您的位置: 专家智库 > >

文献类型

  • 6篇中文专利

主题

  • 2篇电池
  • 2篇电感线圈
  • 2篇电极
  • 2篇淀积
  • 2篇真空室
  • 2篇上段
  • 2篇太阳电池
  • 2篇太阳能
  • 2篇太阳能电池
  • 2篇匹配器
  • 2篇偏压
  • 2篇平板
  • 2篇平板式
  • 2篇微电子
  • 2篇微电子技术
  • 2篇谐振频率
  • 2篇离子刻蚀
  • 2篇金属
  • 2篇金属电极
  • 2篇刻蚀

机构

  • 6篇中国科学院微...

作者

  • 6篇周宗义
  • 6篇王佳
  • 6篇李兵
  • 6篇刘训春
  • 4篇张永利
  • 4篇张育胜
  • 2篇王建海
  • 2篇黄清华

年份

  • 3篇2010
  • 3篇2009
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
平板式等离子体增强化学汽相淀积设备的反应室结构
本发明一种平板式等离子体增强化学汽相淀积(PECVD)设备的反应室结构,涉及微电子技术,是由内真空室与外腔室嵌套组成;内真空室上段的顶壁由具有伸缩功能的波纹管与外腔室连接;内真空室上段的顶壁外侧通过螺杆与外腔室顶面的堵转...
刘训春周宗义李兵张育胜王佳张永利
文献传递
一种太阳能电池刻边机反应室结构
本发明一种太阳能电池刻边机反应室结构,它的腔壁与太阳电池片形状相似,呈方形,四角处可呈切角状或弧形,并作为产生辉光放电的射频供电的一个电极接地,腔室中间有一个金属电极接射频输出,该金属射频电极上放置有一结构特殊的载片架。...
刘训春周宗义李兵王佳张育胜张永利
文献传递
一种消除反应离子刻蚀自偏压的方法及系统
本发明公开了一种消除反应离子刻蚀自偏压的方法及系统,属于半导体加工制造领域。所述方法是:在反应离子刻蚀的反应室的两个电极间并联一个由电感线圈L和电容C组成的LC谐振回路,LC谐振回路的谐振频率与反应离子刻蚀的反应室的射频...
刘训春王佳周宗义李兵王建海黄清华
文献传递
一种消除反应离子刻蚀自偏压的方法及系统
本发明公开了一种消除反应离子刻蚀自偏压的方法及系统,属于半导体加工制造领域。所述方法是:在反应离子刻蚀的反应室的两个电极间并联一个由电感线圈L和电容C组成的LC谐振回路,LC谐振回路的谐振频率与反应离子刻蚀的反应室的射频...
刘训春王佳周宗义李兵王建海黄清华
文献传递
平板式等离子体增强化学汽相淀积设备的反应室结构
本发明一种平板式等离子体增强化学汽相淀积(PECVD)设备的反应室结构,涉及微电子技术,是由内真空室与外腔室嵌套组成;内真空室上段的顶壁由具有伸缩功能的波纹管与外腔室连接;内真空室上段的顶壁外侧通过螺杆与外腔室顶面的堵转...
刘训春周宗义李兵张育胜王佳张永利
文献传递
一种太阳能电池刻边机反应室结构
本发明一种太阳能电池刻边机反应室结构,它的腔壁与太阳电池片形状相似,呈方形,四角处可呈切角状或弧形,并作为产生辉光放电的射频供电的一个电极接地,腔室中间有一个金属电极接射频输出,该金属射频电极上放置有一结构特殊的载片架。...
刘训春周宗义李兵王佳张育胜张永利
文献传递
共1页<1>
聚类工具0