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梁仁荣
作品数:
223
被引量:8
H指数:2
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清华大学
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电子电信
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合作作者
王敬
清华大学信息科学技术学院微电子...
许军
清华大学信息科学技术学院微电子...
赵梅
清华大学
肖磊
清华大学
方华军
清华大学
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具有SiGeSn源漏的鳍式场效应晶体管及其形成方法
本发明提出一种具有SiGeSn源漏的鳍式场效应晶体管及其形成方法。其中该方法包括以下步骤:提供衬底;在衬底之上形成Ge鳍形结构;在Ge鳍形结构之上形成栅堆叠或假栅;在栅堆叠或假栅两侧形成源区和漏区的开口,在开口位置露出G...
王敬
肖磊
赵梅
梁仁荣
许军
文献传递
具有SiGeSn源漏的MOSFET及其形成方法
本发明提出一种具有SiGeSn源漏的MOSFET及其形成方法。其中形成方法包括以下步骤:提供顶部具有Ge层的衬底;在衬底之上形成栅堆叠或假栅;在栅堆叠或假栅两侧形成源区和漏区的开口,在开口位置露出Ge层;向Ge层表层注入...
王敬
肖磊
赵梅
梁仁荣
许军
文献传递
跨导增强的回收电流折叠MOS管共源共栅放大器
本发明公开了属于模拟集成电路设计领域的一种跨导增强的回收电流折叠MOS管共源共栅放大器。包括跨导增强的输入级、放大回收电流的中间级和轨到轨输出级;所述跨导增强的输入级由分流的四个PMOS管和两对构成负阻增强跨导的四个PM...
方华军
赵晓
梁仁荣
许军
王敬
基于异质栅极功函数的隧穿场效应晶体管及其形成方法
本发明提出一种基于异质栅极功函数的隧穿场效应晶体管,包括:衬底;形成在所述衬底之中的沟道区,以及形成在所述沟道区两侧的源区和漏区,其中,所述漏区为第一掺杂类型,所述源区为第二掺杂类型;和形成在所述沟道区之上的栅堆叠及形成...
崔宁
梁仁荣
王敬
许军
文献传递
采用MOS器件实现的低压低功耗带隙基准电压源
本发明公开了属于模拟集成电路设计领域的一种采用MOS器件实现的低压低功耗带隙基准电压源,采用CMOS工艺实现,包括一个产生与温度成正比例关系电流的电路、一个产生与温度成负比例关系电流的电路、温度二次补偿电路以及启动电路;...
方华军
赵晓
许军
梁仁荣
王敬
光调制的场效应晶体管和集成电路
本发明公开了一种光调制的场效应晶体管和集成电路,其中该光调制的场效应晶体管包括:半导体层;源区和漏区,所述源区设置在所述半导体层之中或所述半导体层之上,所述漏区设置在所述半导体层之中或所述半导体层之上;形成在所述半导体之...
王敬
陈文捷
郭磊
梁仁荣
文献传递
光调制的二极管和功率电路
本发明公开了一种光调制的二极管和功率电路,该光调制的二极管包括:第一半导体层,所述第一半导体层具有第一导电类型;形成在所述第一半导体之上的第一金属层;形成在所述第一半导体层之上的发光结构,其中,所述发光结构用于产生用于激...
王敬
陈文捷
梁仁荣
文献传递
半导体结构以及制备方法
本发明公开了半导体结构以及制备方法。该方法包括:(1)在基底的上表面依次形成氮化物过渡层和氮化物半导体层,以便获得第一复合体;(2)对所述第一复合体进行离子注入处理,所述注入的离子中含氢离子;(3)将所述第一复合体与衬底...
王敬
孙川川
梁仁荣
许军
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具有准同轴电缆结构的隧穿晶体管及其形成方法
本发明提供一种具有准同轴电缆结构的隧穿晶体管及其形成方法,该隧穿晶体管包括:具有第一掺杂类型的半导体衬底,所述半导体衬底为源区或漏区;形成在所述半导体衬底上的具有第二掺杂类型的垂直半导体柱,所述半导体柱为漏区或源区;形成...
崔宁
梁仁荣
王敬
许军
文献传递
一种耐高压的隧穿晶体管及其制备方法
本发明提出了一种耐高压的隧穿晶体管及其制备方法,该隧穿晶体管包括漏极,外延层,埋层,源极,栅介质,栅极,源极金属层和漏极金属层。本发明隧穿晶体管能够提高器件在关态下的耐击穿能力,降低器件的导通电阻,减小大电流下的功耗,提...
崔宁
梁仁荣
王敬
许军
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