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沈建良

作品数：3 被引量：1H指数：1
供职机构：南京航空航天大学更多>>
发文基金：江苏省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 2篇正功能
  • 2篇丝网印刷
  • 2篇丝网印刷法
  • 2篇自修
  • 2篇稀释剂
  • 2篇聚丙烯
  • 2篇聚丙烯酸
  • 2篇聚丙烯酸酯
  • 2篇聚丙烯酸酯类
  • 2篇活性稀释剂
  • 2篇丙烯
  • 2篇丙烯酸
  • 2篇丙烯酸聚合物
  • 2篇丙烯酸酯
  • 2篇丙烯酸酯类
  • 1篇电子制造
  • 1篇抛光
  • 1篇抛光工艺
  • 1篇紫外光固化
  • 1篇微电子

机构

  • 3篇南京航空航天...

作者

  • 3篇沈建良
  • 2篇郭魂
  • 2篇左敦稳
  • 2篇徐锋
  • 2篇邵建兵
  • 2篇朱永伟
  • 2篇黎向锋

年份

  • 1篇2009
  • 2篇2008
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
具有自修正功能的固结磨料研磨抛光垫及制备方法
具有自修正功能的固结磨料研磨抛光垫及制备方法，涉及超精密研磨与抛光加工技术领域。其特征在于其磨料层(1)组份及质量百分比如下：粒度在1纳米～40微米的磨料1～20%，聚丙烯酸酯类的预聚物20～80%，自由基光引发剂1～3...
朱永伟左敦稳徐锋黎向锋沈建良邵建兵郭魂
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微电子制造用固结磨料抛光垫的制备探索研究
集成电路（IC）所用材料主要有硅、锗和砷化镓等，但目前单晶硅的使用占据全球IC生产的90％以上。硅材料是典型的脆性难加工材料，随着IC技术向着大尺寸、细刻线宽度方向发展，对硅片表面加工提出了越来越高的要求。基于这一背景，...
沈建良
关键词：抛光工艺紫外光固化微电子制造硅片加工
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具有自修正功能的固结磨料研磨抛光垫及制备方法
具有自修正功能的固结磨料研磨抛光垫及制备方法，涉及超精密研磨与抛光加工技术领域。其特征在于其磨料层(1)组分及质量百分比如下：粒度在1纳米～40微米的磨料1～20％，聚丙烯酸酯类的预聚物20～80％，自由基光引发剂1～3...
朱永伟左敦稳徐锋黎向锋沈建良邵建兵郭魂
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