您的位置: 专家智库 > >

刘深娜

作品数:8 被引量:2H指数:1
供职机构:闽南师范大学更多>>
发文基金:福建省教育厅科技项目漳州市科技计划项目国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学化学工程更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 6篇理学
  • 3篇化学工程

主题

  • 4篇电沉积
  • 4篇硫脲
  • 3篇脒基硫脲
  • 2篇电沉积过程
  • 2篇电池
  • 2篇酸性
  • 2篇添加剂
  • 2篇锂离子
  • 2篇锂离子电池
  • 2篇离子
  • 2篇离子电池
  • 2篇
  • 2篇
  • 2篇EQCM
  • 1篇电镀
  • 1篇电镀液
  • 1篇电化学
  • 1篇电化学石英晶...
  • 1篇电极
  • 1篇镀铜

机构

  • 4篇漳州师范学院
  • 4篇闽南师范大学
  • 2篇优科能源(漳...

作者

  • 8篇刘深娜
  • 6篇陈国良
  • 6篇杨阳
  • 4篇林珩
  • 3篇陈棽
  • 3篇余小宝
  • 3篇林航
  • 2篇李巧云
  • 1篇汪庆祥
  • 1篇李凯
  • 1篇陈碧桑
  • 1篇陈焰香
  • 1篇黄承远
  • 1篇朱莎莎

传媒

  • 3篇漳州师范学院...
  • 1篇电化学
  • 1篇应用化工
  • 1篇闽南师范大学...
  • 1篇中国化学会第...

年份

  • 2篇2014
  • 5篇2013
  • 1篇2012
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
脒基硫脲对酸性硫酸盐溶液中铜电沉积过程影响的研究被引量:1
2013年
研究添加剂对电沉积的作用机理及添加剂用量对镀层结构的影响,有利于开发一种更好效果的添加剂。为了获得良好的镀层,硫脲及其衍生物作为添加剂已经广泛应用于电镀工业中,脒基硫脲(GTU)作为电镀添加剂,采用循环伏安法(CV)和电化学石英晶体微天平(EQCM)技术,考察GTU在酸性溶液中对铜沉积机理的影响。CV结果表明,脒基硫脲对铜电沉积有抑制作用;QCM分析表明,当镀液中含有GTU时,铜阴极沉积和阳极溶出过程的M/n分别为61.50,64.12 g/mol,表明电极反应过程中,Pt/Cu电极表面的铜离子沉积从二电子过程过渡到单电子过程,添加剂的最佳浓度为10 mmol/L。
刘深娜杨阳陈棽林珩陈国良
关键词:脒基硫脲电沉积电化学石英晶体微天平
玻碳电极肉桂酸添加剂对锌电沉积的影响
2013年
用循环伏安法、计时电位法研究了玻碳电极肉桂酸添加剂对锌电沉积机理及成核过程的影响.研究表明,含肉桂酸基础镀液中还原仍为Zn2++2e→Zn,但肉桂酸能促进锌成核,改变锌沉积的动力学过程.在基础镀液锌成核机理为3D-瞬时成核过程,加肉桂酸后锌的成核机理趋于3D-连续成核过程,其活性位点数增加,成核速率减小.
李凯陈棽刘深娜陈碧桑林珩陈国良汪庆祥
关键词:肉桂酸计时电流法
添加剂马来酸二烯丙基酯与TMSB对锂离子电池性能影响
2012年
用1 mol.L-1LiPF6/碳酸乙烯基酯(EC)+碳酸二甲基酯(DMC)(EC、DMC体积比为1:1)作为锂离子电池电解液,用1%三(三甲基硅烷)硼酸酯(TMSB)+1%马来酸二烯丙基酯作为其电解液添加剂.研究了锂离子电池首次充放电性能与循环充放电性能,结果表明添加剂马来酸二烯丙基酯能与添加剂TMSB协同改善锂离子电池的性能.
余小宝林航刘深娜杨阳林珩张贵萍黄子欣陈国良
关键词:添加剂SEI膜锂离子电池
脒基硫脲和烟酸对酸性硫酸盐溶液中锌电沉积过程影响的研究
2014年
研究添加剂对电沉积过程的影响有助于人们更好的开发利用添加剂,以获得满足工业需求电镀层.本文运用电化学循环伏安(CV)、电化学石英晶体微天平(EQCM)和扫瞄式电子显微镜(SEM)等方法研究了酸性硫酸盐溶液中脒基硫脲和烟酸对锌电沉积过程的影响以及添加剂的作用机理.实验结果表明,在Pt/Fe电极上,脒基硫脲和烟酸对锌阴极沉积和阳极溶出均有抑制作用,且均可提高锌镀层的耐腐蚀性;当脒基硫脲和烟酸混合使用时,脒基硫脲起主要作用.
刘深娜杨阳黄承远朱莎莎陈国良
关键词:电沉积脒基硫脲烟酸
2-甲氧基萘用作锂离子电池过充保护添加剂
2013年
在1 mol/LLiPF6/EC+EMC(体积比1:1)电解液中,用恒流充放电池测试系统测试了2-甲氧基萘对磷酸铁锂电池电化学性能的影响,结果表明添加剂对电池容量特性基本没有影响.过充实验结果则表明添加5%的2-甲氧基萘表现出最优的磷酸铁锂电池的耐过充性能.
陈棽余小宝李巧云林航陈焰香刘深娜杨阳张贵萍黄子欣陈国良
关键词:添加剂过充锂离子电池
N-甲基硫脲对硫酸盐镀铜的影响被引量:1
2013年
采用电化学循环伏安法(CV)和电化学石英晶体微天平(EQCM)方法研究了添加剂N-甲基硫脲(MTU)对铜阳极溶出和阴极沉积过程的影响;通过塔菲尔方程研究了N-甲基硫脲和Cl-共同存在时对镀层耐腐蚀性的影响.结果表明:N-甲基硫脲改变了其反应历程,生成Cu(Ⅰ)的中间产物;当Cl-浓度为70mg/L时,镀层的耐腐蚀性最好.
林航余小宝李巧云刘深娜杨阳林珩陈国良
关键词:EQCM
几种有机添加剂对铜、锌阴极沉积和阳极溶出过程影响的研究
近年来,随着科学技术的不断进步与发展,电镀工艺在越来越多的行业得到了应用。除了在日常交通工具、家用电器等常规镀件的表面装饰与防腐外,许多复合材料、功能性材料的制备都需要电镀技术来完成。因此电镀液的优化、添加剂的选择与开发...
刘深娜
关键词:电镀液有机添加剂阳极溶出耐腐蚀性能
脒基硫脲铜电沉积过程影响CV、EQCM研究
硫脲(TU)及其衍生物是电镀工业上一种重要的添加剂,在金属防蚀领域中也得到广泛应用[1].镀液中添加硫脲可有效地降低沉积金属颗粒的尺寸,使镀件表面结晶细致、光亮[2].因此,众多学者已采用多种实验技术,如常规电化学技术[...
刘深娜杨阳陈国良
共1页<1>
聚类工具0