国家科技重大专项(2009ZX04012-23)
- 作品数：9 被引量：14H指数：3
- 相关作者：赵广彬谭刚廖凤娟罗磊蒙志林更多>>
- 相关机构：西华大学更多>>
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- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术电气工程更多>>
- 特种硬质薄膜的抗氧化性研究
- 2011年
- 采用热阴极离子镀膜技术制备了CrNx薄膜。用XRD和XPS对氧化后试样的相结构和成分进行了研究,分析了高温氧化后薄膜的物相、成分变化对薄膜抗氧化性能的影响。结果表明在700℃薄膜中形成了完整的Cr2O3氧化膜,此时薄膜抗氧化性能较佳。
- 孙爱祥赵广彬张馨元蒙志林栾道成
- 关键词：CRNX薄膜抗氧化性XRDXPS
- 中频非平衡磁控溅射TiAlN薄膜的结构与性能
- 2017年
- 采用中频非平衡磁控溅射离子镀设备在YG10硬质合金表面制备(Ti_(1-x)Al_x)N薄膜,运用X线衍射仪、扫描电子显微镜、显微硬度计和材料表面性能测试仪等对薄膜进行表征,分析氮气分压、直流偏压和Al含量对薄膜的力学性能、薄膜成分和组织结构的影响。结果表明:薄膜呈柱状多晶组织,主要组成相为(Ti,Al)N相;随着氮气分压增大,膜层中氮原子增多,而铝、钛原子含量减少,膜层中rAl/(Al+Ti)与r(Al+Ti)/N均下降,薄膜(111)晶面取向减弱,(220)和(200)晶面取向增强。力学性能测试表明,随着膜层中的Al含量和直流偏压升高,薄膜硬度、膜厚和膜-基结合力均呈现先升高后降低的趋势,薄膜显微硬度最高2 915 HV,膜-基结合力最高达73 N。
- 安小建赵广彬程玺儒左龙左伟峰
- 关键词：磁控溅射力学性能
- 脉冲叠加直流偏压电弧离子镀TiCrN_x薄膜的制备与性能研究
- 2013年
- 采用脉冲叠加直流偏压电弧离子镀技术在硬质合金刀具表面制备TiCrNx薄膜,利用XRD,SEM,多功能材料表面性能测试仪等对TiCrNx薄膜进行表征。结果表明,TiCrNx与TiN薄膜相比,硬度有所下降。膜-基结合力与靶材阴极弧电流及偏压有关。
- 葛高峰赵广彬蒙志林谭刚肖鹏
- 关键词：PVD
- 中频磁控溅射TiAlN薄膜的制备与性能研究
- 2014年
- 采用中频非平衡磁控溅射离子镀技术在硬质合金基体YG6上制备TiAlN薄膜。利用XRD、EDS、体式显微镜、显微硬度仪和多功能材料表面性能测试仪等对其组织结构以及性能进行了研究分析。结果表明:低Al靶功率时,膜层以TiN、TiC形式存在,TiN的择优取向面(111),显微硬度与偏压有关;高Al靶功率时,膜层主要存在Ti3AlN、AlN相,Ti3AlN相沿(220)晶面择优取向;膜层结构致密均匀,N原子与金属原子比接近1:1;膜层厚度为1.93μm;显微硬度3145HV;结合力85N。
- 谭刚赵广彬廖凤娟罗磊安小建何迪
- 关键词：TIALN薄膜非平衡磁控溅射
- 硬质合金表面热阴极离子镀TiN涂层抗氧化性研究被引量：2
- 2010年
- 利用热阴极离子镀技术在牌号为ZK1的硬质合金表面镀制TiN硬质涂层,并在300℃至700℃空气环境下进行抗氧化实验。运用XRD和XPS对涂层进行微观结构和成分的分析,并用SEM进行涂层断口的观察,最后采用显微硬度计和自动划痕仪分別对涂层的显微硬度和膜基结合力进行了检测。实验结果表明,涂层厚度约为5μm,涂层成分以TiN为主,平均显微硬度达2388HV,结合力最大达85N。随着氧化温度的升高,在涂层表面先后形成了TiNxOy、TiO2,涂层的显微硬度和膜基结合力都呈下降趋势并在550℃处剧烈下降。
- 张勇赵广彬周磊张馨元孙爱祥
- 关键词：TIN抗氧化XRDXPS
- 硬质CrN_x薄膜的高温氧化研究被引量：1
- 2010年
- 利用热阴极离子镀膜技术在硬质合金上制备CrNx薄膜。在400℃-800℃区间选取7个温度对试样进行氧化处理后,通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、自动划痕仪、精密电子天平进行成分、结构及性能分析,研究其氧化过程和性能。结果表明:在700℃以下,CrNx薄膜具有良好的抗高温氧化性。
- 周磊赵广彬孙爱祥张馨元
- 关键词：抗高温氧化性
- 硬质合金高温化学气相沉积TiC涂层工艺研究被引量：4
- 2015年
- 采用高温化学气相沉积在YG8基体上制备Ti C涂层,研究沉积温度、沉积时间、H2流量、H2/CH4(流量比)以及Ti Cl4流量对镀层的抗弯曲强度、膜基结合力及表面显微硬度的影响,并通过正交试验优化工艺参数。结果表明:当沉积温度为1 000℃,沉积时间为90 min,H2流量为400 ml,H2/CH4(流量比)为15∶1,Ti Cl4流量为80 m L时,镀层具有优良的性能,抗弯曲强度达到1 100 N,表面显微硬度达到3 228 HV,膜基结合力达到90 N。
- 张丽珍赵广彬罗磊安小建陈梽雄
- 关键词：碳化钛化学气相沉积硬质合金
- 铝靶电流对TiAlN薄膜组织结构与性能的影响被引量：3
- 2014年
- 采用非平衡磁控溅射离子镀技术在YG6硬质合金表面沉积Ti Al N薄膜,研究Al靶的溅射电流对TixAl1-xN薄膜组织结构与性能的影响。利用X线衍射仪、扫描电子显微镜和显微硬度仪等分析仪器对制备的TixAl1-xN薄膜的相结构、表面形貌和显微硬度进行测试分析。测试结果表明:膜层中存在Ti3Al N、Al N相,且Ti3Al N沿(220)晶面择优取向。SEM测试表明,随Al靶功率的提高,膜层晶粒结构变得更致密。显微硬度仪测得薄膜平均硬度最高可达2 980 HV。
- 廖凤娟赵广彬谭刚罗磊张丽珍何迪李欣健
- 关键词：TIAL非平衡磁控溅射
- 多弧离子镀TiN/TiCrN/CrN多元多层复合膜的制备及性能研究被引量：5
- 2013年
- 采用XH-800多弧离子镀设备在硬质合金刀具表面制备TiN/TiCrN/CrN多元多层复合膜。利用XRD、SEM、显微硬度计、多功能材料表面性能测试仪等对其组织结构与性能进行了研究。结果表明:膜层表面均匀,未出现龟裂现象,色泽光亮度好;膜的相结构组成为TiN和Cr2N,随着Cr靶电流的增大,TiN的择优取向由(200)向(111)转变,膜层出现单质Cr;膜层厚度为5.02μm,具有明显多层特征;显微硬度2536 HV;结合力65 N。
- 蒙志林赵广彬葛高峰谭刚廖凤娟
- 关键词：多弧离子镀TINCRN
