康洪
- 作品数：7 被引量：3H指数：1
- 供职机构：四川大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：国家教育部博士点基金高等学校科技创新工程重大项目国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学电气工程自然科学总论一般工业技术更多>>
- 掺Ti和未掺Ti的α-Fe_2O_3薄膜光电性质的研究被引量：1
- 2010年
- 本文采用旋涂法制备了掺Ti和未掺Ti的Fe2O3薄膜,并对其薄膜的结构和光电特性进行了系统测试分析。XRD结果证实掺Ti和未掺Ti的薄膜均为α-Fe2O3。SEM测试表明α-Fe2O3薄膜微观结构为纳米线结构,具有沟壑结构,粒径长度约为150nm,掺杂Ti使薄膜更均匀致密,晶体颗粒更小,比表面积更大。紫外-可见光谱实验发现了掺杂Ti使薄膜产生"蓝移",禁带宽度大,验证了SEM测试结果。IPCE实验结果结果说明了掺杂Ti的α-Fe2O3薄膜的光电性能大大好于未掺杂的薄膜。
- 刘小峰姜春萍杨鑫练晓娟康洪刘尚军彭德权陈金伟王瑞林
- 关键词：旋涂法IPCE
- 前驱液中双氧水量和退火温度对WO3薄膜光电化学性质的影响
- 本文使用了以WO3粉体为W源合成含多种W络合离子作为前驱液，采用超声喷雾热裂解法（USP）制备了WO3薄膜，系统地研究了前驱液中H2O2添加量、薄膜沉积温度和薄膜退火温度对该薄膜光电化学性能的影响。XRD、UV-VIS和...
- 彭德权杨鑫姜春萍陈金伟张艳辉郝金玲康洪王瑞林
- 关键词：三氧化钨光电化学水解制氢
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- 电沉积WO3薄膜及其光电性能的表征
- 本文采用电化学法制备了均匀、附着力强的WO3薄膜。研究了不同沉积电位和不同的沉积时间对薄膜的光电性能影响，并使用了XRD，UV-VIS，M-S，光电流光谱（IPCE） 等分析表征手段对薄膜进行了表征。实验结果表明，所制得...
- 郝金玲姜春萍张艳辉杨鑫康洪陈金伟彭德权王瑞林
- 关键词：电沉积光催化分解水
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- 反应溅射条件对WO_3薄膜光电性能的影响与探索
- 2012年
- 使用反应溅射法在FTO导电玻璃基底上制备了附着力强、表面光滑、均匀的WO3光电薄膜,系统地研究了氩气与氧气流量比和溅射功率对该薄膜光电性能的影响。通过XRD、AFM、Mott-Schottky(M-S)分别分析薄膜的物相、形貌、光电性质。光电转化效率(IPCE)测试表明:当氩氧流量比为2和溅射功率250 W时,WO3薄膜的光电性能最好。该薄膜在400 nm波长处的IPCE值高达40%。
- 续颖杨鑫刘尚军姜春萍康洪高子辰陈金伟王瑞林
- 关键词：WO3反应溅射水解制氢
- 电沉积WO_3薄膜及其光电性能的表征被引量：2
- 2010年
- 本文采用电化学法制备了均匀、附着力强的WO3薄膜,研究了不同沉积电位和不同的沉积时间对薄膜的光电性能影响,并使用了XRD,UV-vis,M-S,光电流光谱(IPCE)等分析表征手段对薄膜进行了表征。实验结果表明,所制得的WO3薄膜为单斜晶系,退火后沿(200)晶面择优生长;对比所有沉积电位,-0.45 V沉积电位(vs.SCE)所获得的WO3薄膜均匀致密,薄膜的带边在460 nm(≈2.7 eV),其光电转换性能最好;在实验范围内薄膜越厚,其光电转换性能越好。
- 郝金玲姜春萍张艳辉杨鑫康洪陈金伟练晓娟刘尚军王瑞林
- 关键词：电沉积光催化分解水
- 双氧水和退火温度对WO_3薄膜光电化学性质的影响
- 2010年
- 以WO3粉体合成的W络合离子作为前驱液,超声喷雾热裂解法（USP）制备出WO_3薄膜,研究前驱液中H_2O_2添加量、薄膜沉积温度和薄膜退火温度对WO_3薄膜光电化学性能的影响,利用XRD、UV-vis和光电流光谱（IPCE）等对薄膜进行表征,实验结果表明,USP制备的WO_3薄膜为单斜相且沿（200）晶面优势生长;前驱液中双氧水量的增加导致WO_3薄膜禁带宽度（E_g）增加;薄膜的平带电位（Vfb）在-0.27^-0.05V之间（vs.SCE,pH=7）,且掺杂浓度随退火温度升高而降低;在0.1M的Na_2SO_3溶液中,薄膜的IPCE随退火温度升高而降低,随H_2O_2量的减小IPCE增高。
- 彭德权杨鑫姜春萍陈金伟张艳辉郝金玲康洪王瑞林
- 关键词：三氧化钨光电化学水解制氢
- 氧化亚铜光电薄膜电沉积制备及其性质的研究
- 本文采用了电化学沉积法在FTO导电玻璃上制备了透明氧化亚铜薄膜。通过改变沉积电压及时间得到了性能不同的薄膜，对所得到的样品进行了XRD、UV、IPCE等测试。结果发现电沉积薄膜主要成分为氧化亚铜，其中存在很少量的氧化铜;...
- 张艳辉姜春萍杨鑫续颖康洪刘尚军练晓娟陈金伟王瑞林
- 关键词：氧化亚铜光电转换电化学沉积
- 文献传递
