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国家自然科学基金(20903093)
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石建英
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冯兆池
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石建英
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多孔硅紫外发光性质的研究
2010年
采用水热刻蚀技术制备多孔硅粉末。紫外激光244 nm激发时,多孔硅呈现出310 nm的强紫外发光。随着研磨时间的延长,多孔硅结构消失,紫外发光带也随之消失。氧气热处理后,多孔硅表面被氧化生成氧化硅薄层,同样造成紫外发光带的消失。我们认为310 nm紫外发光来源于硅纳米结构中电子和空穴的直接禁带结构辐射复合。
王秀丽
冯兆池
石建英
李灿
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多孔硅
光致发光
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