2024年12月24日
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王娟
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92
被引量:94
H指数:6
供职机构:
河北工业大学
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国家中长期科技发展规划重大专项
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合作作者
刘玉岭
河北工业大学电子信息工程学院
檀柏梅
河北工业大学信息工程学院微电子...
李薇薇
河北工业大学信息工程学院微电子...
张万明
河北工业大学
张建辉
河北工业大学
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作者
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刘玉岭
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2004
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2003
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微电子CMP用SiO2研磨料的制备
以水玻璃为主要原料、采用多次生长法,利用等液面、低zeta电位生长、高电位陈化等控制过程,生产出具有不同粒径、稳定的碱性单分散硅溶胶产品,并实现120nm大粒径硅溶胶生长可控,突破生长大粒径的难题。
王娟
张建新
刘玉岭
关键词:
硅溶胶
锑化铟晶片碱性化学机械抛光后的表面洁净方法
本发明公开了一种锑化铟晶片碱性化学机械抛光后的表面洁净方法,旨在提供一种能够降低锑化铟晶片碱性化学机械抛光的后续加工成本,使用方法简单易行,能够提高晶片表面平整度和洁净度的方法。取电阻为18MΩ以上的超纯水边搅拌边加入表...
刘玉岭
王娟
李晖
一种外骨骼式步态康复训练装置
本发明公开一种外骨骼式步态康复训练装置,该装置主要包括支架、健肢侧外骨骼系统、健肢侧腋下支撑机构、患肢侧腋下支撑机构和患肢侧外骨骼系统;在健肢侧,应用外骨骼式运动参数检测系统检测健肢运动参数,健肢运动参数检测系统的脚踝部...
李军强
王娟
赵海文
刘今越
陈贵亮
金磊磊
文献传递
集成电路铜布线与衬底碱性化学机械平坦化关键技术与材料
被引量:1
2011年
探讨了集成电路铜布线与衬底碱性化学机械平坦化关键技术与材料项目的研发背景,针对理论研究的进展进行综述,指出了项目的创新之处。该项目成果已在中科院微电子所、台湾科技大学及平坦化协会和美国硅谷研发中心(SVTC)与目前国际上以Cabot公司为代表的酸性浆料进行了评估验证,获中国及美国发明专利和近10年的应用基础。
刘玉岭
牛新环
檀柏梅
周建伟
王胜利
王娟
关键词:
化学机械平坦化
微电子技术
一种零摩擦硬密封蝶阀
本发明公开一种零摩擦硬密封蝶阀,其特征在于该蝶阀包括阀门、阀体、阀座、蝶板、阀轴、导向槽、不完全齿轮、齿条、1号导向轴、2号导向轴、自润滑轴套、联动杆、间歇机构及驱动手柄和密封装置,阀体开有通孔,且在通孔处焊接有阀颈,同...
张建辉
杨欣霖
谭若诗
梁瑞
宋阳
张万明
王娟
雷春光
文献传递
超大规模集成电路专用纳米硅溶胶的纯化方法
本发明公开了一种超大规模集成电路专用纳米硅溶胶的纯化方法,旨在提供一种有效的降低硅溶胶中金属离子的含量,以提高晶片质量的硅溶胶的纯化方法。将盐酸注入阳离子交换树脂中搅拌,制备酸性阳离子交换树脂;然后将高金属离子含量的碱性...
刘玉岭
王娟
张建新
文献传递
光电器件用蓝宝石衬底高精密加工技术及应用
刘玉岭
牛新环
王胜利
檀柏梅
周建伟
王娟
该项目属于无机非金属材料领域,应用于微电子及光电子、仪器仪表、航空航天、光通信、精密机械等高新技术与产品所用材料的超精密加工。 本项目在光电器件用蓝宝石衬底高精密加工理论、技术及其应用方面获得了多项突破。首先配制了可实...
关键词:
关键词:
蓝宝石衬底
化学机械抛光
抛光液
新型兆声清洗去除集成电路衬底硅片表面污染物的分析研究
被引量:2
2006年
集成电路衬底硅片表面存在污染物会严重影响器件可靠性,非离子表面活性剂能有效控制颗粒在硅单晶片表面的吸附状态,使之保持易清洗的物理吸附。在清洗液中加入特选的非离子表面活性剂,大大提高了兆声清洗去除颗粒的效率和效果。实验表明当活性剂在清洗液的配比为1%,颗粒去除率可达95%以上。
李薇薇
周建伟
刘玉岭
王娟
关键词:
兆声清洗
非离子表面活性剂
一种变拓扑Trans‑Z源逆变器
本发明公开一种变拓扑Trans‑Z源逆变器,包含第一Trans‑Z源网络、第二Trans‑Z源网络、第一直流电源、第二直流电源、第一全桥逆变器、第二全桥逆变器、第一滤波电感、第一交流电源、第九开关管、第十开关管、第九二极...
李志军
张珈玮
刘爽
王娟
奚文霞
张子坤
张川博
文献传递
超大规模集成电路专用纳米硅溶胶的稳定方法
本发明公开了一种超大规模集成电路专用纳米硅溶胶的稳定方法,旨在提供一种生产工艺简单,稳定性高的高浓度酸性硅溶胶的制备方法。首先采用阳-阴-阳三次离子交换纯化硅溶胶,之后,将交换后的硅溶胶中加入聚醚型非离子表面活性剂,硅溶...
刘玉岭
王娟
张西慧
张建新
刘承霖
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