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吴冲

作品数：5 被引量：0H指数：0
供职机构：国家纳米科学中心更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇中文专利

主题

  • 5篇图案
  • 4篇紫外线
  • 4篇紫外线灯
  • 4篇分子
  • 4篇分子膜
  • 3篇石墨
  • 3篇石墨烯
  • 3篇图案化
  • 2篇掩模
  • 2篇荧光
  • 2篇荧光特性
  • 2篇疏水
  • 2篇光学
  • 2篇光学性
  • 2篇光学性质
  • 1篇印章
  • 1篇基底
  • 1篇甲氧基
  • 1篇甲氧基硅烷
  • 1篇硅烷

机构

  • 5篇国家纳米科学...

作者

  • 5篇承倩怡
  • 5篇吴冲
  • 5篇孙树清
  • 5篇韩宝航
  • 3篇周鼎
  • 1篇王涛

年份

  • 2篇2014
  • 3篇2012
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
形成石墨烯氧化物图案和石墨烯图案的方法
本发明的形成石墨烯氧化物图案的方法包括：(1)准备基底；(2)在基底的至少一个表面上形成疏水的自组装单分子膜；(3)用掩模覆盖所述疏水的自组装单分子膜后采用紫外线灯曝光，并在曝光后去除掩模，得到该至少一个表面含有图案化的...
孙树清吴冲承倩怡韩宝航
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形成石墨烯氧化物图案和石墨烯图案的方法
本发明的形成石墨烯氧化物图案的方法包括：(1)准备基底；(2)在基底的至少一个表面上制备疏水的自组装单分子膜；(3)用掩模覆盖所述疏水的自组装单分子膜后采用紫外线灯曝光，并在曝光后去除掩模，得到该至少一个表面含有图案化的...
韩宝航承倩怡吴冲周鼎孙树清
文献传递
形成石墨烯氧化物图案和石墨烯图案的方法
本发明的形成石墨烯氧化物图案的方法包括：(1)准备基底；(2)在基底的至少一个表面上形成疏水的自组装单分子膜；(3)用掩模覆盖所述疏水的自组装单分子膜后采用紫外线灯曝光，并在曝光后去除掩模，得到该至少一个表面含有图案化的...
孙树清吴冲承倩怡韩宝航
文献传递
形成石墨烯氧化物图案和石墨烯图案的方法
本发明的形成石墨烯氧化物图案的方法包括：(1)准备基底；(2)在基底的至少一个表面上制备疏水的自组装单分子膜；(3)用掩模覆盖所述疏水的自组装单分子膜后采用紫外线灯曝光，并在曝光后去除掩模，得到该至少一个表面含有图案化的...
韩宝航承倩怡吴冲周鼎孙树清
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形成石墨烯氧化物图案和石墨烯图案的方法
本发明提供了一种形成石墨烯氧化物图案及其石墨烯图案的方法，该方法按照以下(A)和(B)两种方式之一进行：(A)将石墨烯氧化物溶液与图案化聚二甲氧基硅烷印章接触1-500min，干燥；然后将干燥后的图案化聚二甲氧基硅烷印章...
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