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宋学平

作品数:7 被引量:20H指数:3
供职机构:安徽大学物理与材料科学学院更多>>
发文基金:安徽省优秀青年科技基金国家自然科学基金安徽省自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 5篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 5篇光致
  • 5篇光致发光
  • 5篇发光
  • 4篇射线衍射
  • 4篇X射线衍射
  • 3篇衬底
  • 3篇ZNO薄膜
  • 2篇溅射
  • 2篇发光特性
  • 2篇SI(111...
  • 2篇掺杂
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇电路
  • 1篇氧化锌
  • 1篇摇摆曲线
  • 1篇应力
  • 1篇退火
  • 1篇退火温度
  • 1篇微结构

机构

  • 7篇安徽大学
  • 3篇中国科学院上...

作者

  • 7篇宋学平
  • 5篇孙兆奇
  • 4篇刘艳美
  • 3篇李爱侠
  • 3篇周圣明
  • 3篇汪洪
  • 2篇苏凤莲
  • 2篇吴桂芳
  • 1篇林伟
  • 1篇石市委
  • 1篇刘琦
  • 1篇吴明在
  • 1篇尹平
  • 1篇王荣
  • 1篇刘勇
  • 1篇吕庆荣
  • 1篇方庆清
  • 1篇李洪霞
  • 1篇孙侠
  • 1篇李敏

传媒

  • 3篇人工晶体学报
  • 2篇安徽大学学报...
  • 1篇真空电子技术
  • 1篇中国真空学会...

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2010
  • 2篇2006
  • 1篇2005
  • 1篇2004
  • 1篇2003
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
溅射硅基铜膜厚度与应力关系研究被引量:4
2003年
采用光学相移法 ,对不同厚度硅基铜膜在特定退火温度 (2 0 0℃ )下的应力变化进行了研究。研究表明 :膜厚在10 3~ 2 2 8nm之间的平均应力和应力差的变化比较小 ,应力分布比较均匀。
吴桂芳宋学平王荣刘琦孙兆奇
关键词:退火温度膜厚应力
Al_2O_3衬底上生长ZnO薄膜的结构和光学特性被引量:4
2006年
用脉冲激光沉积法在A l2O3(0001)衬底上沉积了ZnO薄膜。衬底温度分别为300℃、400℃、500℃、600℃和700℃。利用X射线衍射(XRD)和光致发光谱(PL)对薄膜的结构和光学性能进行研究。X射线衍射的结果表明在不同温度下生长的ZnO薄膜均具有高度c轴择优取向,衬底温度400℃时,膜的应力较小质量较高。ZnO薄膜有很强的紫外发光峰,紫外发光峰的强度与衬底温度密切相关,并发现当衬底温度从300℃增到400℃时,紫外发射峰出现6nm的蓝移。
汪洪苏凤莲宋学平刘艳美李爱侠周圣明孙兆奇
关键词:ZNO薄膜脉冲激光沉积X射线衍射光致发光谱
Si(111)衬底上ZnO薄膜的磁控溅射法制备及表征被引量:2
2005年
采用磁控溅射法在(111)单晶硅衬底上沉积了ZnO薄膜,并研究了退火温度对ZnO薄膜晶体质量、晶粒度大小、应力和光致发光谱的影响。X射线衍射(XRD)表明薄膜为高度c轴择优取向。不同退火温度下的ZnO薄膜应力有明显变化,应力分布最为均匀的退火温度为500℃。室温下对ZnO薄膜进行了光谱分析,可观测到明显的紫光发射(波长为380nm左右)。实验结果表明,用磁控溅射法在单晶硅衬底上能获得高质量的ZnO薄膜。
汪洪周圣明宋学平刘艳美李爱侠
关键词:ZNO薄膜磁控溅射X射线衍射光致发光
掺铝氧化锌薄膜的低温发光特性
使用水热法在石英衬底上制备了掺铝氧化锌薄膜,采用X射线衍射仪,扫描电子显微镜和低温光致发光谱技术对薄膜的微结构和发光性能进行了表征。结果表明:薄膜由直径在200nm以下的氧化锌纳米锥构成,且具有明显的沿c轴择优生长的特征...
石市委李洪霞宋学平孙兆奇
关键词:氧化锌铝掺杂光致发光
Co掺杂对ZnO纳米棒阵列的结构和性质的影响被引量:1
2010年
通过70℃水热反应制备高密度排列的Zn1-xCoxO(x=0.05,0.10和0.15,统记为ZnCoO)纳米棒阵列,用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、X射线光电子能谱(XPS)和光致发光光谱(PL)进行表征.结果表明:Co2+替代Zn2+掺入了ZnO的晶格中,纳米棒沿[0001]方向垂直生长在含ZnO种子层的玻璃上,纳米棒平均直径约为150nm,长4.5μm.ZnO种子层和Co掺杂在ZnCoO纳米棒成核和择优生长中起着重要作用.PL光谱是由宽紫外光带(UV)和可见光(VL)构成.ZnCoO纳米棒阵列UV峰位与纯ZnO的相比发生了蓝移.随着Co含量的增加,UV峰明显宽化并发生红移.文中对紫外峰的宽化和红移起因以及ZnCoO阵列的形成机制进行了讨论.
刘艳美孙侠李敏吕庆荣宋学平吴明在方庆清
关键词:ZNO纳米棒阵列光致发光CO掺杂X射线衍射摇摆曲线
衬底温度对溅射硅基铜膜(Cu/Si)应力的影响研究被引量:8
2004年
薄膜应力的存在是薄膜制备过程中需要认真考虑的普遍问题。本文对溅射硅基铜膜应力受衬底温度的影响进行了讨论。实验中衬底温度分别设定为室温,50℃,100℃,150℃,200℃,250℃。实验表明:衬底温度在50~200℃之间时,铜膜平均应力变化较小,为-3.920×108Pa,应力差变化也较小。
吴桂芳宋学平刘勇林伟孙兆奇
关键词:衬底温度基片温度微结构薄膜应力超大规模集成电路
退火对Si(111)衬底上ZnO薄膜的结构和发光特性的影响被引量:1
2006年
采用磁控溅射法在硅(111)衬底上制备了C轴高度取向的ZnO薄膜,并研究了退火温度和氧气气氛对ZnO薄膜晶体质量、晶粒度大小和光致发光谱的影响。X射线衍射表明,所有薄膜均为高度C轴择优取向,当退火温度低于900℃时,随着退火温度的升高,薄膜的取向性和结晶度都明显提高。室温下对ZnO薄膜进行了光谱分析,退火后的样品均可观测到明显的紫光发射。在一定的退火温度范围内,还可以观测到明显的紫外双峰。空气中退火的样品,当退火温度达到或高于600℃还可观测到绿光发射。实验结果表明,发光峰强度随退火温度和氧气气氛不同而不同,通过改变退火时的温度和氧气气氛可以改变ZnO薄膜的微结构和发光性质。
汪洪苏凤莲周圣明宋学平刘艳美李爱侠尹平孙兆奇
关键词:ZNO薄膜磁控溅射X射线衍射光致发光
共1页<1>
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