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国家科技重大专项(2009ZX02305-003)

作品数:1 被引量:0H指数:0
相关作者:许鹏吴东平朱伦胡成杨颖琳更多>>
相关机构:复旦大学更多>>
发文基金:国家科技重大专项更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇氧化物半导体
  • 1篇异质栅
  • 1篇载流子
  • 1篇势垒
  • 1篇热载流子
  • 1篇热载流子效应
  • 1篇金属氧化物半...
  • 1篇金属氧化物半...
  • 1篇晶体管
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体场效应...
  • 1篇表面电场
  • 1篇表面势
  • 1篇场效应
  • 1篇场效应晶体管

机构

  • 1篇复旦大学

作者

  • 1篇张卫
  • 1篇朱志炜
  • 1篇杨颖琳
  • 1篇胡成
  • 1篇朱伦
  • 1篇吴东平
  • 1篇许鹏

传媒

  • 1篇半导体技术

年份

  • 1篇2012
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
22nm技术节点异质栅MOSFET的特性研究
2012年
研究了22 nm栅长的异质栅MOSFET的特性,利用工艺与器件仿真软件Silvaco,模拟了异质栅MOSFET的阈值电压、亚阈值特性、沟道表面电场及表面势等特性,并与传统的同质栅MOSFET进行比较。分析结果表明,由于异质栅MOSFET的栅极由两种不同功函数的材料组成,因而在两种材料界面附近的表面沟道中增加了一个电场峰值,相应地漏端电场比同质栅MOSFET有所降低,所以在提高沟道载流子输运效率的同时也降低了小尺寸器件的热载流子效应。此外,由于该器件靠近源极的区域对于漏压的变化具有屏蔽作用,从而有效抑制了小尺寸器件的沟道长度调制效应,但是由于其亚阈值特性与同质栅MOSFET相比较差,导致漏致势垒降低效应(DIBL)没有明显改善。
杨颖琳胡成朱伦许鹏朱志炜张卫吴东平
关键词:异质栅金属氧化物半导体场效应晶体管热载流子效应表面电场表面势
共1页<1>
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