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吕明

作品数：2 被引量：4H指数：1
供职机构：合肥工业大学电子科学与应用物理学院更多>>
发文基金：中央高校基本科研业务费专项资金浙江省自然科学基金教育部重点实验室开放基金更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 1篇带隙电压基准
  • 1篇带隙电压基准...
  • 1篇带隙基准
  • 1篇带隙基准源
  • 1篇电压
  • 1篇电压基准
  • 1篇电压基准源
  • 1篇三维模拟
  • 1篇输出电压
  • 1篇基准源
  • 1篇光刻
  • 1篇SU-8胶

机构

  • 2篇合肥工业大学
  • 1篇温州大学

作者

  • 2篇吕明
  • 2篇赵强
  • 2篇张鉴
  • 1篇肖磊

传媒

  • 1篇电子科技
  • 1篇固体电子学研...

年份

  • 2篇2012
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
带隙电压基准源的设计与分析被引量：4
2012年
介绍了基准源的发展和基本工作原理以及目前较常用的带隙基准源电路结构。设计了一种基于Banba结构的基准源电路,重点对自启动电路及放大电路部分进行了分析,得到并分析了输出电压与温度的关系。文中对带隙电压基准源的设计与分析,可以为电压基准源相关的设计人员提供参考。可以为串联型稳压电路、A/D和D/A转化器提供基准电压,也是大多数传感器的稳压供电电源或激励源。
赵强吕明张鉴
关键词：基准源带隙基准源输出电压
应用三维线算法的SU-8胶光刻过程模拟
2012年
采用二维法向量作为分量,加权求和近似得到三维网格点上的单位法向量,将经典的二维线算法改进为三维形式。综合SU-8胶光刻过程中衍射、吸收率随光刻胶深度的变化及交联显影等各种效应,应用该三维线算法对SU-8化学放大胶进行光刻过程三维建模。该模型对被加工表面演化过程的模拟较为精确,可在实际应用中对SU-8胶的光刻模拟结果进行有效预测。
张鉴吕明肖磊赵强
关键词：三维模拟SU-8胶
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