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国防科技技术预先研究基金(51308040103)

作品数:9 被引量:22H指数:3
相关作者:刘红侠栾苏珍贾仁需周清军吴笑峰更多>>
相关机构:西安电子科技大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国防科技技术预先研究基金西安应用材料创新基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 9篇中文期刊文章

领域

  • 8篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 3篇SOI_MO...
  • 2篇异质栅
  • 2篇全耗尽
  • 2篇解析模型
  • 2篇二维解析模型
  • 2篇SOI
  • 2篇SRAM
  • 2篇成品率
  • 1篇低功耗
  • 1篇动态应力
  • 1篇亚阈值
  • 1篇亚阈值电流
  • 1篇氧化层
  • 1篇应力
  • 1篇运放
  • 1篇噪声
  • 1篇栅氧化
  • 1篇栅氧化层
  • 1篇设计技术
  • 1篇锁存

机构

  • 9篇西安电子科技...

作者

  • 9篇刘红侠
  • 5篇栾苏珍
  • 4篇周清军
  • 4篇贾仁需
  • 3篇王瑾
  • 3篇吴笑峰
  • 2篇匡潜玮
  • 2篇蔡乃琼
  • 2篇胡仕刚
  • 1篇石立春
  • 1篇王江安
  • 1篇陈炽

传媒

  • 3篇Journa...
  • 2篇物理学报
  • 1篇湖南大学学报...
  • 1篇计算机辅助设...
  • 1篇固体电子学研...
  • 1篇微电子学

年份

  • 8篇2008
  • 1篇2007
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
用于流水线ADC的预运放-锁存比较器的分析与设计被引量:2
2008年
提出了一种应用于开关电容流水线模数转换器的CMOS预运放-锁存比较器.该比较器采用UMC混合/射频0.18μm 1P6M P衬底双阱CMOS工艺设计,工作电压为1.8 V.该比较器的灵敏度为0.215 mV,最大失调电压为12 mV,差分输入动态范围为1.8 V,分辨率为8位,在40 M的工作频率下,功耗仅为24.4μW.基于0.18μm工艺的仿真结果验证了比较器设计的有效性.
吴笑峰刘红侠石立春周清军胡仕刚匡潜玮
关键词:流水线ADC
纳米尺度全耗尽SOI MOSFET阈值电压的修正模型
2007年
针对纳米器件中出现的量子化效应,考虑了薄层全耗尽SOI MOSFET沟道反型层电子的量子化,研究了反型层量子化效应对阈值电压的影响。结果表明,沟道反型层的量子化效应导致阈值电压增大,推导并给出了纳米尺度全耗尽SOI MOSFET的阈值电压修正模型。
王瑾刘红侠栾苏珍
关键词:SOI量子效应阈值电压反型层
嵌入式SRAM的优化修复方法及应用被引量:4
2008年
为了提高SRAM的成品率并降低其功耗,提出一种优化的SRAM.通过增加的冗余逻辑及电熔丝盒来代替SRAM中的错误单元,以提高其成品率;通过引入电源开启或关闭状态及隔离逻辑降低其功耗.利用二项分布计算最佳冗余逻辑,引入成品率边界因子判定冗余逻辑的经济性.将优化的SRAM64K×32应用到SoC中,并对SRAM64K×32的测试方法进行了讨论.该SoC经90 nm CMOS工艺成功流片,芯片面积为5.6 mm×5.6 mm,功耗为1997 mW.测试结果表明:优化的SRAM64K×32在每个晶圆上的成品率提高了9.267%,功耗降低了17.301%.
周清军刘红侠吴笑峰王江安胡仕刚
关键词:低功耗
动态应力下超薄栅氧化层经时击穿的可靠性评价被引量:4
2008年
实验发现动态电压应力条件下,由于栅氧化层很薄,高电平应力时间内隧穿入氧化层的电子与陷落在氧化层中的空穴复合产生中性电子陷阱,中性电子陷阱辅助电子隧穿.由于每个周期的高电平时间较短(远远低于电荷的复合时间),隧穿到氧化层的电子很少,同时低电平应力时间内一部分电荷退陷,形成的中性电子陷阱更少.随着应力时间的累积,中性电子陷阱达到某个临界值,栅氧化层突然击穿.高电平时形成的陷阱较少和低电平时一部分电荷退陷,使得器件的寿命提高.
栾苏珍刘红侠贾仁需
关键词:超薄栅氧化层经时击穿
高k介质异质栅全耗尽SOI MOSFET二维解析模型被引量:7
2008年
为了研究高介电常数(高k)栅介质材料异质栅中绝缘衬底上的硅和金属-氧化物-硅场效应晶体管的短沟道效应,为新结构器件建立了全耗尽条件下表面势和阈值电压的二维解析模型.模型中考虑了各种主要因素的影响,包括不同介电常数材料的影响,栅金属长度及其功函数变化的影响,不同漏电压对短沟道效应的影响.结果表明,沟道表面势中引入了阶梯分布,因此源端电场较强;同时漏电压引起的电势变化可以被屏蔽,抑制短沟道效应.栅介电常数增大,也可以较好的抑制短沟道效应.解析模型与数值模拟软件ISE所得结果高度吻合.
栾苏珍刘红侠贾仁需蔡乃琼
关键词:异质栅解析模型
SRAM的高成品率优化设计技术被引量:1
2008年
提出了一种嵌入式SRAM的高成品率优化方法:通过增加冗余逻辑和电熔丝盒来代替SRAM中的错误单元。利用二项分布计算最大概率缺陷字数,从而求出最佳冗余逻辑。将优化的SR SRAM64 K×32应用到SoC中,并对SR SRAM64K×32的测试方法进行了讨论。该SoC经90 nm CMOS工艺成功流片,芯片面积为5.6 mm×5.6 mm,功耗为1997 mW。测试结果表明:优化的SR SRAM64 K×32在每个晶圆上的成品数增加了191个,其成品率提高了13.255%。
周清军刘红侠吴笑峰陈炽
关键词:成品率
Optimization and Application of SRAM in 90nm CMOS Technology
2008年
This paper presents an optimized SRAM that is repairable and dissipates less power. To improve the yield of SRAMs per wafer,redundancy logic and an E-FUSE box are added to the SRAM and an SR SRAM is set up. In order to reduce power dissipation,power on/off states and isolation logic are introduced into the SR SRAM and an LPSR SRAM is constructed. The optimized LPSR SRAM64K × 32 is used in SoC and the testing method of the LPSR SRAM64K × 32 is also discussed. The SoC design is successfully implemented in the Chartered 90nm CMOS process. The SoC chip occupies 5. 6mm× 5. 6ram of die area and the power dissipation is 1997mW. The test results indicate that LPSR SRAM64K ×32 obtains 17. 301% power savings and the yield of the LPSR SRAM64K × 32s per wafer is improved by 13. 255%.
周清军刘红侠
关键词:OPTIMIZATION
异质栅非对称Halo SOI MOSFET亚阈值电流模型被引量:2
2008年
在沟道源端一侧引入高掺杂Halo结构的异质栅SOI MOSFET,可以有效降低亚阈值电流.通过求解二维泊松方程,为该器件建立了亚阈值条件下的表面势模型.利用常规漂移-扩散理论,在表面势模型的基础上,推导出新结构器件的亚阈值电流模型.为了求解简单,文中给出了一种分段近似方法,从而得到表面势的解析表达式.结果表明,所得到的表面势解析表达式和确切解的结果高度吻合.二维器件数值模拟器ISE验证了通过表面势解析表达式得到的亚阈值电流模型,在亚阈值区二者所得结果吻合得很好.
栾苏珍刘红侠贾仁需王瑾
关键词:异质栅SOI亚阈值电流二维解析模型
An Analytical Model of Drain Current for Ultra-Thin Body and Double-Gate Schottky Source/Drain MOSFETs Accounting for Quantum Effects被引量:2
2008年
A compact drain current including the variation of barrier heights and carrier quantization in ultrathin-body and double-gate Schottky barrier MOSFETs (UTBDG SBFETs) is developed. In this model, Schrodinger's equation is solved using the triangular potential well approximation. The carrier density thus obtained is included in the space charge density to obtain quantum carrier confinement effects in the modeling of thin-body devices. Due to the quantum effects, the first subband is higher than the conduction band edge, which is equivalent to the band gap widening. Thus, the barrier heights at the source and drain increase and the carrier concentration decreases as the drain current decreases. The drawback of the existing models,which cannot present an accurate prediction of the drain current because they mainly consider the effects of Schottky barrier lowering (SBL) due to image forces,is eliminated. Our research results suggest that for small nonnegative Schottky barrier (SB) heights,even for zero barrier height, the tunneling current also plays a role in the total on-state currents. Verification of the present model was carried out by the device numerical simulator-Silvaco and showed good agreement.
栾苏珍刘红侠贾仁需蔡乃琼王瑾匡潜玮
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