2025年1月1日
星期三
|
欢迎来到海南省图书馆•公共文化服务平台
登录
|
注册
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
K.C.科技股份有限公司
作品数:
163
被引量:0
H指数:0
相关机构:
汉阳大学校产学协力团
三星电子株式会社
汉阳大学校产业协力团
更多>>
相关领域:
自动化与计算机技术
文化科学
更多>>
合作机构
汉阳大学校产学协力团
三星电子株式会社
汉阳大学校产业协力团
发表作品
相关人物
相关机构
所获资助
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
163篇
中文专利
领域
2篇
自动化与计算...
1篇
文化科学
主题
61篇
基板
30篇
抛光
29篇
晶片
26篇
研磨
26篇
化学机械抛光
26篇
机械抛光
21篇
移送
20篇
喷嘴
18篇
抛光装置
16篇
研磨装置
14篇
狭缝
13篇
感器
13篇
传感
12篇
半导体
11篇
抛光垫
11篇
化学机械研磨
10篇
研磨工艺
10篇
涂布
10篇
磨工
10篇
划痕
机构
163篇
K.C.科技...
15篇
汉阳大学校产...
4篇
三星电子株式...
1篇
汉阳大学校产...
年份
4篇
2018
37篇
2017
27篇
2016
10篇
2015
3篇
2014
1篇
2013
9篇
2012
9篇
2011
15篇
2010
12篇
2009
11篇
2008
17篇
2007
4篇
2006
3篇
2005
1篇
2003
共
163
条 记 录,以下是 1-10
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
刷子清洗装置
涉及刷子清洗装置,包括:基板支撑体,转动基板,使得圆盘形状的基板自转;第一清洗刷子,向与基板的自转方向相反方向相接触的第一旋转方向进行旋转驱动,接触基板板面的同时清洗基板板面;第二清洗刷子,以与基板的板面相接触的状态旋转...
安俊镐
尹勤植
赵玟技
文献传递
抛光浆料
本发明揭示一种用于STI CMP(浅槽隔离化学机械抛光)制程的抛光浆料,其为制造256M(mega)D-RAM或更大的超高集成半导体(设计标准为小于或等于0.13μm)所必需,该抛光浆料可以较高移除速率对晶圆进行抛光,与...
金大亨
洪锡敏
金容国
金东炫
徐明源
朴在勤
白云揆
文献传递
磨料颗粒、抛光浆料及其制造方法
本发明揭示一种用于STI CMP(浅槽隔离化学机械抛光)制程的抛光浆料,其为制造256M(mega)D-RAM或更大的超高集成半导体(设计标准为小于或等于0.13μm)所必需,该抛光浆料可以较高移除速率对晶圆进行抛光,与...
金大亨
洪锡敏
金容国
金东炫
徐明源
朴在勤
白云揆
文献传递
喷嘴单元及包括其的基板处理装置
本实用新型涉及一种喷嘴单元及包括其的基板处理装置,喷嘴单元包括:喷嘴体,其形成有混合室;气体供给流路,其将气体沿着第一方向供给于混合室;液体供给流路,其设置有多个液体供给通道,所述多个液体供给通道将液体沿着与第一方向相交...
尹勤植
文献传递
狭缝式涂布机的高粘度涂布液涂布装置及其涂布方法
本发明涉及狭缝式涂布机的高粘度涂布液涂布装置及其涂布方法。所述涂布装置包括:涂布液储藏罐;泵,用于将所述涂布液储藏罐里的涂布液通过供给管路压送至喷嘴侧;控制部,用于控制所述泵及喷嘴的工作;以及压力检测部,用于检测所述供给...
赵康一
文献传递
基板移送装置
本实用新型涉及一种基板移送装置,提供一种基板移送装置,其作为以使得结束化学机械研磨工艺的基板放置的状态进行移送的装置,包括:移动主体;基板放置架,其从移动主体向下方延长并以互相面对的形式折曲且设置有两个以上的放置面,并且...
金大石
文献传递
化学机械研磨设备的调节器及调节方法
本发明提供一种化学机械研磨设备的调节器及调节方法,该化学机械研磨设备用于在旋转的压板垫上研磨基板。该调节器包括圆盘固定器、活塞杆、外壳及负载传感器。该圆盘固定器紧固精细地切割该压板垫的表面的调节圆盘。该活塞杆将轴向力递送...
徐建植
夫在弼
金东秀
具滋铁
全灿云
潘俊昊
文献传递
玻璃基板边缘检查装置及玻璃基板边缘检查方法
本发明涉及玻璃基板边缘检查装置及利用该装置的玻璃基板边缘检查方法。该玻璃基板边缘检查装置包含:移送部,以用于沿某一方向移送玻璃基板;设在玻璃基板一表面两侧与玻璃基板保持相当于焦距的距离的固定式扫描模块,以用于扫描处于移送...
白云泳
罗善福
文献传递
化学机械研磨设备、方法及系统
本发明涉及一种化学机械研磨设备、方法及系统,该化学机械研磨系统包含:至少一个研磨压板,以可旋转方式予以安装,其中,压板垫装配于该至少一个研磨压板的上部表面上;导轨,沿着预定的路径予以安置;基板载体单元,包括用以在研磨程序...
夫在弼
金东秀
徐建植
全灿云
潘俊昊
具滋铁
文献传递
化学机械抛光装置用承载头的隔膜及承载头
本实用新型涉及一种化学机械抛光装置用承载头的隔膜及承载头,上述化学机械抛光装置用承载头的隔膜包括:底板,由可挠性材质形成为板状,并对晶片的板面进行加压;侧壁,由可挠性材质形成,并从上述底板的边缘部分向上侧延伸而成,在上述...
孙准皓
金昶一
金相一
文献传递
全选
清除
导出
共17页
<
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张