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电子束曝光中低能电子散射的模拟: 2009年; 介绍了Pendry弹性散射截面,描述了电子在固体中的散射过程,包括散射步长、散射角、方位角和散射点处能量的确定,并将Pendry截面和Monte Carlo计算方法应用到电子散射过程中。分别改变入射电子束能量、抗蚀剂厚度和衬底材料,模拟了能量不超过5keV的低能电子束在PMMA抗蚀剂中的散射轨迹。模拟结果表明,低能电子束曝光同样可应用于较高分辨率的表面成像技术工艺。通过对模拟结果和电子束曝光实验比较分析,可以进一步完善散射模型,为更深入开展电子束曝光技术的应用研究创造有利条件,同时也为开发低成本的低能电子束曝光系统提供了理论依据。; 罗晓斌于肇贤; 关键词：电子束光刻分辨率

电子束曝光模型的研究: 电子束曝光模型是研究电子束光刻技术的理论工具，它源于现实曝光过程中的微观现象，同时又可以为曝光实验提供参考依据和指导。　　本文利用Monte Carlo计算方法模拟了低能电子在PMMA抗蚀剂中的散射过程，分别改变入射...; 罗晓斌; 关键词：电子束电子散射分辨率抗蚀剂光刻技术; 文献传递

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罗晓斌