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黄海苟

作品数:8 被引量:10H指数:2
供职机构:厦门大学化学系更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信金属学及工艺理学更多>>

文献类型

  • 5篇会议论文
  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 5篇刻蚀
  • 4篇电化学
  • 4篇约束刻蚀剂层...
  • 2篇砷化镓
  • 2篇微加工
  • 2篇金属
  • 2篇规整
  • 1篇电板
  • 1篇电化学刻蚀
  • 1篇微机电系统
  • 1篇微系统
  • 1篇微型机电系统
  • 1篇金属材料
  • 1篇机电系统
  • 1篇
  • 1篇CELT
  • 1篇GAAS
  • 1篇电系统

机构

  • 8篇厦门大学
  • 3篇哈尔滨工业大...
  • 1篇清华大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 8篇黄海苟
  • 5篇孙建军
  • 4篇蒋利民
  • 4篇田中群
  • 3篇田昭武
  • 2篇毛秉伟
  • 1篇孙立宁
  • 1篇周兆英
  • 1篇程旋
  • 1篇陈意安
  • 1篇董申
  • 1篇刘柱方
  • 1篇卢泽生
  • 1篇叶雄英
  • 1篇罗瑾
  • 1篇刘品宽
  • 1篇夏善红

传媒

  • 2篇电化学
  • 1篇第十一次全国...
  • 1篇第四届全国微...
  • 1篇第五届全国微...
  • 1篇第十届全国电...

年份

  • 1篇2002
  • 3篇2001
  • 3篇2000
  • 1篇1999
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
镍的电化学微加工技术研究
孙建军黄海苟罗瑾
关键词:
约束刻蚀剂层技术用于砷化镓三维规整细微图形的复制加工
该论文开展了下面的一些研究工作:一、化学模板电极的制备.设计出微齿轮状、金字塔状等规整微图形,通过合作单位利用体硅工艺制成硅材料的模板.通过逐渐优化制作过程,摸索出一条较为成熟电化学模板的制作工艺.二、用规则模板对半导体...
黄海苟
关键词:微系统约束刻蚀剂层技术电化学砷化镓
文献传递
约束刻蚀剂层技术用于半导体GaAs抛光整平的研究
简单介绍了现有的一些抛光技术,着重阐述了一种具有高度距离敏感性的抛光整平技术——约束刻蚀剂技术的原理.并利用该技术以光滑的微圆盘电极Pt作模板,对粗糙的GaAs表面进行抛光平整,获得了表面粗糙度为3.5nm的平整表面,显...
黄海苟孙建军蒋利民刘品宽孙立宁田中群田昭武
文献传递
用规整膜板对砷化镓的三维微结构图形加工刻蚀被引量:4
2000年
以微齿轮图形结构作为规整模板 ,用约束刻蚀剂层技术对GaAs样品表面进行了加工刻蚀 .在有捕捉剂H3AsO3存在的情况下 ,规则微齿轮图形能够很好地在样品表面复制 .刻蚀结果与没有捕捉剂存在时的刻蚀结果做了比较 .另外还测试了不同方法制得膜板的性能 ,初步探讨了电化学模板的制作工艺 .
黄海苟孙建军叶雄英蒋利民罗瑾卢泽生董申田中群周兆英田昭武
关键词:CELT
金属的电化学微区刻蚀方法被引量:5
2002年
本文概述了现行的金属微区刻蚀方法并详细地介绍几种电化学刻蚀方法 ,比较了掩膜法、扫描电化学显微镜法、约束刻蚀剂层法、电化学扫描遂道显微镜法和超短电位脉冲法各自的特点 .从加工精度 (能否进行微米和纳米级加工 )、加工效率 (工序复杂程度 ,能否批量制造或复制 )、可用范围 (主要是能否加工复杂三维立体结构 )等各项因素进行了综合分析 ,结果表明 ,各种加工方法各有其优缺点 ,从总的效果来看 。
蒋利民田中群刘柱方毛秉伟黄海苟孙建军
关键词:金属电化学刻蚀约束刻蚀剂层技术微加工
GaAs微孔阵列的复制加工
以“金字塔”状的锥体阵列作为电化学模板,利用约束刻蚀剂层技术对半导体GaAs进行加工刻蚀。成功地复制出微孔阵列,并且其排列周期与模板的微锥阵列的排列周期吻合的很好。
黄海苟孙建军陈意安蒋利民夏善红刘品宽孙立宁田昭武田中群
关键词:约束刻蚀剂层技术微加工
文献传递
金属材料的电化学微区刻蚀方法
本文仅就当前所出现的几种电化学微刻蚀方法,进行综合评述.
蒋利民田中群黄海苟毛秉伟孙建军田昭武
关键词:金属材料电板
文献传递
电化学在微型机电系统中的应用
通过列举电化学在微型机电系统中的应用,表明电化学在MEMS的微加工、微型电源和许多基础问题方面皆大有可为,同时微系统的兴起也为电化学提供新的发展机遇.
田中群孙建军黄海苟程旋蒋利民田昭武
关键词:微机电系统电化学
文献传递
共1页<1>
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