高慧莹
- 作品数：11 被引量：37H指数：4
- 供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信电气工程更多>>
- PG-510型单面抛光机的研制被引量：4
- 2010年
- 介绍了针对蓝宝石衬底表面纳米级抛光工艺而研制的PG-510单面抛光机的主要结构及其性能特点,简要论述了抛光过程中各工艺参数的控制方案,并通过实验验证了设备的主要性能指标,能够满足蓝宝石衬底表面纳米级抛光的工艺要求。
- 刘涛高慧莹罗杨费玖海
- 关键词：蓝宝石CMP工艺
- 粘片机夹持定位机构的设计与运动分析
- 2008年
- 夹持定位机构作为粘片机的一个重要机构。介绍了夹持定位机构的功能、结构原理及运动原理;然后通过COSMOS/Motion软件对该机构进行仿真,从而确定该机构达到设计要求。
- 刘洋高慧莹
- 关键词：粘片机
- 音圈电机在探头机构中的应用
- 2008年
- 描述了在探头机构中,应用恒力矩控制模式对直线电机进行控制,并通过试验分析,得出驱动器SQ参数、电压和力的关系。
- 高慧莹
- 关键词：直线电机
- 修正飞针测试系统测试点坐标的解决方法被引量：2
- 2017年
- 飞针测试系统是用来测量混合电路板、LTCC基板、PCB板的各网络间开路、短路、绝缘以及电容的专业电子芯片检测设备。针对飞针测试系统中测试坐标点的修正提出了一种解决方法,不仅能准确得出对待测基片的平移偏距,也能够通过算法计算出待测基片的旋转角度,综合考虑平移和旋转这两点的因素最终确定待测点的实际位置坐标。
- 左宁高慧莹
- 半导体设备屏蔽腔体设计过程中的屏蔽效能分析被引量：1
- 2022年
- 介绍了半导体设备电磁屏蔽的原理及其必要性。从屏蔽腔体设计角度出发,详细分析了腔体屏蔽效能、缝隙屏蔽效能和孔洞屏蔽效能的主要影响因素。结合实际应用,给出了材料选择和结构设计的建议方法。
- 刘洋高慧莹
- 关键词：电磁屏蔽屏蔽效能反射损耗吸收损耗
- 提高多芯片拼接线性度的新方法
- 2021年
- 为实现多芯片集成高精度拼接,对芯片拼接线性度进行了深入研究,提出了一种保证高精度芯片集成拼接方法。通过CCD图像匹配、识别定位每个芯片的实际位置坐标,根据已经拼接完成的芯片位置坐标拟合,进行芯片逐步预定位,及时纠偏,拼接完成后进行每一行芯片的直线度和行与行之间平行度的检测,介绍了芯片集成拼接工艺流程和拼接方法,并对检测算法进行了仿真分析,实例验证,证明该拼接方法的可行性。
- 高慧莹左宁艾博
- 关键词：直线度平行度
- 化学机械抛光压力控制技术研究被引量：6
- 2010年
- 概述了化学机械抛光技术的发展现状,讨论分析了主要工艺参数对抛光机理的影响。重点论述了化学机械抛光工艺中不同压力控制方法及其技术特点,提出了一种新的压力控制方案,并通过实验验证了该控制技术的先进性。
- 刘涛高慧莹张领强陈学森
- 关键词：化学机械抛光压力控制
- 化学机械抛光在MEMS中的应用被引量：2
- 2011年
- CMP在MEMS的多晶硅表面的微机械加工过程中起着至关重要的作用。为了更详细的了解CMP在MEMS加工中的应用,从MEMS的发展,工艺流程、CMP在MEMS制造中的不足以及我国CMP在MEMS制造中的发展现状等方面进行了论述。
- 高慧莹
- 关键词：微机电系统化学机械抛光
- 抛光盘、抛光头转速比对化学机械抛光效果的影响分析被引量：2
- 2011年
- 针对化学机械抛光(CMP)过程中,抛光盘、抛光头转速比不同,其晶片的抛光效果不同的现象,从运动学角度详细分析了CMP过程中晶片上任一点的去除速度和运动轨迹,并通过Matlab进行仿真,找出转速比与去除速度和运动轨迹的函数关系。
- 高慧莹费玖海
- 关键词：化学机械抛光
- 蠕动泵原理及在化学机械抛光过程中的应用被引量：10
- 2010年
- 主要分析了蠕动泵的组成和工作原理,描述了蠕动泵在化学机械抛光过程中的应用特点和优势。详细介绍了蠕动泵在应用过程中的控制方法和选用注意事项。
- 高慧莹刘涛孙振杰
- 关键词：蠕动泵化学机械抛光泵头
