臣
  • 2篇杨新荣
  • 2篇张春玲
  • 1篇任丙彦
  • 1篇李养贤
  • 1篇申玉田
  • 1篇付生辉
  • 1篇刘福贵
  • 1篇牛新环
  • 1篇孙卫忠
  • 1篇张维连
  • 1篇杨庆新

传媒

  • 2篇Journa...
  • 2篇物理学报
  • 2篇稀有金属
  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇中国科学(E...
  • 1篇Scienc...

年份

  • 1篇2006
  • 2篇2005
  • 5篇2004
  • 1篇2003
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
非掺半绝缘砷化镓中的杂质与微缺陷被引量:5
2006年
用化学腐蚀法、金相显微观察、透射电镜(TEM)、电子探针X射线微区分析(EPMA)和扫描电镜能谱分析(EDX)等手段,对φ76mm非掺杂(ND)半绝缘砷化镓(SI-GaAs)单晶中微缺陷、碳的微区分布进行了分析。结果表明:在晶体周边区域,由高密度位错运动和反应形成胞状结构,该胞状结构的本质就是晶体结晶时形成的小角度晶界,且位错与微缺陷有强烈的相互作用;杂质碳在胞壁、近胞壁和完整区的含量依次降低,存在条纹分布。
孙卫忠牛新环王海云刘彩池徐岳生
关键词:SI-GAAS微缺陷位错
半绝缘砷化镓单晶中碳微区分布的研究被引量:4
2005年
通过AB腐蚀 (由Abrahams和Buiocchi发明的腐蚀方法 ,简称AB腐蚀 )、KOH腐蚀 ,经金相显微镜观察、透射电子显微镜能谱分析、电子探针x射线微区分析 ,对液封直拉法生长的非掺半绝缘砷化镓单晶中碳的微区分布进行了分析研究 .实验结果表明 ,碳的微区分布受单晶中高密度位错网络结构的影响 .高密度位错区 ,位错形成较小的胞状结构 ,且胞内不存在孤立位错 ,碳在单个胞内呈U型分布 ;较低密度位错区 ,胞状结构直径较大 ,且胞内存在孤立位错 ,碳在单个胞内呈W型分布 .
徐岳生杨新荣王海云唐蕾刘彩池魏欣覃道志
关键词:半绝缘砷化镓晶体生长
半绝缘砷化镓单晶中的晶体缺陷被引量:10
2003年
通过化学腐蚀、金相显微观察、透射电子显微镜、扫描电镜和 X射线异常透射形貌等技术 ,研究了半绝缘砷化镓单晶中的位错和微缺陷 .实验发现用常规液封直拉法制备出的直径大于或等于 75 mm的半绝缘砷化镓单晶在晶体周边区域 ,一般都有由高密度位错的运动和反应而形成的蜂窝状网络结构 ,并且位错和微缺陷之间 ,有着强烈的相互作用 ,位错吸附微缺陷 ,微缺陷缀饰位错 .
徐岳生张春玲刘彩池唐蕾王海云郝景臣
关键词:SI-GAAS微缺陷位错
半绝缘GaAs衬底中AB微缺陷对MESFET器件性能的影响被引量:1
2005年
研究了LEC法生长SI GaAs衬底上的AB微缺陷对相应的MESFET器件性能 (跨导、饱和漏电流、夹断电压 )的影响 .用AB腐蚀液显示AB微缺陷 (AB EPD :10 3 ~ 10 4cm-2 量级 ) ,用KOH腐蚀液显示位错 (EPD :10 4cm-2 量级 ) ,发现衬底上的AB微缺陷对器件性能及均匀性有显著影响 .随着AB EPD的增大 ,跨导、饱和漏电流变小 ,夹断电压的绝对值也变小 .利用扫描光致发光光谱 (PLmapping)对衬底质量进行了测量 ,结果表明衬底参数好的样品 ,PL参数好 ,相应器件的参数也好 。
徐岳生付生辉刘彩池王海云魏欣郝景臣
关键词:SI-GAAS跨导夹断电压
Growth of Czochralski silicon under magnetic field被引量:1
2004年
Growth of Czochralski (CZ) silicon crystals under the magnetic field induced by a cusp-shaped permanent magnet of NdFeB has been investigated. It is found that the mass transport in silicon melt was controlled by its diffusion while the magnetic intensity at the edge of a crucible was over 0.15 T. In comparison with the growth of conventional CZ silicon without magnetic field, the resistivity homogeneity of the CZ silicon under the magnetic field was improved. Furthermore, the Marangoni convection which has a significant influence on the control of oxygen concentration was observed on the surface of silicon melt. It is suggested that the crystal growth mechanism in magnetic field was similar to that in micro-gravity if a critical value was reached, named the growth of equivalent micro-gravity. The relationship of the equivalent micro-gravity and the magnetic intensity was derived as g=(v0/veff)g0. Finally, the orders of the equivalent micro-gravity corresponding to two crucibles with characteristic sizes were calculated.
XU YueshengLIU CaichiWANG HaiyunZHANG WeilianYANG QingxinLI YangxianREN BinyanLIU Fugui
磁场直拉硅单晶生长被引量:17
2004年
研究了磁场直拉硅单晶生长.采用钕铁硼(NdFeB)永磁磁体,向硅熔体所在空间引入Cusp磁场.当坩埚边缘磁感应强度达到0.15T时,熔硅中杂质输运受扩散控制.熔硅自由表面观察到明显的Marangoni对流;硅单晶纵向、径向电阻率均匀性得到改善;控制Marangoni对流,可灵活控制硅单晶中的氧浓度.把磁场拉晶同硅单晶的等效微重力生长联系起来,推导出了引入磁感应强度和对应等效微重力等级的关系式g=v0/veff·g0,并针对坩埚的两种特征尺寸,进行了直拉硅单晶等效微重力等级的计算.
徐岳生刘彩池王海云张维连杨庆新李养贤任丙彦刘福贵
关键词:磁场单晶生长直拉硅
用x射线形貌研究半绝缘砷化镓单晶胞状结构被引量:5
2004年
通过x射线异常透射形貌 (XRT) ,化学腐蚀显微观察和电子显微技术 (TEM)研究了液封直拉 (LEC)法生长的半绝缘砷化镓 (SI GaAs)单晶中蜂窝状胞状结构 ,从晶体生长和冷却过程的热应力、弹性形变引起位错的运动和反应考虑 ,分析了该结构的形成机理与过程 .认为这是由高密度位错 (EPD)
徐岳生唐蕾王海云刘彩池郝景臣
关键词:小角度晶界电子显微技术砷化镓晶体X射线衍射分析半绝缘砷化镓
半绝缘砷化镓晶片中碳的微区分布
2004年
通过化学腐蚀 (AB腐蚀液 )、金相显微镜观察、透射电镜 (TEM)及能谱分析 (EDX) ,对LEC法生产的半绝缘砷化镓 (SI GaAs)单晶中碳的微区分布进行了分析。其结果表明 :碳的微区分布与晶片中位错密度及分布存在对应关系。高密度位错区位错形成胞状结构 ,该结构的胞壁区碳含量高 ,近胞壁区次之 ,剥光区碳含量低于检测限。
徐岳生杨新荣郭华锋唐蕾刘彩池王海云魏欣
关键词:SI-GAAS位错碳含量能谱分析
半绝缘砷化镓(SI-GaAs)单晶中的微缺陷的研究被引量:8
2004年
砷化镓 (GaAs)为第二代半导体材料 ,GaAs衬底质量直接影响器件性能。利用JEM 2 0 0 2透射电子显微镜 (TEM)及其主要附件X射线能量散射谱仪 (EDXA) ,对半绝缘砷化镓 (SI GaAs)单晶中微缺陷进行了研究。发现SI GaAs单晶中的微缺陷包含有富镓沉淀、富砷沉淀、砷沉淀、GaAs多晶颗粒和小位错回线等。还分析了微缺陷的形成机制。
王海云张春玲唐蕾刘彩池申玉田徐岳生覃道志
关键词:砷化镓SI-GAAS单晶微缺陷
共1页<1>
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