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广西制造系统与先进制造技术重点实验室基金(07109008-025K)

作品数:2 被引量:9H指数:2
相关作者:段玉岗王权岱卢秉恒向家伟李涤尘更多>>
相关机构:桂林电子科技大学西安交通大学更多>>
发文基金:陕西省自然科学基金广西制造系统与先进制造技术重点实验室基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 1篇压印
  • 1篇压印光刻
  • 1篇湿法刻蚀
  • 1篇数值模拟
  • 1篇刻蚀
  • 1篇控制方法
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻胶
  • 1篇MEMS
  • 1篇尺寸
  • 1篇尺寸控制
  • 1篇值模拟

机构

  • 2篇桂林电子科技...
  • 2篇西安交通大学

作者

  • 2篇卢秉恒
  • 2篇王权岱
  • 2篇段玉岗
  • 1篇杨连发
  • 1篇李涤尘
  • 1篇向家伟

传媒

  • 1篇机械工程学报
  • 1篇纳米技术与精...

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2009
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
压印光刻工艺中光刻胶填充流变模拟与试验研究被引量:7
2010年
压印光刻工艺中,为了实现高质量的压印复型,必须能够理解和预测压印载荷作用下光刻胶的流变填充行为。根据实际采用的光刻胶的特性,建立了基于粘性流体的光刻胶流变填充有限元模型,采用体积率法对光刻胶流场的运动边界进行追踪,研究模板特征几何尺寸、胶层厚度及及尺度效应对压印填充过程的影响及其作用机理。结果表明,光刻胶流变填充以单峰或双峰两种模式进行,模式的转变点可由特征凹槽宽度和初始胶厚度的比值来预测,并受表界面效应的影响;最有利于填充的特征深宽比约为0.8;最佳初始胶层厚度约为特征深度的2倍。进行了相应的压印试验,试验结果与模拟计算的结论吻合,说明仿真结果可信,可以作为压印光刻工艺中模板图形几何特征、胶厚以及模板表面处理的工艺设计依据。
王权岱段玉岗卢秉恒李涤尘向家伟
关键词:压印光刻数值模拟
MEMS压印模板制作的刻蚀机理及尺寸控制方法被引量:2
2009年
为了提高基于湿法刻蚀压印模板制作工艺中刻蚀图形尺寸的控制精度,研究了玻璃湿法刻蚀的反应动力学过程,得到刻蚀剂中(HF)2为决定反应速率的主要活性成分的结论;结合实验建立了合理的刻蚀速率模型.采用不同氢氟酸浓度的刻蚀液进行了实验,实测刻蚀速率与理论计算数值的对比结果表明模型预测精度达到96%以上.基于该模型刻蚀深度确定刻蚀时间进行了压印模板制作的实验,制作了图形特征尺寸为15μm、刻蚀深度为8μm的压印模板.对模板图形的测量结果表明,通过该模型预测的尺寸误差仅为0.05μm.
王权岱段玉岗卢秉恒杨连发
关键词:湿法刻蚀尺寸控制
共1页<1>
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