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国家自然科学基金(20673030)

作品数:1 被引量:0H指数:0
相关作者:王晶孙树清更多>>
相关机构:国家纳米科学中心清华大学更多>>
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相关领域:一般工业技术更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇修饰
  • 1篇正六边形
  • 1篇体硅
  • 1篇烯丙基
  • 1篇六边形
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米晶
  • 1篇纳米晶体
  • 1篇晶体
  • 1篇晶体硅
  • 1篇硅纳米晶
  • 1篇硅纳米晶体
  • 1篇表面修饰
  • 1篇丙基

机构

  • 1篇清华大学
  • 1篇国家纳米科学...

作者

  • 1篇孙树清
  • 1篇王晶

传媒

  • 1篇中国科学:物...

年份

  • 1篇2011
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
室温常压溶液法合成烯丙基功能化的正六边形硅纳米晶体
2011年
室温常压下,以氢化铝锂为还原剂在溶液中还原烯丙基三氯硅烷和四氯化硅体系,制备了烯丙基功能基团修饰的正六边形硅单晶.采用透射电子显微镜(Transmission Electron Microscopy,TEM)和傅里叶变换红外光谱(Fourier Transform Infrared,FTIR)对产物进行表征.研究了硅晶体的尺寸分布、晶面取向及表面组成,推测了可能的反应机理.结果表明,三氯硅烷与四氯化硅浓度比为1:3时经过还原可生成尺寸为20~50nm,表面有烯丙基基团的(111)晶向的单晶硅.
王晶孙树清
关键词:纳米晶体晶体硅表面修饰
共1页<1>
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