田修波
- 作品数：371 被引量：559H指数：12
- 供职机构：哈尔滨工业大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金教育部“新世纪优秀人才支持计划”哈尔滨市科技创新人才研究专项资金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术理学化学工程更多>>
- 高功率脉冲磁控溅射管内壁沉积Cr薄膜结构及性能被引量：1
- 2022年
- 由于管腔空间限制,物理气相沉积领域中管内壁沉积薄膜的均匀性和质量有待研究和改善。采用高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)在直径40 mm、长度120 mm的20#碳钢管内表面进行Cr薄膜沉积,并探究管内不同位置沉积Cr薄膜的结构和力学性能。采用SEM分析薄膜的截面形貌和厚度变化,采用AFM分析薄膜的表面形貌和表面粗糙度变化,采用XRD分析薄膜的晶相结构和晶粒尺寸,采用球-盘式旋转摩擦磨损试验机对薄膜的耐摩擦磨损性能进行测试。结果表明,随着管内深度的增加,距管口距离为15 mm(位置1)、45 mm(位置2)、75 mm(位置3)和105 mm(位置4)位置的膜层厚度分别为1690 nm、827 nm、210 nm和0 nm。从位置1到位置3,所沉积的Cr薄膜表面粗糙度由12.6 nm下降到4.8 nm,晶粒尺寸由15 nm增加到38 nm,摩擦因数由0.68上升到0.89。
- 吴厚朴田修波郑林林巩春志张辉
- 关键词：微观结构力学性能
- 利用可变磁控靶磁场调控薄膜结构和成分的镀膜系统及镀膜方法
- 利用可变磁控靶磁场调控薄膜结构和成分的镀膜系统及镀膜方法，属于磁控溅射薄膜沉积技术领域，本发明为解决现有技术针对不同成分和结构的复合薄膜制备工艺存在膜层成分和结构调控过程较为复杂的问题。它包括：将待镀件置于真空腔内，变化...
- 田修波吴厚朴巩春志
- 电感耦合等离子体管筒内表面离子注入改性装置及方法
- 电感耦合等离子体管筒内表面离子注入改性装置及方法，它涉及一种表面处理装置和处理方法。本发明为解决现有管筒内表面离子注入处理时因采用电容耦合等离子体使得放电间距大而难以对细管内表面进行处理的问题。装置：螺线管设置在管筒内，...
- 田修波汪志健杨士勤
- 文献传递
- 一种摩擦磨损实验机
- 一种摩擦磨损实验机，本发明涉及一种摩擦磨损过程的模拟、检测装置。它克服了传统的摩擦磨损试验装置存在一定的误差的缺陷。它包括转盘、旋转驱动装置、钢球和施压装置，它还包括试样阻值检测电路等，试样阻值检测电路由电源、电阻、采集...
- 田修波刘磊杨士勤
- 文献传递
- 阴极弧径向不同位置膜层性能分布规律被引量：5
- 2009年
- 利用阴极弧沉积的方法在201不锈钢基体上制备了TiN薄膜,研究了阴极弧径向不同位置大颗粒、膜厚以及膜层性能的分布规律。分别采用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)分析了膜层的相结构、膜层的表面形貌和截面形貌。研究了镀膜试样和基体在3.5%(质量分数)NaCl溶液中的腐蚀行为,并利用电化学方法分析其抗腐蚀性能,并采用球-盘式摩擦磨损、划痕测试以及微小压痕等方法测试了径向不同位置沉积的TiN薄膜摩擦磨损性能、膜基结合力以及硬度。结果表明,靠近靶材中心的位置,膜层的硬度、厚度最大,电化学腐蚀电位最高,在径向夹角20°处的膜层厚度、硬度最小。在靠近出气位置侧沉积的TiN薄膜大颗粒数目较多,造成表面缺陷增加,TiN薄膜的抗腐蚀性能下降。靠近弧源中心位置沉积的膜层摩擦磨损系数较大,两侧处的膜层摩擦系数较小,膜基结合力与表面形貌和膜层厚度有很大关系。
- 魏永强巩春志田修波杨士勤
- 关键词：多弧离子镀TIN电化学腐蚀
- 电场辅助脉冲增强柱状阴极弧在细长管筒件内壁快速均匀沉积金属薄膜的装置及方法
- 电场辅助脉冲增强柱状阴极弧在细长管筒件内壁快速均匀沉积金属薄膜的装置及方法，本发明为了解决常规方法难以满足细长管筒件内壁快速、均匀沉积大厚度薄膜的问题。本发明沉积金属薄膜的装置中磁钢座套设在柱状阴极靶材内部，磁钢座上设置...
- 田修波王本福巩春志
- 细长管筒内表面中空阴极等离子体表面处理装置及方法
- 细长管筒内表面中空阴极等离子体表面处理装置及方法。现在的离子注入方法存在分布不均匀的问题。本发明所述处理装置结构为一号金属管(1)和设置在一号金属管(1)内并与其相互绝缘的二号金属管(2)，所述一号金属管(1)与地连接，...
- 田修波杨士勤
- 文献传递
- 电感耦合等离子体离子注入内表面的数值仿真研究被引量：1
- 2010年
- 本文采用Particle-in-cell模型对采用电感等离子体离子注入处理管内表面的动力学过程进行数值仿真研究,考察了电感线宽对管内电势分布、鞘层重叠、离子平均注入能量、剂量和角度等的影响。计算结果表明随着电感线宽的增加,电感线圈对等离子体鞘层扩展的钳制作用增强,管内的鞘层重叠系数下降,电感内的离子消耗速度下降。在鞘层内电场力的作用下,离子会发生聚集,离子聚集点的位置随着电感线宽的增加向外移动。研究结果还表明通过增加电感线宽可以进一步提高管内表面的离子平均注入能量。离子注入以接近垂直的角度注入到管内表面,虽然电感线圈会产生阴影效应,但管内表面的阴影可以通过管与电感线圈的相对运动来消除。
- 汪志健田修波巩春志杨士勤Ricky Fu
- 一种等离子-冷喷涂的复合喷涂装置及复合涂层的喷涂方法
- 一种等离子‑冷喷涂的复合喷涂装置及复合涂层的喷涂方法，涉及一种喷涂装置及复合涂层的喷涂方法。为了解决现有的冷喷涂涂层制备工艺存在孔隙、裂纹造成涂层的力学性能差的问题。本发明等离子‑冷喷涂的复合喷涂装置由冷喷涂设备、等离子...
- 巩春志周长壮田修波
- 等离子体浸没离子注入圆筒内表面的时空尺度
- 等离子体浸没离子注入是传统离子注入的一个新发展。与工件外表面的注入不同,内表面的等离子体浸没离子注入存在空间和时间上的尺度。本文围绕这一主题展开了讨论。研究表明,由于内腔,如内筒的有限尺寸,使得注入电压的利用率降低、同时...
- 田修波D.T.K.Kwok童洪辉Paul.K.Chu
- 关键词：内表面等离子体浸没离子注入
