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熊胜明

作品数:103 被引量:304H指数:10
供职机构:中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划国防科技工业技术基础科研项目国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信机械工程一般工业技术更多>>

文献类型

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领域

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  • 2篇一般工业技术

主题

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机构

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作者

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传媒

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  • 1篇2008'激...

年份

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  • 3篇2002
  • 4篇2001
  • 4篇2000
  • 1篇1999
  • 1篇1998
  • 3篇1997
103 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
电子束反应蒸发氧化物薄膜的应力特性被引量:11
2001年
研究了反应电子束蒸发氧化物光学薄膜在空气中的应力。为了找到能减小多层膜结构内应力的淀积工艺参数 ,测试了氧化物膜层 Ti O2 ,Ta2 O5 ,Si O2 ,Al2 O3,Hf O2 的应力 ,发现有些膜层为压应力 ,一些高折射率膜为张应力。实验表明 ,热处理可以有效地降低氧化物膜层光学吸收 ,并改变应力。
熊胜明张云洞唐晋发
关键词:光学薄膜电子束蒸发氧化物
End-Hall与APS离子源辅助沉积制备的薄膜特性被引量:3
2011年
利用离子束辅助沉积(IAD)技术制备了单层HfO2薄膜,离子源分别为End-Hall与APS离子源。采用Lambda900分光光度计、可变角光谱椭圆偏振仪(V-VASE)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、ZYGO干涉仪和激光量热计测试了薄膜的透射光谱、光学常数、晶体结构、表面形貌和吸收(1064nm)。实验结果表明,薄膜特性与辅助离子源及起始膜料有着密切的关系。End-Hall离子源辅助沉积制备的薄膜出现轻微的折射率不均匀性。两种离子源辅助沉积制备的薄膜折射率均较高,吸收损耗小,薄膜均为单斜晶相。不同离子源辅助沉积条件下,利用金属Hf为起始膜料制备的薄膜表面平整度较好,其均方根粗糙度和总积分散射均相对较小。与End-Hall离子源相比,APS离子源辅助沉积制备的薄膜吸收相对较小。
艾万君熊胜明
关键词:HFO2薄膜离子束辅助沉积离子源
COIL高反射镜总积分散射测量
本文介绍COIL用双波段高反射镜总积分散射测量方法,建立测试实验装置,分析系统误差。对COIL腔镜正入射和45°入射反射镜进行1315nm波长总积分散射进行测试,给出了测试结果。
熊胜明潘栋梁张云洞
关键词:COIL
文献传递
提高强激光反射镜镀膜损伤阈值的激光后处理技术及机理探讨被引量:5
1994年
介绍了一种提高高功率激光反射镜镀膜损伤阈值的激光后处理技术,并着重就提高激光损伤阈值机理的实验和理论研究作了归纳和探讨。
王永忠张云洞熊胜明
关键词:光学薄膜激光损伤后处理反射镜
光腔衰荡技术测中红外腔镜反射率的实验研究被引量:1
2010年
根据光腔衰荡光谱(CRDS)技术原理,建立了直型光腔下3.3μm波长反射率测试实验装置。测试了一对反射率为99%的腔镜,测试精度为10^(-4)。利用该装置得到不同腔长下激光在腔内振荡的时间衰减曲线。根椐衰减曲线计算得到腔镜反射率,分析其均方根误差为2.25×10^(-4)。就透镜位置变化以及在光路中加光阑的方式改变腔内模式,研究其对衰荡实验的影响。实验发现,透镜的相对位置在20 mm调节范围内得到的反射率测试均方根误差为2.55×10^(-5)。另外发现使用加在光路中的光阑可以改善光腔模式匹配,减小衰减时间的拟合误差。
高丽峰李斌成熊胜明
关键词:反射率光腔衰荡光谱
红外连续激光反射镜热畸变的有限元分析被引量:21
2004年
 基于热传导方程和热弹方程,利用有限元分析方法,就光斑尺寸远大于或接近于基底材料热扩散长度的情况以及反射镜在固定或自由的边界条件下,分别计算了硅和石英两种基底材料多层膜红外连续激光反射镜的最大温升、最大形变及最大热应力,并探讨了它们随光斑尺寸的变化规律。结果表明:在自由边界条件下,反射镜表面的最大轴向位移与光斑半径之间近似为线性关系;而在固定边界条件下,反射镜的最大热应力与光斑半径之间近似为线性关系;反射镜的夹持状态对最大轴向位移及最大热应力的影响随着光斑尺寸的增加而增强;在相同的入射激光光源及相同的边界条件下,硅镜具有较低的温升值或较高的抗热损伤阈值,而石英镜具有较好的抗热畸变特性。
齐文宗黄伟张彬蔡邦维熊胜明
关键词:热畸变有限元分析热传导方程
氧化物激光薄膜的离子束溅射制备技术
研究了由TaO和SiO组成的多层氧化物激光薄膜的双离子束溅射制备工艺。简要介绍了离子束溅射技术的基本工作原理和应用,着重分析了薄膜厚度均匀性的调控方法。先后得到了TaO和SiO单层薄膜厚度均匀性调控结果以及不同波长处薄膜...
申林熊胜明刘洪祥李凌辉张云洞
关键词:离子束溅射增透膜
文献传递
宽束离子源的均匀性分析被引量:8
2002年
在离子束溅射和离子辅助沉积光学薄膜技术中,离子源是其中最关键的单元技术之一。通 过测试宽束离子源束流密度的空间分布,研究了影响离子束均匀性分布的两个主要因素:加速电压和E/B。结果表明,随着加速电压的增加,离子束束流密度的分布趋向均匀;而E/B对离子束均匀性的影响不大。
刘洪祥张云洞李凌辉熊胜明
关键词:离子束溅射离子源均匀性光学薄膜
1.444μm Nd:YAG激光器的实验研究被引量:1
2007年
在理论分析的基础上设计了直腔结构1.444μm Nd:YAG激光器,并进行了实验研究。获得了1.444μm激光输出,当泵浦能量为55 J时,其最高静态激光输出310 mJ。电-光转换效率为0.56%,斜效率为0.81%。并实现了1.444μm调Q输出,脉冲输出能量18 mJ,脉宽150 ns。
田文任钢黄伟熊胜明张彬蔡邦维
关键词:ND:YAG激光器差频斜效率
离子束溅射制备带通滤光片
本文研究了采用双离子束溅射沉积技术、以沉积时间作为膜厚控制手段制备带通滤光片的工艺。简要介绍了使用的离子束溅射系统的基本工作原理和膜厚控制技术,描述了分别在K9 璃和有色玻璃上制备由多层Ta2O5和SiO2薄膜组成的滤光...
申林熊胜明刘洪祥李凌辉张云洞
关键词:带通滤光片离子束溅射
文献传递
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