您的位置: 专家智库 > >

国家自然科学基金(50442025)

作品数:5 被引量:32H指数:3
相关作者:姚奎鸿王勇汪新颜祝洪良金达莱更多>>
相关机构:浙江理工大学浙江大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金浙江省教育厅科研计划博士科研启动基金更多>>
相关领域:一般工业技术化学工程电子电信理学更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 3篇氮化硅
  • 2篇氮化
  • 2篇流态床
  • 2篇CVD
  • 2篇CVD法
  • 1篇氮化硅薄膜
  • 1篇氧化锡
  • 1篇水热
  • 1篇水热合成
  • 1篇气相沉积
  • 1篇热合成
  • 1篇热力学
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇硅薄膜
  • 1篇硅烷
  • 1篇二氧化锡
  • 1篇法制
  • 1篇半导体
  • 1篇RF-PEC...

机构

  • 5篇浙江理工大学
  • 1篇浙江大学

作者

  • 4篇姚奎鸿
  • 4篇王勇
  • 3篇汪新颜
  • 2篇祝洪良
  • 2篇金达莱
  • 1篇周俊
  • 1篇杜平凡
  • 1篇沃银花
  • 1篇马照军
  • 1篇席珍强
  • 1篇王耐艳
  • 1篇杨红
  • 1篇于桂霞

传媒

  • 2篇浙江理工大学...
  • 1篇浙江大学学报...
  • 1篇无机材料学报
  • 1篇功能材料

年份

  • 2篇2008
  • 1篇2007
  • 2篇2006
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
二氧化锡(SnO_2)纳米颗粒的水热合成及表征被引量:16
2006年
采用柠檬酸钠辅助水热技术合成单分散的二氧化锡(SnO2)纳米颗粒,用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电镜(FESEM)、紫外/可见光谱等手段对其结构、形态和光吸收性能进行了表征,XRD和FESEM结果表明该产物是正方结构的SnO2纳米颗粒,直径约为60 nm,并用吸收光谱估计了禁带宽度(约3.6 eV)。
于桂霞祝洪良姚奎鸿
关键词:二氧化锡水热半导体
流态床CVD法纳米氮化硅粉体的制备被引量:11
2006年
采用硅烷和氨气在立式双温区流态床中化学气相沉积,制备了形状规则的球状无定形氮化硅纳米粉体,并利用X射线衍射(XRD)、透射电镜(TEM)和傅立叶红外(FTIR)研究了该纳米粉体的形貌、成分和物相.讨论了该流态床法制备纳米氮化硅的关键因素,并得到流态床中制备氮化硅纳米粉体的优化工艺参数.
王勇沃银花姚奎鸿祝洪良王耐艳
关键词:流态床
热CVD法制备纳米硅粉及其表征被引量:4
2008年
采用简单的热CVD反应法成功制备了纳米硅粉、X射线衍射和透射电镜结果表明:该产物是无定形的球形纳米粉体,粒径为20~100nm.粉体粒径随分解温度敏感,温度升高粒径减小,但高于700℃时急剧增加.傅立叶红外分析表明,粉体存在Si~H键,且H含量随分解温度升高而降低.进一步研究表明,该无定形纳米硅粉经700℃退火处理可转变为晶体硅.
杨红金达莱马照军王勇汪新颜姚奎鸿
流态床CVD法制氮化硅超微粉过程分析及实验验证被引量:1
2007年
分析了硅烷氨解法制备氮化硅超微粉的化学气相沉积(CVD)过程,讨论了制备氮化硅超微粉体的3个关键工艺要素,并采用立式双温区流态床实验装置实现氮化硅超微粉体的制备,获得粉体合成过程的一些关键控制参数。
王勇周俊汪新颜姚奎鸿
关键词:流态床CVD氮化硅硅烷热力学
RF-PECVD法在钢衬底上沉积氮化硅薄膜的研究被引量:1
2008年
采用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)在钢衬底上沉积氮化硅薄膜。用台阶仪、X射线光电子能谱(XPS)、透射电镜(TEM)和扫描电镜(SEM)等手段对薄膜的厚度、成分、结构及形貌进行表征,并探讨了各工艺参数对薄膜沉积速率的影响。
杜平凡席珍强汪新颜金达莱王勇
关键词:氮化硅薄膜RF-PECVD沉积速率
共1页<1>
聚类工具0