张怡霄
- 作品数：30 被引量：86H指数：6
- 供职机构：四川大学物理科学与技术学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家教育部博士点基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程理学核科学技术更多>>
- 亮暗衬线法校正邻近效应及其实验研究被引量：1
- 2000年
- 光学光刻中的邻近效应校正是实现亚微米光刻的必要手段。作者基于波前加工的思想 ,提出亚分辨亮暗衬线结合辅助线条实现邻近效应校正的方法 ,分析了其校正机理 ,采用这种新方法 ,在可加工 0 .7μm光刻图形的I线投影曝光装置上加工出了 0 .5μm的光刻图形 ,取得了较好的实验结果 ,并与其它邻近效应的校正方法进行了比较。
- 杜惊雷粟敬钦姚军张怡霄高福华杨丽娟崔铮
- 关键词：光学邻近校正
- 用于惯性约束聚变驱动器的色分离光栅-光束采样光栅集成元件的制作被引量：3
- 2006年
- 针对惯性约束聚变(ICF)驱动系统特别是其终端光学系统对元件数和元件厚度的限制要求,利用衍射光学元件(DOE)易于集成的优点,提出一种在石英基片的两面分别曝光制作色分离光栅(CSG)和光束采样光栅(BSG)的新方法,仅需一个石英片即可同时实现谐波分离和光束采样的功能.分别采用光学制版和电子束直写的方法制作了色分离光栅和光束采样光栅的掩模,并利用离子束刻蚀的方法加工了色分离光栅-光束采样光栅集成元件.结果表明,此集成元件的三倍频光能量利用率、色分离度以及采样效率等参数均与三倍频光通过色分离光栅、光束采样光栅分离元件时得到的结果相吻合,达到了惯性约束聚变激光驱动器终端光学系统的基本技术指标要求.
- 张怡霄高福华姚欣李剑峰郭永康
- 关键词：集成光学衍射光学元件
- 部分相干分数域滤波改善光刻分辨率新方法被引量：3
- 2003年
- 基于部分相干成像和分数傅里叶变换 ,提出在投影光刻系统中 ,利用分数域滤波改善光刻图形质量的新方法 理论和模拟分析表明 :在曝光成像系统中的适当位置加入分数域滤波器 ,能增强滤波操作的灵活性和效果 ,可更有效地改善光刻图形质量 。
- 杜惊雷张怡霄杨静刘世杰肖啸郭永康杜春雷
- 关键词：光学光刻
- 光束取样光栅强激光近场调制及诱导损伤研究被引量：2
- 2008年
- 光束取样光栅(BSG)是一种重要的用于光束取样诊断的衍射光学元件.在惯性约束聚变(ICF)终端光学系统中所使用的BSG,强激光产生的近场调制可能导致其自身的激光诱导损伤从而造成元件不能继续正常工作,为了对其在强激光条件下的正常运行提供分析的依据,采用傅里叶模式理论对BSG内部的近场调制特性进行了模拟计算.计算结果表明,BSG基片内部调制度较小,但仍然存在光强分布不均的情况,增加了这些位置产生激光诱导损伤的风险.另外,通过对BSG制作误差分析得出了其近场调制随各种制作误差的变化关系,结果表明BSG刻槽深度误差比占空比误差对光束近场调制的影响更大,但只要刻槽深度误差不超过一定值,其调制度仍然保持在较小的水平,因此BSG仍能较好地在ICF驱动器中工作.
- 姚欣高福华李剑峰张怡霄温圣林郭永康
- 关键词：激光诱导损伤惯性约束聚变
- 利用严格模式理论分析光栅透镜的衍射特性被引量：4
- 2005年
- 光栅透镜因其独特的光学性能而具有广泛的应用.根据光栅透镜的线宽和间距微小渐变的特点,建立了光栅透镜的物理模型,并利用严格模式理论对其衍射特性进行分析.该方法物理概念清晰、公式简洁.对光栅透镜实现谐波分离、聚焦功能时的衍射效率与槽深关系的计算结果表明,其计算速度快、数值计算结果准确可靠.并对加工误差的影响进行了模拟计算,说明了在当前的微细加工的工艺水平条件下,能够制作出满足ICF系统要求的光栅透镜.实验上制作了尺寸为100mm的大面积光栅透镜,其衍射效率的实验测试结果与理论计算结果一致.
- 唐雄贵高福华高峰张怡霄杜惊雷郭永康
- 关键词：衍射光学
- 用全息元件实现变形分数傅里叶变换被引量：6
- 2000年
- 提出用全息元件实现变形分数傅里叶变换 .用全息方法制作在两个方向上具有不同焦距的变形柱透镜 ,且两方向上的焦距可随全息元件记录条件不同而改变 .用此元件实现了在不同方向上具有不同阶的变形分数傅里叶变换 ,讨论了用全息元件实现这种变换的条件 .并提出用此元件构成一种新的光学安全认证系统 。
- 郭永康黄奇忠杜惊雷张怡霄姚军高峰
- 关键词：全息元件分数傅里叶变换光学信息处理
- 惯性约束聚变驱动器连续相位板前置时频率转换晶体内部光场研究被引量：3
- 2011年
- 本文针对惯性约束聚变驱动器终端光学系统中连续相位板置于基频光路(前置)时,频率转换晶体内部光场分布进行了研究.经研究发现连续相位板前置对基频光的相位调制降低了频率转换效率,增大了频率转换晶体内部光场的不均匀性,它导致晶体激光诱导损伤风险的可能性加大.值得特别注意的是:在频率转换晶体入射和出射端面附近激光调制度和最大光强相对于其他区域高,发生激光诱导损伤的可能性相对更大.因此当不断增大频率转换系统输入的基频光光强时,为保证惯性约束聚变终端光学系统的正常运行需要把连续相位板前置对频率转换晶体内部光场分布的影响控制在容许范围之内.
- 占江徽姚欣高福华阳泽健张怡霄郭永康
- 关键词：惯性约束聚变激光诱导损伤
- 用灰阶编码掩模进行邻近效应校正的实验研究被引量：1
- 2000年
- 利用灰阶编码掩模实现光学邻近效应精细校正是改善光刻图形质量的有效方法 ,设计并利用电子束直写系统加工了用于实现邻近效应校正的灰阶编码掩模 ,首次在投影光刻系统上用这一方法实现了光学邻近效应校正 ,获得了满意的实验结果 ,在可加工 0 7微米的I线曝光装置上获得了经邻近效应校正的 0 5微米光刻线条。
- 杜惊雷粟敬钦张怡霄郭永康崔铮
- 关键词：光学邻近效应校正光学光刻
- 误差扩散法设计用于惯性约束聚变驱动器的色分离光栅-光束采样光栅集成元件
- 2007年
- 针对多次曝光法制作集成衍射光学元件时存在的加工制作复杂,会引入较大的对位误差等问题,基于计算全息中的误差扩散编码原理及部分相干光成像理论,提出采用误差扩散编码方法来设计用于制作浮雕结构集成元件的编码掩模的新方法。给出了利用误差扩散法设计的色分离光栅-光束采样光栅(CSG-BSG)集成元件编码掩模,模拟计算了经部分相干成像系统后的空间像光强分布,并与理想的集成元件面形进行了比较。结果表明,校正后均方差为7.5%,体积偏差为10.2%。
- 张怡霄姚欣高福华郭永康
- 关键词：集成光学
- 光学邻近效应与掩模特征尺寸的关系
- 1998年
- 依据物的空间频谱分布、部分相干成象理论及空间滤波概念，分析了投影光刻中的掩模特征尺寸与光学邻近效应（ＯＰＥ）的关系。
- 石瑞英杜开瑛郭永康姚军张怡霄崔铮
- 关键词：投影光刻掩模光学效应
