您的位置: 专家智库 > >

留学人员科技活动项目择优资助经费(2011x10)

作品数:2 被引量:9H指数:2
相关作者:李刚李朋伟桑胜波张文栋胡杰更多>>
相关机构:太原理工大学更多>>
发文基金:留学人员科技活动项目择优资助经费国家自然科学基金中国博士后科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 1篇三甲基
  • 1篇三甲基氯硅烷
  • 1篇氯硅烷
  • 1篇面粗糙度
  • 1篇接触角
  • 1篇静态接触角
  • 1篇聚二甲基
  • 1篇聚二甲基硅氧...
  • 1篇甲基
  • 1篇甲基氯
  • 1篇硅烷化
  • 1篇二甲基
  • 1篇二甲基硅氧烷
  • 1篇表面粗糙度
  • 1篇测试分析
  • 1篇衬底
  • 1篇粗糙度

机构

  • 2篇太原理工大学

作者

  • 2篇胡杰
  • 2篇张文栋
  • 2篇桑胜波
  • 2篇李朋伟
  • 2篇李刚
  • 1篇马文哲
  • 1篇石强

传媒

  • 1篇现代化工
  • 1篇红外与激光工...

年份

  • 2篇2013
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
聚二甲基硅氧烷薄膜的衬底硅烷化及测试分析被引量:5
2013年
聚二甲基硅氧烷(PDMS)微薄膜可作为高灵敏生物传感器的敏感单元。为了实现敏感单元的制备,往往需要进行揭膜。采用对衬底硅烷化的方法,研究了PDMS微薄膜的揭膜工艺。通过测试其旋涂衬底:玻璃片、Si片的表面静态接触角,实验证明三甲基氯硅烷(TMCS)可改善衬底疏水特性,在硅烷化10 min后,PDMS微米级薄膜可从衬底完整揭下。同时,研究表明浓硫酸和过氧化氢混合液可增强玻璃片亲水性并促进硅烷化,以及在氢氟酸处理Si片时,Si片疏水性随浸泡时间先增强后减弱。
马文哲桑胜波胡杰张文栋李朋伟李刚
关键词:聚二甲基硅氧烷衬底静态接触角三甲基氯硅烷硅烷化
纳米光波导光滑技术研究进展被引量:4
2013年
随着半导体工业的发展,集成光电器件的特征尺寸越来越小,纳米光波导表面光滑技术将面临新的挑战。降低纳米光波导表面粗糙度,制造超低损耗纳米光波导,实现其高效片间光互连与片内光耦合,是集成光电子器件,特别是高灵敏微陀螺、生化传感器、光通讯等器件发展的关键。主要分析了光波导表面粗糙度与传播损耗的关系,着重阐述纳米光波导表面光滑工艺方法,包括热氧化法、氢退火法及激光束法的研究现状及最新进展,总结了各类工艺的技术难点与发展前景,并展望其在微机电、光集成方面应用前景。
石强桑胜波张文栋李朋伟胡杰李刚
关键词:表面粗糙度
共1页<1>
聚类工具0