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上海华力微电子有限公司

作品数：7,532 被引量：53H指数：3
相关机构：华东师范大学电子科技大学中国科学院更多>>
发文基金：国家科技重大专项国家自然科学基金上海市科学技术委员会资助项目更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术文化科学金属学及工艺更多>>

合作机构

文献类型

  • 7,419篇专利
  • 102篇期刊文章
  • 5篇会议论文
  • 3篇标准
  • 2篇科技成果

领域

  • 871篇电子电信
  • 594篇自动化与计算...
  • 169篇文化科学
  • 80篇金属学及工艺
  • 65篇化学工程
  • 60篇经济管理
  • 39篇医药卫生
  • 36篇电气工程
  • 18篇石油与天然气...
  • 16篇交通运输工程
  • 14篇一般工业技术
  • 13篇建筑科学
  • 11篇机械工程
  • 11篇理学
  • 6篇轻工技术与工...
  • 4篇动力工程及工...
  • 4篇环境科学与工...
  • 2篇矿业工程
  • 2篇冶金工程
  • 1篇生物学

主题

  • 1,336篇刻蚀
  • 1,157篇半导体
  • 1,054篇晶圆
  • 849篇光刻
  • 512篇电路
  • 451篇栅极
  • 440篇衬底
  • 439篇多晶
  • 405篇金属
  • 382篇刻蚀工艺
  • 369篇多晶硅
  • 345篇半导体器件
  • 322篇氮化
  • 320篇氧化层
  • 318篇光刻胶
  • 307篇掩膜
  • 305篇离子注入
  • 292篇阻挡层
  • 284篇互连
  • 273篇硅片

机构

  • 7,531篇上海华力微电...
  • 32篇华东师范大学
  • 31篇电子科技大学
  • 29篇中国科学院
  • 5篇上海交通大学
  • 5篇上海集成电路...
  • 4篇上海华力集成...
  • 2篇杭州电子科技...
  • 2篇上海工程技术...
  • 1篇东华大学
  • 1篇华南理工大学
  • 1篇上海科技大学
  • 1篇中国科学院微...
  • 1篇3M中国有限...
  • 1篇家纺织制品质...
  • 1篇苏州天华超净...
  • 1篇台积电(中国...
  • 1篇上海华虹宏力...
  • 1篇中芯国际集成...
  • 1篇上海新昇半导...

作者

  • 21篇陈静
  • 15篇李靖
  • 12篇于奇
  • 5篇孙亚宾
  • 4篇王萌
  • 4篇宁宁
  • 4篇王青
  • 3篇赵宇航
  • 2篇李小进
  • 2篇石艳玲
  • 1篇郑祺
  • 1篇左青云
  • 1篇黄其煜
  • 1篇张海鹏
  • 1篇张霞
  • 1篇李洪芹
  • 1篇王彬
  • 1篇许武军
  • 1篇吕杭炳
  • 1篇黄琴

传媒

  • 30篇集成电路应用
  • 21篇中国集成电路
  • 11篇半导体技术
  • 6篇电子技术（上...
  • 4篇微电子学
  • 3篇科技资讯
  • 2篇上海师范大学...
  • 2篇功能材料与器...
  • 2篇中国新技术新...
  • 2篇中国科技论文...
  • 1篇电世界
  • 1篇上海企业
  • 1篇微电子学与计...
  • 1篇今日电子
  • 1篇电子器件
  • 1篇上海工程技术...
  • 1篇电子元件与材...
  • 1篇现代电子技术
  • 1篇科技风
  • 1篇杭州电子科技...

年份

  • 226篇2024
  • 308篇2023
  • 331篇2022
  • 395篇2021
  • 558篇2020
  • 592篇2019
  • 636篇2018
  • 591篇2017
  • 701篇2016
  • 711篇2015
  • 962篇2014
  • 606篇2013
  • 909篇2012
  • 5篇2011
共 7,532 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
光刻标记、对准标记及对准方法
本发明提供一种光刻标记、对准标记以及对准方法。所述光刻标记包括：遮光结构和感光结构。所述遮光结构上设有多个盲孔，所述感光结构填充于多个所述盲孔内并且能够在一定光照下消失。基于同一发明构思，本发明还提供一种对准标记，包括第...
童立峰李铭陈继华
标准单元库的测试方法
本发明提供一种标准单元库的测试方法，在所述的标准单元库的测试方法中，通过对所述组合逻辑单元和所述时序逻辑单元输入测试信号，以得到组合逻辑单元输出信号和时序逻辑单元输出信号；分别选取所述组合逻辑单元输出信号和所述时序逻辑单...
尤美琳高唯欢胡晓明
文献传递
掩膜版和标准片及对准图形误差补偿方法
掩膜版和标准片及对准图形误差补偿方法。本发明公开了一种光刻系统对准图形误差补偿方法，包括利用设计制造掩模版制造两片标准片，将两片标准片分别使用同一组晶圆对准图形的第一掩膜版对准图形和第二掩膜版对准图形沿光刻系统Y方向整体...
严峰王晓龙
文献传递
一种半导体结构及其制造方法
本发明提供了一种半导体结构，用以形成CMOS图像传感器。上述半导体结构至少包括光电二极管，光电二极管形成在衬底中，用以收集光电子，光电二极管沿衬底高度方向由上至下依次具有钉扎层、第一掺杂区和第二掺杂区；以及上述半导体结构...
顾珍田志王奇伟陈昊瑜
文献传递
一种晶圆清洗干燥装置、方法及化学机械研磨机台
本发明公开了一种晶圆清洗干燥装置、方法及化学机械研磨机台，所述晶圆清洗干燥装置包括：干燥槽、载物台、传送臂和两根第一喷杆，两根所述第一喷杆平行设置在所述干燥槽内，所述载物台设置在所述干燥槽的一侧壁上，承载晶圆的所述传送臂...
曹孟云
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拼接产品的测试光罩及其组合方法
本发明公开了一种拼接产品的测试光罩，测试光罩由多个单元图形组成，各单元图形能形成组合结构，组合结构和拼接产品的产品光罩相对应，产品光罩由多个拼接图形组成；在各单元图形中设置有套准精度图形，在组合结构中，各单元图形中的套准...
朱晓斌蔡亮
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SONOS器件的形成方法
本发明的一种SONOS器件的形成方法，包括：提供半导体衬底，所述半导体衬底包括相邻的存储管区域及选择管区域，所述选择管区域上方具有栅极氧化层；形成覆盖所述栅极氧化层及存储管区域的ONO结构；去除远离所述储管区域的部分所述...
丁航晨张强黄冠群
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一种降低堆栈式CIS背照式工艺中晶圆滑片风险的方法
本发明提出一种降低堆栈式CIS背照式工艺中晶圆滑片风险的方法，包括下列步骤：提供半导体基底，在所述半导体基底上分别形成构成堆栈式CIS逻辑载体晶圆和像素晶圆；在所述的逻辑载体晶圆形成过程中，通过炉管工艺生长功能薄膜层；采...
张磊许向辉陈昊瑜郭震杨小燕
化学机械研磨工艺模型校准验证流程中薄膜厚度引入方法
一种化学机械研磨工艺模型校准验证流程中薄膜厚度引入方法包括：沟槽刻蚀；测量晶片表面相距与晶片表面齐平的物理或化学可辨薄膜表面之间的距离，作为参考沟槽深度；将所测得的参考沟槽深度减去沟槽深度目标值，由此得到参考沟槽底部与可...
姜立维阚欢魏芳朱骏
文献传递
高电流注入机台监控方法
本发明提供了一种高电流注入机台监控方法，包括：在裸晶上形成一层氧化层；量测氧化层的膜厚；判断膜厚的均匀性是否满足预定要求；如果膜厚的均匀性满足预定要求，则利用高电流注入机台对裸晶执行高电流注入工艺；在高电流注入工艺完成之...
谭秀文赖朝荣王智苏俊铭
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