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国家重点基础研究发展计划(2003CB716204)

作品数:75 被引量:213H指数:9
相关作者:王利光郁鼎文李艳秋李勇韩福柱更多>>
相关机构:清华大学江南大学中国科学院更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划教育部国际合作项目江苏省自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信金属学及工艺机械工程更多>>

文献类型

  • 75篇期刊文章
  • 8篇会议论文

领域

  • 26篇理学
  • 21篇金属学及工艺
  • 17篇电子电信
  • 12篇机械工程
  • 8篇自动化与计算...
  • 5篇一般工业技术
  • 2篇文化科学

主题

  • 20篇电火花
  • 12篇分子
  • 11篇纳米
  • 10篇电火花加工
  • 10篇微细
  • 10篇微细电火花
  • 10篇光刻
  • 9篇电火花线
  • 9篇电火花线切割
  • 9篇微细电火花加...
  • 9篇线切割
  • 8篇密度泛函
  • 8篇泛函
  • 7篇电火花线切割...
  • 7篇线切割加工
  • 7篇光谱
  • 7篇仿真
  • 6篇电子传输
  • 5篇单壁
  • 5篇单壁碳纳米管

机构

  • 48篇清华大学
  • 31篇江南大学
  • 17篇中国科学院
  • 10篇北京邮电大学
  • 10篇南洋理工大学
  • 8篇黑龙江八一农...
  • 6篇北京理工大学
  • 4篇早稻田大学
  • 3篇东京大学
  • 3篇沈阳工业大学
  • 3篇东京农工大学
  • 2篇中国科学院研...
  • 1篇南京大学
  • 1篇台州职业技术...
  • 1篇苏州三光科技...
  • 1篇中国科学院大...

作者

  • 31篇王利光
  • 19篇郁鼎文
  • 16篇李艳秋
  • 14篇韩福柱
  • 11篇李勇
  • 8篇张秀梅
  • 8篇周晓光
  • 8篇霍新霞
  • 8篇王畅
  • 6篇杨国哲
  • 5篇田凌
  • 4篇塚田捷
  • 4篇郝文涛
  • 4篇朱煜
  • 4篇郭良
  • 4篇王立平
  • 4篇李勇
  • 3篇田上胜规
  • 3篇周远
  • 3篇马莹

传媒

  • 10篇黑龙江大学自...
  • 8篇电加工与模具
  • 7篇微细加工技术
  • 5篇原子与分子物...
  • 5篇微纳电子技术
  • 4篇中国机械工程
  • 4篇光学学报
  • 4篇人工晶体学报
  • 3篇物理学报
  • 3篇清华大学学报...
  • 3篇机床与液压
  • 2篇机械工程师
  • 2篇工程图学学报
  • 2篇2005年中...
  • 1篇红外与激光工...
  • 1篇机械工程学报
  • 1篇福州大学学报...
  • 1篇计算机应用研...
  • 1篇机械设计与制...
  • 1篇计算机辅助设...

年份

  • 2篇2012
  • 3篇2011
  • 4篇2010
  • 10篇2009
  • 20篇2008
  • 11篇2007
  • 21篇2006
  • 12篇2005
75 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
C_(48)异构分子稳定性的密度泛函方法理论研究被引量:2
2008年
以富勒烯C48分子、花生壳状2C24聚合体、及C48非富勒烯分子为研究对象,采用密度泛函理论的B3LYP方法,在6-31G*水平上,计算了三种C48异构富勒烯分子的几何构型,电子结构,分子能量和偶极矩。根据计算结果,分析并比较了三种异构体分子的化学稳定性和物理化学特性。研究结果表明三种C48分子异构体的稳定顺序为:C48非富勒烯分子、C48富勒烯分子、花生壳状2C24聚合体。
霍新霞王利光郁鼎文李勇
关键词:密度泛函理论B3LYP方法稳定性
并六苯环石墨烯带的密度泛函研究
2010年
以并六苯环石墨烯带为研究对象,采用密度泛函理论的B3LYP方法,及6-31+G(d)基组,对该模型进行了分子轨道分析和频率计算。通过轨道分析得出了分子轨道能隙和轨道密度;经过频率计算得出模型的红外和拉曼光谱并说明了振动光谱中出现强峰的原因;最后与加氢并六苯环比较,对并六苯环石墨烯带的稳定性进行了讨论。
王利琴霍新霞TERENCE K S W王利光
关键词:密度泛函分子轨道振动光谱
分辨力增强技术的频谱分析被引量:4
2007年
离轴照明和衰减型相移掩模作为重要的分辨力增强技术,不仅可以提高光刻的分辨力,同时还可以改善成像焦深,扩大光刻工艺窗口,实现65-32 nm分辨成像。从频谱的角度分析了离轴照明和衰减型相移掩模对成像系统交叉传递函数和像场空间频率分布的影响,研究这两种技术的物理光学本质,由此进一步优化光学成像系统设计、分辨力增强技术和确定设备使用的参量。对分辨力增强技术的频谱分析研究表明,分辨力增强技术通过调整像场频谱分布,改善了光学光刻的图形质量。对于65 nm密集图形,离轴照明和相移掩模结合后可以使成像衬比度最高达到0.948,工艺窗口在5%曝光范围内焦深达到0.51μm。
孙知渊李艳秋
关键词:成像系统光学光刻频谱分析
超声波电机在三维微细电火花加工中的应用被引量:4
2009年
论述了三维微细电火花加工系统的发展前景,搭建了一台微细电火花加工系统的原型样机。在该系统中,使用超声波电机做驱动装置,为微细电火花加工构造了可实现纳米级微量进给的运动平台,并进行了初步的平台定位精度检测。实验结果证明系统运行良好,运动平台能够达到很高的定位精度。课题在设计实用的精密微量进给机构的电机选择上,探索了新的方法。
杨国哲韩博林海波
关键词:超声波电机微细电火花加工
以组织行为学为指导 推动物理实验教学改革被引量:1
2012年
为进一步推进高校物理实验教学的发展,运用组织行为学的相关理论,对高校物理实验教学中存在的问题进行了分析,提出了一系列实验教学改革的措施,探讨了如何培养学生的实验与科研兴趣,提高实验绩效,培养学生成为新时代需要的应用型人才。
张秀梅朱云王利光杨龙
关键词:物理实验改革组织行为学应用型人才
加工精度自生成及其在端齿盘对研加工中的应用被引量:4
2006年
结合端齿盘对研加工,阐述了不需要精度源而基于误差信息差自去除能力的精度自生成方法。在一定条件下,它是获得高加工精度的有效方法。给出了端齿盘对研加工系统的组成,列举了影响端齿盘分度精度的因素,说明了端齿盘的对研精化过程。给出了精度自生成的必要条件:对象在精度维上的结构均匀性;加工系统误差自去除能力和基于这种能力的加工精度自组织机制;系统内独立、并行、同向、异性的传信通道组分数N≥2;系统总组分数M≥3等。着重阐述了端齿盘对研加工系统的误差自去除原理及其分度精度自组织机制。建立了端齿盘对研加工过程中分度精度自生成的模型,仿真结果符合工业加工实际。
张伯鹏周凯
关键词:端齿盘自组织信息差
基于DSP的恒张力走丝系统设计被引量:9
2006年
低速走丝电火花线切割机走丝系统是否能稳定运行,直接影响着加工精度和加工表面质量。为了提高走丝系统的性能,设计了一种新型的恒张力走丝系统。设计方案采用DSPTMS320LF2407A作为整个走丝系统的控制器,用直流伺服电机控制电极丝的张力,用角度传感器测量电极丝张力的变化。实验结果表明,新型走丝系统实现了电极丝的恒张力控制。在电极丝的张力约为68 g时,该系统的稳态误差不超过4%。
韩福柱贺艳朵程刚周晓光包志书
关键词:走丝系统DSP恒张力控制
N原子掺杂对富勒烯C_(20)分子电子结构与传输特性的影响被引量:3
2009年
构建了Au原子面为电极的富勒烯C20分子及C20分子内掺杂N原子后的分子的电子输运模型,使用非平衡格林函数方法(NEGF)对构建的分子器件进行了电子结构和输运性质的计算。得出了电子结构和电子传输谱,分析了产生这个分子器件电子输运性质的原因。结果显示N原子的掺入有利于提高C20分子的电子传输功能。
霍新霞王畅张秀梅王利光TERENCE K S W
关键词:电子传输电子结构
最小碳纳米管的光谱与能隙的密度泛函研究被引量:2
2007年
讨论了平面四苯环卷曲成最小的锯齿型碳纳米管模型的几何结构和性质。使用密度泛涵方法完成了D4h群对称性下最小的锯齿型碳纳米管的几何结构优化,并得出了最小的锯齿型碳纳米管分子轨道以及基振光谱。计算结果说明最小的锯齿型碳纳米管分子轨道具有明显的离域特性,对应于α和β的HOMO与LUMO之间能隙差分别仅为1 eV和1.4 eV,证明该模型为一个稳定的碳纳米管结构。这一能隙也说明平面四苯环卷曲成最小的锯齿型碳纳米管具有半导体的传导特性。
陈蕾王利光李勇郁鼎文塚田捷
关键词:能级振动光谱
C20富勒烯分子及C20^±富勒烯离子特性分析与比较
2011年
以C1对称C20富勒烯分子为模型,在Gussion03上做了结构优化、频率计算以及自然键轨道理论(NBO)计算,并在同样的方法和基组下分别对C20分子得失一个电子的情况做了计算,并进行了分析和比较。结果表明:C1对称C20富勒烯分子不稳定,易于得失电子而以离子形式存在。C20,C2+0,C2-0三者的能量关系为:EC20>EC2+0>EC2-0,C20更容易得到电子,成为C2-0。三种分子的能隙关系为:ΔEC20>ΔEC2+0>ΔEC2-0,说明C20分子带电后电子性质更活泼。
张秀梅王利光
关键词:能隙杂化
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