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国家自然科学基金(60578051)

作品数:25 被引量:150H指数:7
相关作者:王向朝杨坤步扬刘英明郑德锋更多>>
相关机构:中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院研究生院上海恒益光学精密机械有限公司更多>>
发文基金:国家自然科学基金上海市科委国际合作基金上海市青年科技启明星计划更多>>
相关领域:电子电信机械工程理学自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 25篇期刊文章
  • 9篇会议论文

领域

  • 19篇电子电信
  • 15篇机械工程
  • 3篇理学
  • 2篇自动化与计算...

主题

  • 8篇相位调制
  • 7篇光刻
  • 7篇光刻机
  • 6篇正弦相位调制
  • 4篇物镜
  • 4篇激光
  • 4篇工件台
  • 3篇投影物镜
  • 3篇INTERF...
  • 3篇INTERF...
  • 2篇单色
  • 2篇优化设计
  • 2篇平行平板
  • 2篇椭偏仪
  • 2篇相干
  • 2篇相干性
  • 2篇像质
  • 2篇激光技术
  • 2篇角位移
  • 2篇光技术

机构

  • 29篇中国科学院上...
  • 8篇中国科学院大...
  • 3篇中国科学院研...
  • 2篇上海恒益光学...

作者

  • 21篇王向朝
  • 5篇杨坤
  • 4篇王华
  • 4篇郑德锋
  • 4篇刘英明
  • 4篇李中梁
  • 4篇步扬
  • 4篇何国田
  • 4篇何乐
  • 3篇马明英
  • 3篇曾爱军
  • 3篇王帆
  • 3篇唐锋
  • 2篇施伟杰
  • 1篇步鹏
  • 1篇王少卿
  • 1篇袁琼雁

传媒

  • 13篇中国激光
  • 8篇第十一届全国...
  • 5篇Chines...
  • 4篇光学学报
  • 2篇激光与光电子...
  • 1篇物理学报

年份

  • 1篇2010
  • 2篇2009
  • 3篇2008
  • 17篇2007
  • 11篇2006
25 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
频谱泄漏对正弦相位调制干涉测量精度的影响
2007年
在正弦相位调制(SPM)干涉仪中,若调制频率或者采样频率发生变化将使干涉信号出现频谱泄漏,减小了谐波分量的幅值,在测量结果中引入了误差。对频谱泄漏的产生及其对测量精度的影响进行了理论分析,获得了频谱泄漏引入测量误差的计算方法。实验测得频率漂移量在-0.3~0.3Hz内,得到的频谱泄漏引入的误差为0.3~7.9nm,当超出这个范围时,频谱泄漏误差将迅速增长。实验结果与模拟分析结果一致。
何国田王向朝曾爱军
关键词:频谱泄漏离散傅里叶变换
一种新型纳弧度分辨率角位移干涉测量仪
微角位移检测在机械系统的装调、位置校准以及精密控制中都有着广泛的应用。本文提出一种新型的平行平板角位移干涉测量技术。该技术基于等倾干涉原理,采用平行平板将被测物体的角位移测量转化为干涉信号相位差的测量。选取半导体激光器作...
郑德锋王向朝
文献传递
Sinusoidal phase-modulating laser diode interferometer for real-time surface profile measurement被引量:2
2007年
A sinusoidal phase-modulating (SPM) laser diode (LD) interferometer for real-time surface profile measurement is proposed and its principle is analyzed. The phase signal of the surface profile is detected from the sinusoidal phase-modulating interference signal using a real-time phase detection circuit. For 60 × 60 measurement points of the surface profile, the measuring time is 10 ms. A root mean square (RMS) measurement repeatability of 3.93 nm is realized, and the measurement resolution reaches 0.19 nm.
何国田王向朝曾爱军唐锋
关键词:INTERFEROMETERS
物体表面形貌的正弦相位调制实时干涉测量技术研究被引量:7
2007年
表面形貌干涉测量技术是一种高精度的非接触式测量技术,在工业生产和科学研究中具有广泛的应用。提出一种实时测量表面形貌的正弦相位调制干涉测量新技术。该技术用激光二极管作光源,用自制的高速图像传感器探测干涉信号,通过信号处理电路实时解相得到被测表面所对应的相位分布,实时分析相位获得物体表面形貌。该技术消除了光强和部分外界干扰的影响,提高了系统的测量精度。楔形光学平板表面形貌的测量结果表明,测量点为60×60个的情况下,测量时间小于8.2 ms,重复测量精度(RMS)为4.3 nm。
何国田王向朝曾爱军
关键词:光学测量表面形貌激光二极管图像传感器
正弦相位调制位移干涉测量技术中调制频率的优化选择被引量:3
2006年
针对正弦相位调制(SPM)干涉测量技术用于位移测量时,调制频率对干涉信号相位解调的影响,提出一种调制频率的优化选择依据.通过对干涉信号的频谱进行分析,发现当被测位移幅度较小时,较小的调制频率即可满足相位解调的要求;而当被测位移较大时,必须相应地增大调制频率,才能获得比较准确的测量结果.模拟计算以及实验结果表明,被测位移信号的幅度每增大四分之一测量光源波长,调制频率需要相应增大4倍于被测信号频率的大小,才能满足正弦相位调制位移干涉测量技术信号处理的需要.
刘英明王向朝
关键词:正弦相位调制调制频率频谱分析
一种新的光刻机投影物镜垂轴像质参数原位检测技术
步进式扫描投影光刻机是集成电路制造与生产过程中的关键设备之一。光刻机投影物镜垂轴像质参数主要包括像面平移、像面旋转、放大率变化、畸变、彗差等。随着光刻特征尺寸的不断减小,垂轴成像质量参数对光刻性能的影响越来越突出。高精度...
马明英9王向朝王帆
文献传递
光刻机投影物镜波像差所致套刻误差的计算与分析
投影物镜的波像差是影响投影式光刻机套刻精度的一个重要因素。随着光刻特征尺寸的不断减小,波像差对套刻精度的影响越来越突出。深入理解波像差对套刻精度的影响,无论对于充分发挥现有光刻设备作用,还是分析新型光刻设备的像差容限都具...
王帆王向朝马明英施伟杰张冬青
文献传递
Method for rapid measuring retardation of a quarter-wave plate based on simultaneous phase shifting technique被引量:3
2008年
A method for rapid measuring retardation of a quarter-wave plate based on simultaneous phase shifting technique is presented. The simultaneous phase shifting function is realized by an orthogonal grating, a diaphragm, an analyzer array, and a 4-quadrant detector. The intensities of the light beams from the four analyzers with different azimuths are measured simultaneously. The retardation of the quarter-wave plate is obtained through the four light intensity values. In this method, the major axis position of the quarter-wave plate need not intensity fluctuation of light be determined in advance source. The feasibility of the In addition, the measured result is free of the method is verified by the experiments.
杨坤曾爱军王向朝唐锋王华
关键词:LIGHTING
反馈光注入半导体激光器复合腔模的稳定性
2009年
利用渐进稳定性分析的方法研究了小注入电流条件下反馈光注入半导体激光器的复合腔模(ECM)的稳定性,并提出对应于所有的复合腔模在相空间内存在一个模式稳定区域,复合腔模出现在该模式稳定区域内的概率远大于出现在该模式稳定区域外。通过求解复合腔模的鞍结分岔及霍普夫分岔边界条件并计算载流子浓度的庞加莱截图,验证了模式稳定区域的存在。数值计算的半导体激光器载流子浓度的分岔图验证了在小注入电流条件下渐进分析的可靠性。
王少卿王向朝步扬
关键词:激光器半导体激光器分岔
国际主流光刻机研发的最新进展被引量:43
2007年
介绍了65nm和45nm节点国际主流光刻机的最新研发进展,重点分析了目前提高光刻机性能的关键技术,讨论了目前各公司的主流机型及其性能参数,最后简要介绍了下一代光刻技术的研究进展。
袁琼雁王向朝
关键词:光刻机浸没式光刻下一代光刻
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