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博士科研启动基金(035036)

作品数：1 被引量：1H指数：1
相关作者：汪洪波陈长琦王旭迪朱武方应翠更多>>
相关机构：合肥工业大学更多>>
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相关领域：一般工业技术更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇电子谱
  • 1篇溅射
  • 1篇光电
  • 1篇光电子
  • 1篇反应磁控溅射
  • 1篇SIO
  • 1篇SIOX
  • 1篇X射线
  • 1篇X射线光电子...
  • 1篇不可行性研究
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇X

机构

  • 1篇合肥工业大学

作者

  • 1篇朱仁胜
  • 1篇夏锡全
  • 1篇方应翠
  • 1篇朱武
  • 1篇王旭迪
  • 1篇陈长琦
  • 1篇汪洪波

传媒

  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2009
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
反应磁控溅射沉积SiO_x薄膜制备镶嵌在二氧化硅介质中纳米晶硅不可行性研究被引量：1
2009年
用射频磁控溅射法在纯氩气或氩气/氧气混合气体中溅射纯硅靶制备SiOx(x<2)薄膜。X射线光电子谱(XPS)分析证实,射频功率对x值起决定作用。当射频功率低时,所制备的薄膜是化学计量比的SiO2,通过调节氧气分压调节x值非常困难。只有当射频功率较高时,才可以通过调节氧分压调节x值。实验结果证实了射频反应磁控溅射不宜用于制备镶嵌在二氧化硅介质中纳米晶硅(nc-Si/SiO2)的前驱体SiOx膜。文中讨论了相关机制。
方应翠朱仁胜夏锡全汪洪波王旭迪朱武陈长琦
关键词：反应磁控溅射X射线光电子谱SIOX
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