2024年12月27日
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杭州士兰集昕微电子有限公司
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半导体器件及其隔离结构
本申请公开了一种半导体器件及其隔离结构,该隔离结构自半导体层的表面延伸至半导体层中,在与半导体层的表面平行的截面上,隔离结构的形状为多边形环,其中,多边形环中包括呈弧状凸起的外环顶角和呈弧状凸起的内环顶角,外环顶角处的弧...
夏志平
田浩洋
陈洪雷
孙样慧
温建功
文献传递
静电防护电路、静电防护器件及其制造方法
本公开提供了一种静电防护电路、静电防护器件及其制造方法,静电防护电路包括第一和第二防护单元,每个防护单元包括第一晶体管、第二晶体管、第一电阻构成的第一电流路径以及第二电阻和第一二极管构成的第二电流路径,第一静电防护单元与...
喻洋
刘宪成
功率半导体器件及其制造方法
本公开提供了一种功率半导体器件及其制造方法,功率半导体器件中的多个第二沟槽沿第一方向和第二方向排列且相互连通,每个第一沟槽位于由第二沟槽围绕的区域中,以使得第一沟槽的俯视形状为矩形片状,可以减小屏蔽栅带来的寄生电阻,从而...
陈勇
张邵华
杨青森
陈琛
刘块
晶体管及其制作方法
本申请公开了一种晶体管及其制作方法,所述晶体管包括:外延结构;具有衬底以及位于所述衬底表面上的外延层,所述外延层包括依次形成在所述衬底上的成核层、缓冲层、沟道层、插入层、势垒层、间隔层、非故意掺杂层以及P型层;在平行于所...
高维强
肖金平
贾利芳
闻永祥
半导体器件及其制造方法
本申请公开了一种半导体器件及其制造方法。制造方法包括在衬底第一至第二阱区上分别形成第一、第二栅叠层,在衬底第三阱区、第四阱区上形成第三栅叠层;采用光刻胶掩膜、采用第一栅叠层、第三栅叠层为硬掩膜,在第一阱区形成第二掺杂类型...
王昊
陈洪雷
夏志平
姚国亮
陈伟
文献传递
半导体器件
公开了一种半导体器件,半导体器件包括:衬底,衬底中设置有实现器件功能的元胞器件结构;位于衬底上方的台阶状器件结构,台阶状器件结构覆盖部分衬底;位于台阶状器件结构上方的介质层和阻挡层,阻挡层位于介质层上方,介质层和阻挡层覆...
杨彦涛
隋晓明
李云飞
杨青森
楚婉怡
王岁虎
微型麦克风
公开了一种微型麦克风,微型麦克风包括:衬底,衬底包括第一空腔;第一牺牲层,位于衬底上,第一牺牲层包括第二空腔;振膜层,振膜层的至少一部分由第一牺牲层支撑,位于第二空腔上方的振膜层形成振动隔膜;第二牺牲层,位于振膜层上,第...
孙福河
李佳
许乐军
金文超
闻永祥
文献传递
一种微机电传感器的背腔的制造方法
本申请公开了一种微机电传感器的背腔的制造方法,该背腔的制造方法包括:采用第一Bosch工艺在衬底中形成凹槽,第一Bosch工艺包括向衬底多次交替输送刻蚀气体与保护气体,衬底具有相对的正面与背面,凹槽自衬底的背面延伸至衬底...
金文超
孙福河
李佳
季锋
闻永祥
功率半导体器件及其制造方法
本公开提供了一种功率半导体器件及其制造方法,功率半导体器件中的屏蔽栅和控制栅位于同一沟槽中,所有控制栅通过第一导电连接层进行连接,不需要设置单独的控制栅沟槽,减少版次,降低成本,并且与传统屏蔽栅工艺兼容,减小了工艺复杂度...
陈勇
张邵华
杨青森
陈琛
刘块
半导体器件
公开了一种半导体器件,包括:绝缘栅双极型晶体管,绝缘栅双极型晶体管包括元胞区和终端区,终端区位于元胞区外围;钳位结构,位于终端区,钳位结构包括多个无源半导体器件,多个无源半导体器件设置在绝缘栅双极型晶体管的栅极电极和集电...
韩健
顾悦吉
黄示
吕梦凡
张瑞丽
周琼琼
何火军
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