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林耀泽

作品数：8 被引量：12H指数：2
供职机构：无锡微电子科研中心更多>>
相关领域：电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 8篇电子电信
  • 1篇化学工程

主题

  • 6篇超纯水
  • 5篇电路
  • 5篇水质
  • 5篇集成电路
  • 3篇纳米级集成电...
  • 2篇英寸
  • 2篇溶解氧
  • 2篇资源节约
  • 2篇微粒
  • 2篇半导体
  • 1篇亚微米
  • 1篇氧化硅
  • 1篇深亚微米
  • 1篇生产线
  • 1篇水系统
  • 1篇气体
  • 1篇微米
  • 1篇芯片
  • 1篇芯片加工
  • 1篇回收

机构

  • 5篇无锡微电子科...
  • 1篇电子部
  • 1篇信息产业部
  • 1篇中国电子学会

作者

  • 8篇林耀泽

传媒

  • 1篇半导体技术
  • 1篇电子产品世界
  • 1篇低温与特气
  • 1篇微电子技术
  • 1篇微纳电子技术
  • 1篇中国半导体
  • 1篇第五届中国国...
  • 1篇第五届中国国...

年份

  • 1篇2007
  • 1篇2003
  • 2篇2002
  • 1篇2001
  • 2篇1999
  • 1篇1984
共 8 条 记 录，以下是 1-8
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排序方式：
半导体生产用的高纯气体述评被引量：1
1984年
半导体、集成电路是项更新换代十分迅速的产业。在六十年代中，电路的集成度每年翻一番，七十年代，平均每三年增加四倍。进入八十年代后，仍将以每二年翻一番的速度增加。伴随这种发展，要求与使用的气体品种、质量和数量也急剧增加和提高。关于国外气体的质量标准已有详细综述，本文仅限于述评近年来高纯气体方面的特点和常用工业气体的供气方式。
林耀泽
关键词：高纯气体半导体生产集成电路供气方式工业气体集成度
8英寸线超纯水技术的若干特点被引量：2
2001年
应小于等于 ０．２５μｍ８英寸 ｆａｂ之需，介绍了实际工程的各项优越水质参数和高可靠、易运作等特点。讨论了水的回收技术、总有机碳（ＴＯＣ）减低技术和安装／配管中的零污染的可能性。
林耀泽
关键词：超纯水水质集成电路
纳米级集成电路与超纯水
2003年
阐述美国《国家半导体技术发展战略》中存储器的发展目标对其关键材料超纯水在水质和耗量降低上的要求。以我国8英寸/0.18微米和12英寸生产线和相关数据与其对照.表明在总有机碳、溶解氧等项水质参数巳可满足该发展要求，而在SiO2、微粒限定、检测技术以及超纯水耗量降低等方面尚有差距和问题，提出相应的解决方案，讨论了超纯水等项水资源消耗的降低途径。重申了水回收的意义，关注“功能水”和高效，省能的GDI（聚合型电去离子）装置将是有益的。
林耀泽
关键词：纳米级集成电路超纯水水质资源节约二氧化硅溶解氧
300mm半导体芯片加工中的超纯水系统
1999年
林耀泽
关键词：半导体芯片超纯水系统
12英寸线超纯水水质浅析
基于现代超纯水系统的若干实践，浅析现今超纯水水质的难点(TOC、SiO2、微粒的达标)，评论12英寸线水质要求上的现实性。
林耀泽
关键词：超纯水水质微粒
文献传递
深亚微米生产线中的超纯水装置被引量：4
1999年
本文依据深亚微米技术的要求，结合实例，扼要介绍这种世界的超纯水装置。讨论了TOC／DO或WC／Si低于1PPb和用水点无微粒的技术以及费用等项热点问题。
林耀泽
关键词：超纯水溶解氧微粒
纳米级集成电路与超纯水被引量：6
2002年
阐述美国《国家半导体技术发展路线》中存储器的发展目标对其关键材料超纯水在水质和耗量降低上的要求,以我国8英寸/0.18μm和12英寸生产线的相关数据与其对照,表明在总有机碳、溶解氧等项水质参数已可满足该发展要求,而在SiO2、微粒限定、检测技术以及超纯水耗量降低等方面尚有差距和问题,并提出相应的解决方案,讨论了降低超纯水等项水资源消耗的途径。重申了水回收的意义,关注“功能水”和高效、省能的GDI(聚合型电去离子)装置将是有益的。
林耀泽
关键词：纳米级集成电路超纯水水质资源节约回收
纳米级集成电路与超纯水
阐述美国《国家半导体技术发展路线》中存储器的发展目标是对其关键材料超纯水在水质和耗量降低上的要求,以我国8英寸/0.18微米和12英寸生产线的相关数据与其对照.表明在总有机碳、溶解氧等项水质参数已可满足该发展要求,而在S...
林耀泽
关键词：纳米级集成电路超纯水水质
文献传递
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