公共文化服务平台

共 6 条记录，以下是 1-9

全选清除导出

排序方式：

DBD-CVD法制备掺氮二氧化钛薄膜及其结构性能被引量：1: 2012年; 采用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)法制备TiO2透明自清洁功能薄膜,选用四异丙醇钛(TTIP)、NH3作为反应先驱体,另外再加入一定量的N2、Ar或者He作为稀释气体控制气体的流量和流速。通过对其进行X射线衍射、紫外-可见光谱、X光电子能谱、场发射扫描电镜、光催化性质、光亲水性质等测试表明,过DBD-CVD方法制备TiO2薄膜,只存在锐钛矿相,氮掺杂改变了薄膜中锐钛矿相晶粒生长的取向,从而影响薄膜的表面微观结构,促使光吸收限红移,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能。; 高倩李喆李铭刘涌宋晨路韩高荣; 关键词：TIO2薄膜光催化性亲水性

具有非陡峭膜层界面的SnO2:F节能镀膜玻璃色饱和度的数值模拟研究: SnO:F薄膜作为具有低辐射功能的表面涂层材料,广泛应用于节能镀膜玻璃。本文针对具有非陡峭膜层界面的SnO:F低辐射节能镀膜玻璃,提出五层膜结构的光学模型,通过数值模拟的方法研究了玻璃表面色饱和度的表现,并与不考虑界面条...; 程波王慷慨刘起英刘军波宋晨路韩高荣刘涌; 关键词：LOW-E 色饱和度; 文献传递

基于火焰空间与玻璃液热耦合的玻璃熔窑数值模拟被引量：6: 2012年; 采用数值模拟方法,对火焰空间和玻璃池窑之间的热耦合模拟可行性进行研究,以玻璃液表面中轴线温度偏差作为比较标准,判断热耦合过程是否收敛。研究结果表明:在六至七次循环迭代后计算结果可收敛,而且热耦合模拟的收敛速度与给定的初始条件有关。建立燃天然气富氧助燃玻璃熔窑模型,与火焰空间、玻璃池窑单独模拟相比,热耦合模拟的结果能够更准确地反映喷枪燃料分布等条件对玻璃液流动情况及温度分布的影响,更为细致全面地模拟出玻璃液表面热传输的不均匀性。; 吕树欣刘涌宋晨路汪建勋韩高荣; 关键词：玻璃液

TiO_2\FTO镀膜玻璃色饱和度的数值模拟: 2012年; 本文以具有较高折射率的材料——二氧化钛(TiO2)替代自身折射率较低的材料——SiCOx作为氟掺杂氧化锡(FTO)镀膜玻璃中间层薄膜,通过数值模拟计算的方法主要研究了TiO2\FTO镀膜玻璃的表面色饱和度控制表现,并与传统的SiCOx\FTO镀膜玻璃就色饱和度控制表现进行了对比,结果发现TiO2\FTO镀膜玻璃具有更加优异的表面色饱和度控制表现,适合进行实际应用推广。; 朱岳江刘涌宋晨路韩高荣; 关键词：色饱和度 TIO2 折射率

退火处理对SnO2：F薄膜光电性能的影响被引量：4: 2012年; SnO2∶F薄膜作为low-e玻璃的表面功能层材料,广泛应用于节能镀膜玻璃。Low-e玻璃在后期退火(深加工)后,其性能的变化已经引起了学术研究和实际应用方面的的关注。我们对于用化学气相沉积法在玻璃表面沉积的约250nm厚的SnO2∶F薄膜进行不同的退火处理。并通过一系列的研究,结果发现,薄膜的结构、组成、电学、光学性能在氮气和空气两种不同的退火气氛下会有显著的变化。SnO2∶F薄膜的Low-e性能经过空气中高温退火后下降明显。通过计算对比退火后SnO2∶F薄膜的晶格常数和晶胞尺寸,提出了一种对于薄膜Low-e性能下降的合理解释。; 李铭高倩刘涌宋晨路韩高荣; 关键词：LOW-E 退火常压化学气相沉积

表层氮化硅掺氧对单银高透Low-E性能的改善被引量：2: 2013年; 低辐射玻璃要求具有低的辐射率和高的可见光透射比。目前较为常见的单银高透Low-E产品具有优良的采光和隔热性能,但是膜层机械性能普遍较差,对于玻璃深加工厂的加工设备要求高。通过对单银高透Low-E表面覆层Si3N4薄膜进行特定比例的掺氧处理,形成Si3Nx Oy层,改变了膜层表面的特性,增强了其加工的机械性和稳定性,显著提升了单银高透Low-E产品的可加工性。表层改性对于提升单银高透Low-E产品性能,推进其在节能建筑领域的广泛应用具有重要意义。; 贾绍辉张淮凌孙徐兴刘涌韩高荣; 关键词：氮化硅

在线Low—E玻璃的理论与实践被引量：1: 2015年; 采用常压化学气相沉积法（APCVD）在浮法玻璃生产线上直接制备低辐射镀膜玻璃（在线Low—E）具有产量大、成本低、膜层硬度大、耐久性强等优点。但由于镀膜是在移动的玻璃板上进行的，镀膜工艺必须与浮法工艺相匹配，使得各项工艺参数的操作和优化难度很大。除了优良的光电性能和大面积均匀性的要求之外，还要有较高的膜层生长速率和反应气体利用率，为此，需要对镀膜过程的热力学和动力学有深入的了解。本文对反应气体的气相化学和表面化学进行了综述，对膜层生长速率和反应气体利用率的影响因素进行了讨论，对水和氧的作用进行了分析，已有的研究结果表明，反应器的结构、与玻璃板的距离、气体的流速、MBTC含量、反应气体的温度等因素都对薄膜的生长速率和利用率有影响。H2O与MBTC的分解产物一起形成了活性更高的气相中间产物，或者在表面形成了羟基基圆，促进了MBTC的表面反应。而O2的作用则是消除表面的碳，使得表面保持活性以利于薄膜的沉积。; 刘起英汪建勋韩高荣赵洪力; 关键词：化学气相沉积法低辐射镀膜玻璃 E玻璃浮法玻璃生产线反应气体生长速率

在线low-E玻璃的理论与实践: 常压化学气相沉积法(APCVD)在浮法玻璃生产线上直接制备低辐射镀膜玻璃(在线LOW-E)具有产量大、成本低、膜层硬度大、耐久性强等优点.但由于镀膜是在移动的玻璃板上进行的,镀膜工艺必须与浮法玻璃生产线相匹配,使得各项工...; 刘起英汪建勋韩高荣赵洪力; 关键词：低辐射镀膜玻璃反应气体利用率生长速率

薄膜厚度对柱状晶形貌TiO2:F/SnO2:F镀膜玻璃的亲水性,低辐射以及透过性能的影响: 采用溶胶-凝胶旋涂法,在SnO:F(FTO)镀膜玻璃衬底上成功地制备了掺氟浓度为4%的不同厚度的柱状晶TiO:F/FTO复合薄膜。研究了TiO:F膜厚对TiO:F/FTO镀膜玻璃样品的结晶性能,亲水性能、低辐射性能以及透...; 王菊苏婷杨振辉刘涌韩高荣宋晨路; 关键词：薄膜厚度亲水性; 文献传递

全选清除导出

共1页<1>

国家科技支撑计划(2011BAE14B02)