教育部“春晖计划”(Z2006-1-62002)
- 作品数：13 被引量：149H指数：8
- 相关作者：马颖郝远陈体军吕维玲马跃洲更多>>
- 相关机构：兰州理工大学甘肃联合大学更多>>
- 发文基金：教育部“春晖计划”国家重点基础研究发展计划国际科技合作与交流专项项目更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术轻工技术与工程冶金工程更多>>
- 氧化时间对AZ91D镁合金微弧氧化膜微观组织和性能的影响被引量：37
- 2009年
- 采用恒定小电流密度工艺于硅酸盐体系中在AZ91D镁合金表面制备微弧氧化膜。采用数字式涂层测厚仪、扫描电子镜、表面粗糙度测量仪和涂层附着力划痕试验机等研究其微观结构,利用电化学工作站和球-块往复式摩擦试验机进行耐蚀性和耐磨性的评定。结果表明:随着氧化时间的延长,阳极电压趋于稳定;氧化膜层的厚度和粗糙随之增大;氧化膜层的结合力、孔隙率则先增大后减小,都在60 min时出现最大值;膜层表面熔融物颗粒尺寸增大,大孔洞的数目随之增多,且分布变得不均匀;氧化时间为40 min时制备的膜层耐蚀能力最强并具有良好的耐磨性。
- 吕维玲马颖陈体军徐卫军杨健郝远
- 关键词：AZ91D镁合金微弧氧化耐蚀性耐磨性
- 微弧氧化脉冲电源主电路及其保护电路设计被引量：1
- 2010年
- 为了制造新型微弧氧化脉冲电源,根据对微弧氧化负载特性的研究,设计了一种微弧氧化脉冲电源的主电路及其保护电路,并对主电路进行调试。主电路以三相整流与斩波相结合,重点介绍整流器和斩波器的选择;保护电路的设计主要使用均流电抗器且并联多个IGBT;通过对主电路进行上电调试并分析所得波形,结果表明:该电源主电路设计合理,保护电路设计完善,实现了过电压、过电流和对主电路的保护。说明该电源主电路及保护电路设计完全满足微弧氧化工艺要求,为微弧氧化技术的发展奠定了良好的基础。
- 陈明马跃洲马颖郝远
- 关键词：微弧氧化三相整流斩波器二极管均流电抗器
- NaVO_3对AZ91D镁合金微弧氧化膜的影响被引量：4
- 2010年
- 对AZ91D镁合金进行了微弧氧化处理,获得了棕黄色的陶瓷氧化膜层,并研究了不同质量溶度的NaVO3对微弧氧化膜颜色、结构和性能的影响。结果表明,微弧氧化膜层的生长速率随着NaVO3质量溶度的增加逐渐增大,耐蚀性呈先增大后减小的趋势,同时膜层颜色也逐渐变深,但是过量NaVO3的加入不利于反应成膜。EPMA分析表明膜层主要含有Mg、Al、V、O和少量P元素,但含P物相在XRD分析中并没有被检测到,应归因于膜层中P元素含量较少和生成的膜层较薄,使得含P物相在膜层中的沉积量较少。
- 吴召刚马颖马跃洲潘振峰郝远
- 关键词：镁合金微弧氧化
- 电参数对AZ91D镁合金微弧氧化膜层微观结构及耐蚀性的影响被引量：46
- 2010年
- 研究硅酸盐体系中电压、频率和占空比等电参数对AZ91D镁合金微弧氧化膜层的厚度、表面形貌、相组成及耐蚀性的影响,并对膜层的表面孔隙率及表面孔径进行定量分析。结果表明:电压对膜层微观结构及耐蚀性能的影响起主导作用,频率的影响次之,占空比的影响较小;随电压升高,膜层厚度、表面孔隙率及耐蚀性均增大;频率与占空比对膜层厚度的影响不大,但对表面孔隙率和耐蚀性有一定的影响;频率为800Hz、占空比为15%时,膜层耐蚀性较好,此时所得膜层的表面孔隙率较小,分别约为8%和10%,膜层表面上孔径在1～3μm的微孔比例都大于60%;膜层表面孔径和孔隙率的定量评价与膜层形貌分析相结合可为膜层耐蚀性的分析提供有力依据。
- 马颖詹华马跃洲吕维玲冯君艳高唯
- 关键词：镁合金微弧氧化电参数孔径耐蚀性
- 等离子体电解沉积表面技术及其发展被引量：3
- 2008年
- 等离子体电解沉积是一门新兴的材料表面处理技术。详尽介绍了该技术的工艺机理及其影响因素。用该技术可在有色金属及其合金表面制备陶瓷层,对黑色金属及其合金表面进行快速渗碳、渗氮、碳氮共渗等,从而提高材料的耐磨耐腐蚀等性能。从发展的角度分析了该技术在表面处理行业中的应用优势和市场前景。
- 张荣马颖郝远
- 关键词：表面改性
- 加压时间间隔对AZ91D镁合金微弧氧化膜的影响被引量：2
- 2009年
- 研究硅酸盐体系中加压时间间隔对AZ91D镁合金微弧氧化膜层的影响.利用TT230数字式涂层测厚仪、JSM—6700F扫描电子显微镜、2206型表面粗糙度测量仪(E34—001)和W—92涂层附着力划痕试验机研究了其微观结构,利用CHI660C电化学工作站和UMT—2MT型球-块往复式摩擦试验机进行耐蚀性和耐磨性的评定.结果表明,微弧氧化膜层的厚度、粗糙度和结合力随着加压时间间隔的增大而增大;孔隙率呈先增大后减小的趋势,在加压时间间隔为150s时出现了最大值;与基体相比,微弧氧化膜层的耐蚀性和耐磨性均提高,当加压时间间隔150s时耐蚀能力最佳,当加压时间间隔60s时耐磨性最强.
- 吕维玲马颖陈体军陈明杨建郝远
- 关键词：镁合金微弧氧化微观结构耐蚀性
- 镁合金微弧氧化着色膜的制备工艺及其性能被引量：11
- 2008年
- 用微弧氧化方法在AZ91D镁合金基体上获得不同颜色氧化膜陶瓷层,研究了电解液浓度、电流密度、处理时间对氧化膜的影响。结果表明:试样在加入以KMnO4为着色盐的硅酸盐体系电解液中,发现溶液浓度对颜色的改变影响最大,而相同溶液浓度的试样随反应时间或者电流密度的改变,颜色的变化趋势比较平稳。通过比较,发现在低浓度着色盐溶液、低电流密度条件下处理的膜层表面质量最好。
- 陈同环马颖马跃洲陈体军李元东
- 关键词：镁合金微弧氧化着色
- 固溶处理对AZ91D镁合金微弧氧化的影响被引量：10
- 2009年
- 研究AZ91D镁合金的固溶处理对其微弧氧化成膜的影响。结果表明:固溶态基体由于成分分布均匀而能够迅速成膜并长大,且在相同的微弧化处理时间内其膜层厚度始终大于铸态基体上的膜层厚度,提高幅度约为40%;随反应时间的延长,膜层厚度逐渐增加,微弧氧化膜表面的喷射空洞和喷射沉积物呈现粗大化趋势,膜层表面粗糙度也随之增大;在微弧氧化反应初期,固溶态基体上膜层粗糙度较小;反应约100s后,固溶态基体膜层的粗糙度逐渐超过铸态基体膜层的粗糙度;当微弧氧化膜厚度相同时,固溶态基体上膜层的粗糙度始终小于铸态基体膜层的;微弧氧化膜上存在微裂纹,铸态基体膜层上的裂纹深而长,呈连续分布且随处可见;固溶态基体膜层上裂纹浅而短,呈单个分布且数量较少;固溶处理带来的基体成分的均匀化能降低微弧氧化生成同厚度膜层的能耗。
- 马颖王永欣张洪峰高唯郝远
- 关键词：AZ91D镁合金微弧氧化膜
- 镁合金微弧氧化膜耐蚀性表征方法的对比研究被引量：24
- 2010年
- 制备结构、性能相近的AZ91D镁合金微弧氧化膜,通过浸泡、点滴及电化学实验表征膜层的耐蚀性,并结合SEM分析膜层腐蚀前后的表面形貌。本研究中6种耐蚀性检测方法的结果均表明:AZ91D镁合金经微弧氧化处理后耐蚀性显著提高;失重与增重现象的共存使浸泡实验不能准确评定微弧氧化膜层耐蚀性的优劣;点滴实验可以较快较准确地反映膜层的耐蚀性,但采纳点滴液开始变色的时间点为评价依据更合适,且测试耐蚀性较好的膜层时,点滴液中硝酸的含量提高到标准中的至少两倍时,才能达到快速检测的目的;循环伏安、Tafel极化、开路电位和电化学阻抗谱4种电化学实验能反映诸如腐蚀电位、腐蚀电流密度、阻抗值等更多的信息,可以进一步研究膜层的耐蚀原因。膜层的耐蚀性除了与膜厚、化学成分有关外,还与微观结构膜层内部和表面的密切相关。
- 马颖冯君艳马跃洲詹华高唯
- 关键词：镁合金微弧氧化耐蚀性电化学实验
- 加压幅度对AZ91D镁合金微弧氧化膜的影响被引量：8
- 2009年
- 研究了硅酸盐体系中加压幅度对AZ91D镁合金微弧氧化膜层结构及耐磨、耐蚀性能的影响。结果表明:随着加压幅度的增大,微弧氧化膜层的厚度、孔隙度和结合力都呈先增大后减小的趋势,且都在加压幅度为20V时出现了最大值;粗糙度随着加压幅度的增大而增大。当加压幅度不小于25V时微弧氧化膜层耐蚀能力强。
- 吕维玲马颖陈体军徐卫军杨健郝远
- 关键词：AZ91D镁合金微弧氧化微观结构耐蚀性
