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河南省基础与前沿技术研究计划项目(112300410264)

作品数:4 被引量:5H指数:2
相关作者:麻华丽曾凡光王淦平向飞霍海波更多>>
相关机构:中国工程物理研究院郑州航空工业管理学院西安交通大学更多>>
发文基金:中国航空科学基金国家自然科学基金河南省基础与前沿技术研究计划项目更多>>
相关领域:一般工业技术理学电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 2篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 5篇碳纳米管
  • 5篇纳米
  • 5篇纳米管
  • 3篇稳定性
  • 3篇化学镀
  • 2篇镀铜
  • 2篇碳纳米管薄膜
  • 2篇强流脉冲
  • 2篇化学镀铜
  • 2篇基底
  • 2篇
  • 1篇阵列
  • 1篇铜基
  • 1篇块体
  • 1篇缓冲层
  • 1篇硅基
  • 1篇硅基底
  • 1篇NI

机构

  • 5篇郑州航空工业...
  • 5篇中国工程物理...
  • 1篇西安交通大学

作者

  • 5篇曾凡光
  • 5篇麻华丽
  • 3篇向飞
  • 3篇王淦平
  • 2篇霍海波
  • 2篇张新月
  • 1篇刘卫华
  • 1篇乔淑珍
  • 1篇张锐
  • 1篇夏连胜
  • 1篇李昕

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇功能材料
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇固体电子学研...
  • 1篇中国电子学会...

年份

  • 4篇2013
  • 1篇2012
4 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
块体铜与镀铜硅基底碳纳米管强流脉冲发射发射能力的比较
采用酞菁铁高温热解方法分别在块体铜基底和化学镀铜硅基底上生长了碳纳米管薄膜(Cu-CNTs和Si/Cu-CNTs),并在20GW脉冲功率源系统中采用二极结构对其强流脉冲发射特性进行了研究。研究结果表明:在相同峰值为15....
曾凡光麻华丽霍海波乔淑珍王淦平向飞
关键词:碳纳米管化学镀铜
文献传递
微立方结构基底上生长碳纳米管薄膜的强流脉冲发射特性被引量:2
2013年
采用酞氰铁高温热解方法在具有微立方结构的化学镀镍硅基底上生长了碳纳米管薄膜(Si/Ni-CNTs),并在20GW脉冲功率源系统中采用二极结构对其强流脉冲发射特性进行了研究。研究结果表明,在单脉冲发射条件下,随脉冲电场峰值的增大,Si/Ni-CNTs薄膜的发射电流峰值呈线性增加,当宏观场强达到31.4 V/μm时,发射脉冲电流的峰值可达到14.74kA,对应的发射电流密度1.23kA/cm2,在相同峰值,连续多脉冲情况下,碳纳米管薄膜具有良好的发射可重复性,且发射性能稳定。
麻华丽张新月霍海波曾凡光王淦平向飞
关键词:碳纳米管稳定性
缓冲层对碳纳米管强流脉冲发射特性的影响
2012年
为了研究缓冲层对碳纳米管薄膜(CNTs)强流脉冲发射特性的影响,采用酞菁铁高温热解方法分别在镀镍和不镀镍硅基底上生长了碳纳米管薄膜(Ni-CNTs和Si-CNTs),镍层采用化学镀方法制备,强流脉冲发射特性采用二极结构在单脉冲下进行测试。实验发现,通过引入镍缓冲层,CNTs的强流脉冲发射能力显著增强。在峰值为~10.4 V/μm的脉冲场强下,平均开启电场强度从Si-CNTs的5.0V/μm下降到Ni-CNTs的4.3V/μm,而峰值发射电流和电流密度从Si-CNTs的70A和3.5 A/cm2升高到Ni-CNTs的162 A和8.1 A/cm2,Ni-CNTs的峰值电流比Si-CNTs提高了1.3倍。
麻华丽李昕刘卫华乔淑珍张锐曾凡光夏连胜
关键词:化学镀碳纳米管
化学镀铜Si基底上碳纳米管薄膜强流脉冲发射稳定性研究
2013年
为了研究碳纳米管薄膜在强流连续多脉冲下的发射特性,采用酞菁铁高温热解方法在化学镀铜硅基底上生长了碳纳米管薄膜(Si/Cu-CNTs),作为强流脉冲发射阵列。在20GW脉冲功率源系统中采用二极结构对Si/Cu-CNTs薄膜进行连续多脉冲高电流发射测试,结果表明:连续多脉冲情况下,峰值电场达到29.1V/μm,发射电流密度为0.892kA/cm2时,Si/Cu-CNTs薄膜仍具有良好的发射可重复性,连续发射的每个电流波形基本一致,发射稳定性好。
麻华丽张新月曾凡光王淦平向飞
关键词:碳纳米管化学镀铜稳定性
铜基碳纳米管薄膜的制备及其强流脉冲发射特性研究被引量:3
2013年
为了研究碳纳米管薄膜的强流脉冲发射特性,采用酞菁铁高温热解方法在机械抛光铜基底上直接生长了碳纳米管薄膜(Cu-CNTs),Cu-CNTs生长方向各异.在20GW脉冲功率源系统中采用二极结构对Cu-CNTs的强流脉冲发射特性进行研究,研究结果表明:在单脉冲发射条件下,随脉冲电场峰值的增大,Cu-CNTs薄膜的发射电流峰值呈线性增加,当宏观场强为15.5V/μm时,发射脉冲电流的峰值可达到5.56kA,对应的发射电流密度0.283kA/cm2,当宏观场强达到32.0V/μm时,发射脉冲电流的峰值可达到18.19kA,对应的发射电流密度0.927kA/cm2,发射电流能力明显优于已有报道.在相同峰值,连续多脉冲情况下,碳纳米管薄膜具有良好的发射可重复性,且发射性能稳定.
麻华丽霍海波曾凡光向飞王淦平
关键词:碳纳米管稳定性
共1页<1>
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