万志华
- 作品数：11 被引量：33H指数：4
- 供职机构：中国科学院兰州物理研究所更多>>
- 发文基金：航天支撑技术基金更多>>
- 相关领域：机械工程一般工业技术理学金属学及工艺更多>>
- 磁控溅射防锈MoS_2薄膜沉积工艺研究被引量：3
- 2002年
- 介绍了磁控溅射制备防锈MoS2薄膜的沉积工艺,同时对影响膜层性能的几个因素进行了初步的探讨,并且制备了防锈性能优良的MoS2薄膜样品。
- 陈焘郭等柱万志华白芝芳
- 关键词：磁控溅射MOS2薄膜二硫化钼固体润滑剂
- 磁控溅射MoS_2/Sb_2O_3复合膜的润滑失效分析被引量：3
- 2002年
- 磁控溅射法制备了MoS2 /Sb2 O3 固体润滑复合膜 ,用CSEM摩擦试验机、CSEM纳米划痕仪和PHI- 5 70 2XPS/AES多功能电子能谱仪 ,考察了其摩擦磨损性能、抗损伤性能和抗氧化性能 ,侧重分析了薄膜失效的原因 。
- 贾付云赵云平万志华颜昌林黄良甫
- 关键词：润滑失效磁控溅射二硫化钼氧化锑
- 靶功率对射频磁控溅射制备MoS_2-Sb_2O_3复合薄膜结构和性能的影响被引量：4
- 2011年
- 采用射频磁控溅射技术制备MoS2-Sb2O3复合薄膜,研究靶功率对薄膜性能和结构的影响。利用XRD、XRF分析薄膜的成分和结构,用CSM薄膜综合性能仪测试薄膜的硬度及附着力,通过承载力试验测试薄膜的承载性能,使用真空球-盘摩擦试验机测试真空和大气下薄膜的摩擦因数及耐磨寿命。结果表明:使用射频磁控溅射制备的MoS2-Sb2O3复合薄膜具有准非晶结构,其薄膜结构和成分受沉积时的靶功率影响;MoS2-Sb2O3复合薄膜在真空下具有比大气下更稳定的摩擦学性能,更长的耐磨寿命;提高溅射原子能量能有效地提高MoS2-Sb2O3复合薄膜的承载性能,减少薄膜的内应力,提高薄膜的附着力,提高薄膜的耐磨寿命。
- 张延帅周晖万志华桑瑞鹏郑军
- 关键词：射频磁控溅射
- 溅射沉积MoS_2薄膜中掺杂Ti对其结构与性能的影响研究被引量：9
- 2006年
- 采用非平衡磁控溅射沉积技术制备纯MoS2和不同Ti掺杂量的MoS2-Ti复合薄膜。用SEM和XRD对薄膜的形貌和结构进行分析,用纳米划痕仪测试薄膜与基底间的附着力,用球-盘摩擦试验机评价薄膜在大气和真空环境中的摩擦学性能。研究结果表明:在溅射沉积MoS2薄膜过程中掺杂金属Ti,有效地阻断了MoS2疏松、多孔柱状晶的优势生长,从而生成组织结构致密、无定形态的薄膜,提高了其与基底间的附着力。掺Ti复合薄膜在大气和真空环境中的摩擦学性能都得到显著改善,真空环境中10%Ti含量的薄膜耐磨寿命最长,是纯MoS2膜的37倍,大气环境中20%Ti含量的薄膜耐磨寿命最长,是纯MoS2膜的67倍。
- 周晖温庆平桑瑞鹏万志华刘洪柱薛德胜
- 关键词：非平衡磁控溅射MOS2薄膜
- 掺杂Sb_2O_3/Au对MoS_2溅射膜抗氧化性能的影响被引量：6
- 2000年
- 利用 X射线光电子能谱仪 (XPS)对 MoS2溅射膜掺杂 Sb2O3/Au的抗氧化性能进行了研究。结果表明， Sb2O3/Au使得 MoS2溅射膜的结构变得更为致密。同时还改变了 MoSx的化学计量配比，增强了 MoS2溅射膜的抗氧化性能。通过掺杂的 MoS2溅射膜的初始氧化以及在潮湿环境中的氧化只发生在膜表面的 2～ 3个分子层，使得内层被保护得相当好。掺杂是解决 MoS2溅射膜氧化问题的一种行之有效的方法。
- 陈焘郭等柱万志华白芝芳
- 关键词：掺杂抗氧化性能固体润滑剂
- 沉积温度对非平衡磁控溅射MoS_2-Ti复合薄膜的结构与性能影响研究被引量：4
- 2007年
- 采用非平衡磁控溅射沉积技术制备MoS2-Ti复合薄膜,研究了沉积温度对薄膜的结构和性能的影响。利用SEM、XRF和XRD分析薄膜的形貌、成分和晶相结构,用CSEM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的硬度和与基底间的附着力,用球-盘摩擦试验机和真空环模系统评价薄膜的真空摩擦磨损性能。结果表明:沉积温度升高薄膜中S和Mo原子比从1.72升高至1.76,Ti质量分数从8.2%降低至6.7%,薄膜从明显的(002)基面优势取向向多晶态转变,晶粒尺寸变大,棱面膜含量增多;薄膜的硬度、与基底间的附着力都随沉积温度的升高而降低,沉积温度为200℃时薄膜性能降低明显,硬度从4GPa降至2GPa,薄膜与基底间附着力从80mN以上降至35mN;薄膜在真空环境中的减摩作用不受沉积温度影响,摩擦因数平均值为0.02,波动范围为0.01～0.04,薄膜耐磨寿命随沉积温度升高而降低,50℃和100℃薄膜耐磨寿命相差不多,200℃薄膜样品耐磨寿命很差,是50℃和100℃薄膜样品的1/8～1/7。
- 周晖郑军温庆平桑瑞鹏万志华
- 关键词：非平衡磁控溅射沉积温度
- 非平衡线圈电流对掺钨含氢类金刚石碳膜力学和摩擦学性能的影响被引量：1
- 2010年
- 利用非平衡磁控溅射技术在单晶硅片及9Cr18不锈钢基体表面制备不同非平衡线圈电流下的掺钨含氢类金刚石碳膜。采用Raman光谱以及红外光谱分析薄膜结构,采用纳米硬度测试仪和纳米划痕仪研究薄膜的纳米硬度和膜基附着力,在球-盘摩擦磨损试验机上测试薄膜的摩擦学性能。结果表明:制备的薄膜样品具有典型的类金刚石碳膜结构,薄膜中含氢量较高;非平衡线圈电流对等离子体的限制条件影响着薄膜的力学和摩擦学性能,薄膜硬度和弹性模量随着非平衡线圈电流增加而增大,薄膜的摩擦因数在非平衡线圈电流增加到最大值8 A时达到最小值0.118,在此参数下的耐磨寿命也最长。
- 杨拉毛草周晖郑军桑瑞鹏万志华
- 关键词：非平衡磁控溅射摩擦学性能
- 工件台转速对非平衡磁控溅射沉积MoS_2-Ti复合薄膜的结构与性能影响被引量：2
- 2008年
- 采用非平衡磁控溅射沉积技术制备MoS2-Ti复合薄膜,研究了工件台转速对薄膜的结构和性能的影响。利用XRF和XRD分析薄膜的成分和晶相结构,用CSEM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的硬度和与基底间的附着力,用球-盘摩擦试验机和真空环模系统评价薄膜的真空摩擦磨损性能。结果表明:提高工件台转速改善了掺杂金属Ti在薄膜中的分布均匀性,起到了细化晶粒尺寸,使薄膜组织结构致密性加强的效果。工件台转速变化不影响薄膜成分,薄膜的晶相从明显的(002)基面优势取向向准晶态转变;薄膜的硬度、与基底间的附着力都随工件台转速的提高而增大;薄膜在真空环境中的减摩作用与工件台转速无关,摩擦因数平均值为0.02,波动范围为0.01～0.04,薄膜耐磨寿命随工件台转速提高而延长。
- 周晖温庆平郑军桑瑞鹏万志华
- 关键词：非平衡磁控溅射
- 磁控溅射MoS_2+Sb_2O_3防冷焊薄膜性能研究被引量：2
- 2001年
- MoS2 溅射膜具有在潮湿大气中容易发生氧化而失去润滑作用的缺点。为了解决这个问题 ,将Sb2 O3 添加于MoS2 中 ,用磁控溅射法制备了MoS2 +Sb2 O3 薄膜 ,并利用球 -盘式磨损试验机考察了它对薄膜摩擦特性的影响。通过XRD、XPS、AFM对MoS2 +Sb2 O3 薄膜的微观结构和形貌及其化学状态进行了分析。实验结果表明 :薄膜的微观结构致密、晶粒小、分布均匀 ,有良好的润滑性、防冷焊性 ,特别适用于卫星活动部件的固体润滑。
- 陈焘颜昌林赵云平万志华白芝芳
- 关键词：磁控溅射二硫化钼三氧化二锑
- 工件台偏压对非平衡磁控溅射沉积MoS_2-Ti薄膜的结构与性能影响被引量：1
- 2010年
- 采用非平衡磁控溅射技术制备MoS2-Ti薄膜,研究工件台偏压对薄膜结构和性能的影响。利用XRF和XRD分析薄膜的成分和晶相结构,用CSM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的厚度、硬度以及膜与基体的结合力,采用球-盘摩擦磨损试验机评价薄膜在真空环境下的摩擦学性能。结果表明:MoS2-Ti薄膜具有明显的(002)优势取向,薄膜中S、Mo原子比及膜厚随偏压的增加而减小,薄膜硬度及膜-基体附着力随偏压的增加而增大,薄膜在真空环境中的平均摩擦因数为0.02,受偏压影响不明显,薄膜寿命受偏压影响明显,当偏压在-100 V内变化时薄膜具有较长的寿命且随偏压的增加而增长,偏压继续增大薄膜耐磨寿命下降明显,当偏压为-200 V时薄膜不具备润滑性能。
- 郑军周晖温庆平万志华桑瑞鹏
- 关键词：非平衡磁控溅射
