国家自然科学基金(60376021)
- 作品数：5 被引量：26H指数：3
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- 环已烷受激拉曼散射模式竞争
- 一种拉曼介质有一组拉曼模式。一般而言,由于在不同拉曼模式间的竞争,导致在受激拉曼散射 (Stimulated Raman Scattering-SRS)中仅出现某一最强增益拉曼模的 Stokes 波输出。曾有人在荧光增强...
- 梁慧敏杜惊雷王宏波王治华罗时荣杨经国郑万国魏晓峰朱启华黄晓军王晓东郭仪
- 文献传递
- 用于分数傅里叶域滤波位相元件设计新算法
- 2005年
- 基于部分相干成像和分数傅里叶变换理论,建立成像系统的分数傅里叶域滤波模型,提出了可快速设计分数域位相型滤波片的 FrPI 算法。此算法将逆向设计预设初位相与分数傅里叶迭代技术相结合,针对成像系统中不同的设计要求可快速设计出所需的分数域滤波片结构。模拟结果表明,对数值孔径有限的部分相干成像系统,使用新算法设计的分数域滤波片,可有效补偿由于高频损失带来的图像失真,从而使局部线宽偏差和面积偏差分别由滤波前的 36.548nm 和 39.09%下降到了 15.234nm 和 7.72%,明显减少了空间像畸变。
- 刘建莉高峰杜惊雷罗铂靓段茜
- 关键词：光刻
- 用灰度曝光技术改善数字光刻图形轮廓被引量：3
- 2006年
- 基于空间光调制器(SLM)数字光刻技术可用于IC掩模制作或直接作为微结构的加工工具,但用数字投影光刻系统加工某些结构的二元图形时,往往难以获得预期的图形轮廓,即图形边缘处有一定畸变,特别是较低缩小倍率时。本文提出优化设计图形边缘灰度的方法来校正光刻图形的畸变。文中分析了数字光刻制作这些二元光刻图形时空间像畸变产生的物理机制,详细讨论了设计图形边缘灰度优化的规则,并以加工圆孔滤波器为例,模拟了它的数字光刻成像过程。结果表明,设计图形的边缘采用灰度曝光可使其空间像畸变减小约8个百分点,光场分布更为均匀。数字灰度曝光技术简单易行,可为改善光刻图形质量提供了新途径。
- 郭小伟杜惊雷陈铭勇马延琴杜春雷
- 关键词：图形发生器数字微镜
- 消除数字光刻像素栅格衍射影响的研究被引量：11
- 2007年
- 提出用优化成像系统设计参量的方法有效消除基于数字微镜阵列的栅格结构及其衍射对微结构成像质量的影响．模拟结果表明，当照明光源的波长为0．365μm，系统的数值孔径为0．3左右，缩小倍率为10-20×时，栅格像的可见度在0．1以下，DMD的栅格结构对成像质量的影响大幅降低；对微透镜的成像分析发现，合理的成像系统结构参量能有效地减少栅格的影响．如果结合DMD显示图形的可编程特点，优化图形的结构或灰度，则能在像面获得较理想的曝光量分布，达到快速加工二维和三维微结构的目的．实验结果证实了优化系统参量可有效消除DMD栅格的影响．
- 郭小伟杜惊雷陈铭勇杜春雷
- 关键词：数字光刻成像质量
- 用DMD灰度曝光法产生连续面形微结构被引量：4
- 2006年
- 利用空间光调制器光强的精确调制作用,把数字微反射镜阵列(DMD)作为灰度图形发生器,经一次曝光及优化显影等后处理过程,可制作出具有连续面形的微光学元件。用上述方法在实验上获得了微透镜阵列,并有较好的连续面形,符合预期效果。研究表明,该方法不仅可快速地实现连续面形微结构的加工,而且大大简化了制作工艺,有助于降低微光学元件的加工成本,适合于微结构的研究性制作或小批量生产,有广泛应用潜力。
- 陈铭勇郭小伟马延琴杜惊雷
- 关键词：无掩模光刻微透镜阵列
- 基于数字微反射镜灰度光刻的成像模型被引量：14
- 2006年
- 在深入探讨DMD(DigitalMirrorDevice)灰度图形传递的特点基础上,把曝光量分布作为分析数字光刻成像的物理量,建立了数字灰度光刻的成像模型.以制作微米量级微透镜为例,通过模拟分析,讨论了数字光刻过程中DMD的工作方式、成像系统参量对抗蚀剂曝光量分布的影响,揭示了数字灰度光刻成像机理,为开展数字光刻实验研究提供了理论根据.
- 郭小伟杜惊雷罗铂靓郭永康杜春雷
- 关键词：DMD成像模型曝光量
