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不同沉积温度下非晶硅光学薄膜的光学特性研究被引量：4: 2014年; 光学薄膜的光学特性是薄膜设计与制备的基础。硅材料是红外光学薄膜中一种重要的高折射率材料。研究了在不同沉积温度下非晶硅光学薄膜的折射率和消光系数的变化。结果表明,在200℃时,硅薄膜折射率最大,消光系数随温度升高而减小。; 罗海瀚蔡清元李耀鹏刘定权; 关键词：非晶硅光学特性沉积温度

不同沉积温度下单纯蒸镀二氧化硅薄膜的光学特性研究被引量：1: 2014年; 二氧化硅（SiO2）是一种重要的光学薄膜材料，通常采用电子束蒸发辅以离子束轰击的方式沉积，但在某些情况下，不能借用氧离子束的轰击。着重研究了不同沉积温度下无离子源辅助制备的二氧化硅薄膜的光学特性。通过直接在线的光学监控方式，获得薄膜生长过程的透射率曲线，并得到薄膜在真空中的折射率。采用真空在线光谱扫描和大气中离线的光谱扫描，结合光度法拟合得到薄膜折射率。结果表明由于基片温度的变化，二氧化硅薄膜的折射率会随着薄膜的厚度而改变，随着沉积温度的升高而变大，折射率值在1.34～1.41之间。; 罗海瀚蔡清元李耀鹏刘定权; 关键词：二氧化硅光学特性沉积温度

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上海市自然科学基金(13ZR1463700)