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刘玲

作品数：58 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信理学机械工程文化科学更多>>

合作作者

文献类型

  • 57篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 11篇电子电信
  • 5篇机械工程
  • 5篇理学
  • 3篇文化科学
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 28篇光刻
  • 15篇掩模
  • 13篇刻蚀
  • 13篇超分辨
  • 10篇湿法腐蚀
  • 10篇膜层
  • 8篇等离子体
  • 8篇衍射
  • 8篇纳米光刻
  • 7篇离子束
  • 7篇光刻胶
  • 6篇纳米
  • 6篇光刻技术
  • 6篇反应离子
  • 6篇表面等离子体
  • 5篇线宽
  • 5篇金属
  • 5篇干法刻蚀
  • 5篇成像
  • 5篇成像器

机构

  • 58篇中国科学院
  • 1篇电子科技大学
  • 1篇中国科学院大...

作者

  • 58篇罗先刚
  • 58篇刘玲
  • 50篇王长涛
  • 36篇刘凯鹏
  • 27篇冯沁
  • 26篇赵泽宇
  • 20篇刘尧
  • 19篇邢卉
  • 19篇方亮
  • 18篇潘丽
  • 18篇王彦钦
  • 14篇杨磊磊
  • 13篇陶兴
  • 12篇高平
  • 11篇黄成
  • 9篇杨欢
  • 6篇蒲明薄
  • 5篇赖之安
  • 5篇姚纳
  • 4篇蒲明博

传媒

  • 1篇中国激光

年份

  • 1篇2024
  • 5篇2023
  • 1篇2022
  • 1篇2020
  • 2篇2019
  • 2篇2018
  • 1篇2016
  • 2篇2015
  • 6篇2014
  • 6篇2013
  • 11篇2012
  • 10篇2011
  • 10篇2010
共 58 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
基于移动编码掩模原理制备多层浮雕结构复合膜层的方法
一种基于移动编码掩模原理制备多层浮雕结构复合膜层的方法，其特征在于：由所制备膜层的厚度分布函数得到对应的掩模开孔函数，确定掩模开孔的形状和几何尺寸；沿掩模移动方向，在掩模上周期性地制备出此开孔；在膜料沉积过程中移动掩模，...
刘凯鹏王长涛罗先刚冯沁刘尧刘玲方亮邢卉潘丽
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一种照明深度可调的宽波段光源超分辨表层显微成像方法
本发明公开一种照明深度可调的宽波段光源超分辨表层显微成像方法，其中，用于所述超分辨表层显微成像的照明器件从下到上依次包括：透明基底，光栅，金属/介质多层膜层；所述显微成像方法利用金属/介质多层膜层在光栅的激发下产生的深亚...
罗先刚赵泽宇王长涛孔维杰王彦钦刘凯鹏刘玲蒲明博高平王炯
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一种基于共振腔结构实现大面积超分辨光刻方法
本发明提出一种基于共振腔结构实现大面积超分辨光刻方法，在硅基底或硅膜层上制备包含有介质层和金属层的共振腔结构，在共振腔结构上制备一层特殊感光材料。上层感光材料在一定传统干涉光刻照明条件下透过率或/和折射率发生明显变化，并...
罗先刚蒲明博马晓亮刘玲王长涛
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高灵敏度、高稳定性表面增强拉曼芯片的制备方法及应用方法
本发明公开了一种高灵敏度、高稳定性表面增强拉曼芯片的制备方法及应用方法，该方法首先是在1cm×1cm的双面精抛光石英基底上通过自组装的方法得到单层排布的聚苯乙烯纳米球阵列；再采用反应离子刻蚀工艺对制作的单层纳米球阵列进行...
罗先刚高平杨欢赵泽宇冯沁陶兴刘玲刘凯鹏杨磊磊
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一种用于光刻的高效超分辨聚焦器件制备方法
本发明提供一种用于光刻的高效超分辨聚焦器件制备方法，该方法首先确定入射波，再选取合适的基底材料，在基底上蒸镀或溅射沉积一层金属膜，让入射波垂直于金属膜表面入射；在金属膜上表面取中心点为原点，选定x轴方向及y轴方向，取垂直...
罗先刚王长涛赵泽宇王彦钦冯沁陶兴杨磊磊刘凯鹏刘玲姚纳
一种基于双层胶技术的掩模平坦化方法
本发明公开了一种基于双层胶技术的掩模平坦化方法，其主要步骤为：在平面或者曲面基底上沉积铬膜层并制备掩模图形，之后在其上先后涂敷光刻胶A和光刻胶B，采用中心波长为365nm的紫外曝光光源从基底的背面入射，使光刻胶B感光，利...
罗先刚王长涛赵泽宇王彦钦沈同圣刘玲胡承刚黄成杨磊磊潘思洁崔建华赵波
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一种用于高深宽比纳米图形加工的反射式表面等离子体成像光刻方法
一种用于高深宽比纳米图形加工的反射式表面等离子体成像光刻方法，是采用光刻胶-银膜一光刻胶的三层膜层结构基片，纳米掩模图形面与基片表层光刻胶接触曝光。银膜功能是通过紫外照明光，将铬膜上的线宽尺度在20nm～500nm的图形...
罗先刚王长涛冯沁邢卉潘丽刘尧方亮刘玲
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一种利用阴影蒸镀和湿法腐蚀来制备半圆柱形沟槽的方法
一种利用阴影蒸镀和湿法腐蚀来制备半圆柱形沟槽的方法，包括：采用常规技术在衬底上沉积掩蔽膜层，在掩蔽膜层上涂布光刻胶；采用光刻技术在光刻胶上制备线条结构；以一定角度进行倾斜蒸镀，在每条光刻胶线条边缘外形成一条一定宽度的没有...
罗先刚刘凯鹏王长涛潘丽刘玲刘尧邢卉
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一种用于200nm以下线宽超衍射光刻的硅掩模及其制作方法
一种用于200nm以下线宽超衍射光刻的硅掩模及其制作方法，该掩模由紫外透明材料基片上的硅膜作为图形层。其制作方法是：首先在基片上加工一定厚度的硅膜，使其对紫外光的透过率在5％以内；然后在硅膜表面加工一层薄的铬膜；利用聚焦...
方亮王长涛罗先刚潘丽刘尧刘玲邢卉刘凯鹏
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一种利用显微镜测量自撑膜的弹性变形量的方法
一种利用显微镜测量自撑膜弹性变形量的方法，属于薄膜性能测量领域。其特征在于以下步骤：(1)选择基片材料，并在其上制作有机膜；(2)在有机膜材料上面制作金属膜层以及光栅做为标记图形；(3)于基片另一面进行湿法腐蚀，仅留下有...
邢卉王长涛罗先刚潘丽方亮刘尧刘玲刘凯鹏
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