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文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇辐照效应
  • 2篇DLC膜
  • 1篇淀积
  • 1篇性能分析
  • 1篇离子束
  • 1篇类金刚石
  • 1篇溅射
  • 1篇辐照
  • 1篇高能
  • 1篇

机构

  • 3篇兰州大学
  • 2篇中国科学院兰...

作者

  • 3篇韩培刚
  • 2篇黄良甫
  • 2篇刘定权
  • 2篇王维洁
  • 1篇王天民
  • 1篇王天民
  • 1篇罗崇泰

传媒

  • 1篇核技术
  • 1篇材料科学进展

年份

  • 2篇1992
  • 1篇1990
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
DLC膜高能C^+束辐照效应的初步研究
1992年
用114keV的C^+束,在2×10^(16)ions/cm^2和1×10^(17)ions/cm^2两种剂量下对双离子束溅射淀积DLC膜(即类金刚石碳膜)进行了辐照。基片为玻璃。辐照过程中基片温度低于80℃。用红外透射光谱、Raman光谱及其拟合以及电阻率测量等手段对膜层进行了表征。结果表明,原淀积膜含有SP^3 C-C、SP^2 C-C、SP^3 C-H及SP^2 C-H等键,并且键角是无序化的。随C^+辐照,膜中SP^3 C-H键相对减少,SP^2 C-H键相对增多;同时,膜中键角无序化程度降低,结晶化程度增强,微晶在数量及尺寸上增大。这些结构上的变化导致了辐照膜层电阻率和红外透过率相对于原膜层大幅度的下降。
王维洁韩培刚王天民黄良甫刘定权
关键词:DLC膜辐照
双束溅射淀积DLC膜的结构表征和性能分析
1992年
用双离子束溅射淀积法,在轰击源含不同 CH_4流量比的条件下,于玻璃和 Si 基片上淀积了DLC 薄膜。用多种手段对所制备的膜进行了结构表征和性能分析。结果表明,轰击源中 CH_4流量比对DLC 膜的结构、形貌及其光、电性能有重要的影响。分析了影响机制,探讨了 DLC 膜的生长机理。
王维洁王天民韩培刚罗崇泰黄良甫刘定权
关键词:离子束溅射淀积DLC膜
类金刚石薄膜生长机理及其粒子辐照效应的研究
韩培刚
共1页<1>
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