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陈宁

作品数:9 被引量:74H指数:5
供职机构:成都精密光学工程研究中心更多>>
发文基金:国家自然科学基金中国工程物理研究院科学技术发展基金中国工程物理研究院基金更多>>
相关领域:理学电子电信化学工程金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 7篇期刊文章
  • 1篇会议论文
  • 1篇专利

领域

  • 4篇理学
  • 3篇电子电信
  • 2篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 3篇溶胶
  • 3篇溶胶-凝胶
  • 2篇熔石英
  • 2篇疏水
  • 2篇疏水性
  • 2篇无机复合
  • 2篇激光
  • 2篇激光损伤
  • 2篇光学
  • 2篇光学元件
  • 1篇有机硅
  • 1篇有机无机
  • 1篇有机无机复合
  • 1篇增透
  • 1篇增透膜
  • 1篇折光指数
  • 1篇溶胶-凝胶法...
  • 1篇时域有限差分
  • 1篇时域有限差分...
  • 1篇数据处理

机构

  • 9篇成都精密光学...
  • 4篇四川大学
  • 1篇浙江大学
  • 1篇西安电子科技...
  • 1篇重庆大学

作者

  • 9篇陈宁
  • 7篇张清华
  • 4篇许乔
  • 4篇江波
  • 2篇王健
  • 2篇周礼书
  • 2篇侯晶
  • 2篇段利华
  • 2篇王世健
  • 1篇朱湘琴
  • 1篇雷向阳
  • 1篇曹聪蕊
  • 1篇殷勤俭
  • 1篇王克
  • 1篇项震
  • 1篇曾觉发
  • 1篇肖波
  • 1篇王毅
  • 1篇石琦凯
  • 1篇熊华山

传媒

  • 2篇无机化学学报
  • 2篇强激光与粒子...
  • 1篇光学技术
  • 1篇功能材料
  • 1篇激光杂志

年份

  • 2篇2008
  • 2篇2007
  • 2篇2006
  • 2篇2005
  • 1篇2004
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
聚氧化丙烯醚对SiO2减反膜性质的影响被引量:3
2008年
采用溶胶-凝胶制备的SiO2减反膜具有优良的光学特性和高损伤阈值,可以用做高反膜和减反膜的低折射率匹配层。在高功率激光领域具有十分诱人的应用前景。光学增透膜和高反膜的设计和制备需有低折射率的膜层匹配。溶胶-凝胶法制备的二氧化硅减反膜是一种具有纳米尺度网络结构的多孔膜,
肖波曾觉发曹聪睿陈宁江波
关键词:溶胶-凝胶防潮性能
熔石英表面划痕附近电磁场分布模拟分析被引量:29
2005年
亚表面缺陷是造成固体激光器光学器件损伤阈值过低的重要原因,而表面划痕是缺陷中重要的 一种。使用时域有限差分方法(FDTD)模拟了熔石英表面圆柱形、三角形划痕对激光电磁场的调制作用,绘出 了2维电磁场强度分布图,计算出划痕尺寸不同时电磁场的最大强度。数值计算结果表明,尺寸为二倍波长的 划痕可以获得最大的电磁场强度,此时容易导致自聚焦;亚波长级和足够大尺寸的划痕作用基本可以忽略。一 定尺寸的划痕,深度越大,最大场强也越大,但当划痕过深时最大场强反而会降低。
王毅许乔柴立群陈宁朱湘琴
关键词:激光损伤时域有限差分方法
Sol-gel制备SiO_2增透膜的研究被引量:18
2004年
 以正硅酸乙酯(TEOS)为原料,利用溶胶 凝胶法在碱催化下制备二氧化硅增透膜,详细研究了水解条件、溶胶陈化时间对膜层性能的影响。结果表明氨用量的增加对膜层的峰值透光率及峰值增透波长影响不大,但缩短了溶胶达到最佳涂膜效果的陈化时间,当NH3/TEOS摩尔比为0.9~1.05时,溶胶陈放一周内涂膜效果最佳。研究还发现溶胶折光指数最小时,涂膜后膜层增透效果最好,峰值透光率约98%,并可据此确定溶胶最佳涂膜时间。
熊华山陈宁张清华王克殷勤俭江波
关键词:溶胶-凝胶增透膜折光指数
溶胶-凝胶法制备有机硅掺杂有机/无机复合疏水性减反射膜的研究被引量:5
2007年
以正硅酸乙酯(TEOS)和硅油为前驱体,在碱性催化体系中制备出有机硅改性二氧化硅溶胶,采用提拉法获得了具备疏水性能的二氧化硅减反膜。通过透射电镜、扫描探针显微镜、红外光谱、分光光度计、表面轮廓仪等多种方法研究了改性后的膜层性能。在高湿度环境中存放两周后,在波长确定的情况下,常规二氧化硅减反膜透过率由99.2%降到了96.5%,疏水改性膜层透过率仍然高于99%。与常规减反膜相比,疏水改性减反膜在高湿度条件下防止潮气侵蚀的性能得到了大幅度的提高。
刘会娟陈宁张清华江波
关键词:疏水性有机硅溶胶-凝胶
光学元件面形修复的刻蚀装置
本实用新型提供了一种对光学元件的面形进行高精度修复的刻蚀装置,包括装架、刻蚀头、三维移动平台和计算机,所述刻蚀头安装在三维移动平台上,三维移动平台通过控制线与计算机相连,所述刻蚀头由放置易挥发有机溶剂的容器和刻蚀液容器组...
许乔侯晶张清华王健雷向阳周礼书陈宁
文献传递
PVB掺杂有机无机复合SiO2增透膜的制备和表征被引量:11
2008年
以聚乙烯醇缩丁醛(PVB)为有机掺杂剂,正硅酸乙酯为前驱体,氨水为催化剂,利用溶胶-凝胶法制备出了一种新型的有机无机复合二氧化硅增透膜。采用红外光谱、X射线衍射、粒度分析、紫外分光光度法、椭偏测定、原子力显微镜、静滴接触角测量等对膜层性质进行了表征。结果表明:PVB分子的引入并没有引起增透膜结构的变化。在相同的实验条件下,未经PVB掺杂的SiO2增透膜在720 nm处的峰值透过率为99.8%,而PVB掺杂后的SiO2复合膜在840 nm处的峰值透过率在99.9%以上。掺杂膜层变厚,峰值透过率朝长波方向移动。掺杂前后增透膜对水的接触角从29°增加到71°,膜层的疏水性得到明显提高。
曹聪蕊蓝芳陈宁张清华江波
关键词:PVB透过率疏水性
光学元件面形修复的化学加工方法研究
一、引言目前,对光学元件的面形加工技术主要有:传统光学元件加工技术,旋转抛光盘的小工具数控抛光技术,利用磁场来改变散粒磨料黏度的磁流变抛光技术(Magneto-Rheological Finishing,简称MRF)和离...
侯晶项震许乔周礼书张清华陈宁王健
关键词:光学
文献传递
K9基片的亚表面损伤探测及化学腐蚀处理技术研究被引量:12
2005年
研究了几种类型的腐蚀液对K9基片化学腐蚀的影响。通过腐蚀液对基片纵向腐蚀速度的变化初步判断了K9基片重沉积层的深度。考察了腐蚀前后基片表面参数的变化以及腐蚀对激光损伤阈值的影响。研究表明,特定的腐蚀液能够对K9基片进行平稳可控的腐蚀,并且腐蚀能提高其激光损伤阈值,其主要原因是去除了重沉积层及表面、亚表面缺陷中的污染物,但过多的腐蚀会暴露本来为重沉积层所掩盖的划痕等亚表面缺陷,所以腐蚀并非越深越好。同时,表面各种杂质与缺陷的去除能够提高材料的机械强度,从而也有利于提高材料的激光损伤阈值。
陈宁张清华许乔王世健段利华
关键词:化学腐蚀激光损伤阈值
熔石英在HF酸腐蚀下的阈值表征被引量:1
2006年
利用HF酸腐蚀熔石英样品实验,探讨了不同腐蚀时间条件下其表面抗激光损伤阈值的变化,对比了不同阈值表征方式对其结果的影响。结合损伤机理,发现采用50%损伤几率阈值更能反应样品阈值的变化趋势。对测试结果进行了不确定度分析,按国际标准得到的零几率损伤曲线的斜率在一定程度上可以反映测试结果的不确定度及样品表面缺陷密度的分布特征。
陈宁张清华石琦凯王世健段利华
关键词:数据处理熔石英
共1页<1>
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