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孙荣幸

作品数:6 被引量:26H指数:4
供职机构:华中科技大学材料科学与工程学院材料成形与模具技术国家重点实验室更多>>
发文基金:东莞市科研发展专项基金广东省东莞市科研发展专项基金更多>>
相关领域:金属学及工艺理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 5篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 6篇涂层
  • 5篇溅射
  • 5篇磁控
  • 5篇磁控溅射
  • 3篇硬涂层
  • 3篇射频磁控
  • 3篇射频磁控溅射
  • 3篇TIB2涂层
  • 3篇超硬
  • 3篇超硬涂层
  • 2篇TIB
  • 1篇性能分析
  • 1篇制备及性能
  • 1篇显微硬度
  • 1篇耐磨
  • 1篇耐磨性
  • 1篇结构特征
  • 1篇溅射法
  • 1篇溅射法制备
  • 1篇TI

机构

  • 6篇华中科技大学
  • 1篇武汉科技大学

作者

  • 6篇孙荣幸
  • 5篇戴伟
  • 5篇张同俊
  • 3篇李松
  • 1篇许聚良
  • 1篇杨君友

传媒

  • 2篇材料科学与工...
  • 1篇金属热处理
  • 1篇材料导报
  • 1篇材料工程

年份

  • 1篇2008
  • 4篇2006
  • 1篇2005
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
TiB_2和Ti-B-N涂层的性能对比研究被引量:4
2006年
用磁控溅射法在1Cr18Ni9Ti不锈钢上沉积了TiB2和Ti-B-N涂层。用场发射电子扫描显微镜(FESEM)和小掠射角X射线衍射(GAXRD)研究了涂层的结构与形貌,并对涂层的显微硬度进行了检测分析。研究表明:通入N2后,Ti-B-N涂层变得更为光滑平整,涂层结构由纳米柱状晶转为非晶结构,显微硬度降低。在室温无润滑条件下,检测了涂层的耐磨性能,结果表明Ti-B-N涂层的摩擦系数低于TiB2涂层,但涂层的耐磨性并没有得到提高。
孙荣幸张同俊戴伟李松
关键词:磁控溅射TIB2涂层显微硬度耐磨性
射频磁控溅射法制备TiB_2涂层及其性能分析被引量:14
2006年
利用射频磁控溅射技术在硅和钢片上沉积了TiB2涂层。采用场发射电子扫描显微镜(FESEM),小掠射角x射线衍射(GAXRD)及X射线光电子能谱(XPS)分别研究了涂层的横截面形貌,晶体结构以及涂层中的元素和化学状态。同时,对涂层的显微硬度和残余应力进行了表征。结果表明,利用射频磁控溅射法制备的TiB2涂层平整光滑,结构致密,沿[001]晶向择优生长,具有纳米晶结构,硬度显著提高,而且残余压应力较低。
孙荣幸张同俊戴伟李松
关键词:射频磁控溅射TIB2涂层残余应力
Ti-B-C-N系超硬涂层的研究进展被引量:2
2005年
Ti-B-C-N系超硬涂层因具有优异的物理、化学、机械等综合性能而备受关注。介绍了Ti-B-C-N系超硬涂层的制备方法和近年来取得的研究成果,重点是TiB2、Ti-B-N、Ti-B-C-N单层膜和纳米复合膜的研究,并分析了纳米复合膜在使用过程中存在的问题,指出了其发展方向。
孙荣幸张同俊戴伟
关键词:超硬涂层TIB2
TiB<,2>和Ti-B-N超硬涂层的研究
Ti-B-C-N 系超硬涂层具有优良的物理、化学、机械等综合性能,可用作轴承、汽轮机叶片、刀具、模具等量大面广的各种工业机件的耐磨保护层。 本文首先对Ti-B-C-N 系单层、纳米复合超硬涂层的研究进展进行了系...
孙荣幸
关键词:磁控溅射超硬涂层
文献传递
射频磁控溅射超硬TiB2薄膜的T区结构特征被引量:5
2008年
用磁控溅射技术在钢基片上沉积出具有T区结构的TiB2薄膜,研究基片偏压对薄膜的影响。使用X射线衍射技术和扫描电镜分析薄膜的特性。发现在本研究工艺条件下,所有的薄膜均呈(001)晶面择优生长。当基片偏压在-50 V时,薄膜的硬度为50 GPa,抗塑性变形的能力为0.65 GPa。加大基片偏压,导致薄膜晶粒尺寸减小,同时薄膜的硬度和抗塑性变形的能力也下降。扫描电镜分析显示,基片温度对T区结构的影响是明显的,提高基片温度,当Ts/Tm=0.18时,薄膜中出现"等轴"结构。
戴伟张同俊杨君友孙荣幸许聚良
关键词:超硬涂层磁控溅射
纳米结构TiB_2涂层的制备及性能被引量:5
2006年
利用射频磁控溅射技术在冷作模具钢片上沉积了TiB2涂层。分别采用场发射扫描电子显微镜和小掠射角X射线衍射方法研究了涂层横截面的形貌和晶体结构,并对涂层的纳米硬度和摩擦性能进行了表征。结果表明,TiB2涂层的厚度均匀,结构致密,沿(001)晶向择优生长,具有纳米晶结构,硬度显著提高,耐磨性能好。
孙荣幸张同俊戴伟李松
关键词:射频磁控溅射TIB2涂层
共1页<1>
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