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曹政

作品数：24 被引量：26H指数：3
供职机构：西安理工大学更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划陕西省普通高等学校重点学科专项资金建设项目更多>>
相关领域：金属学及工艺一般工业技术理学动力工程及工程热物理更多>>

合作作者

文献类型

  • 12篇期刊文章
  • 8篇专利
  • 2篇学位论文
  • 2篇会议论文

领域

  • 8篇金属学及工艺
  • 7篇一般工业技术
  • 2篇理学
  • 1篇动力工程及工...

主题

  • 15篇溅射
  • 12篇磁控
  • 12篇磁控溅射
  • 5篇等离子体
  • 5篇脉冲
  • 4篇LANGMU...
  • 3篇微观结构
  • 3篇微观形貌
  • 3篇轰击
  • 3篇超声波清洗
  • 3篇磁场
  • 2篇导电
  • 2篇导电体
  • 2篇电源
  • 2篇电子密度
  • 2篇体表面
  • 2篇铁基
  • 2篇组态
  • 2篇脱膜
  • 2篇脱膜剂

机构

  • 24篇西安理工大学
  • 1篇广西大学

作者

  • 24篇曹政
  • 18篇蒋百灵
  • 10篇李洪涛
  • 6篇杨波
  • 4篇鲁媛媛
  • 4篇杨超
  • 3篇陈雪
  • 2篇苗启林
  • 2篇董丹
  • 2篇郝娟
  • 2篇宁富平
  • 2篇张潜
  • 1篇郭维华
  • 1篇栾亚
  • 1篇乔泳彭
  • 1篇陈迪春
  • 1篇丁小柯
  • 1篇焦栋茂
  • 1篇王涛
  • 1篇沈建东

传媒

  • 3篇人工晶体学报
  • 3篇真空科学与技...
  • 2篇材料热处理学...
  • 1篇功能材料
  • 1篇材料研究学报
  • 1篇西安理工大学...
  • 1篇材料科学与工...
  • 1篇第六届中国热...

年份

  • 1篇2021
  • 1篇2019
  • 2篇2018
  • 1篇2014
  • 2篇2013
  • 11篇2011
  • 3篇2010
  • 3篇2009
共 24 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种剥离铁基类石墨镀层的脱膜剂及脱膜方法
本发明公开了一种剥离铁基类石墨镀层的脱膜剂及脱膜方法，脱膜剂由磷酸、盐酸、硫酸、去离子水和氯化钠组成，磷酸、盐酸、硫酸和去离子水组成混合溶液，按体积百分比，其总量为100％，其中，磷酸为4％～7％、盐酸为12％～15％、...
蒋百灵李洪涛曹政陈雪
文献传递
一种高频振荡脉冲磁控溅射方法
一种高频振荡脉冲磁控溅射方法，包括以下步骤，1)将等待镀膜的样品分别浸泡在丙酮和酒精溶液中超声波清洗，吹干，放置于真空腔内样品工件架上，抽真空，通入氩气；2)开启高频振荡脉冲型靶电源和脉冲负偏压基体电源对样品表面进行离子...
杨超蒋百铃曹政王戎郝娟
一种过压脉冲增强磁控溅射镀膜方法
本发明一种过压脉冲增强磁控溅射镀膜方法，包括以下步骤：将工件清洗干燥后，放置在磁控溅射离子镀设备的真空腔中；将所述真空腔抽真空，通入氩气，对工件进行离子清洗；对工件进行镀膜：其中，过压脉冲靶电源为：靶材脉冲峰值电压为60...
蒋百灵曹政
一种高频振荡脉冲磁控溅射方法
一种高频振荡脉冲磁控溅射方法，包括以下步骤，1)将等待镀膜的样品分别浸泡在丙酮和酒精溶液中超声波清洗，吹干，放置于真空腔内样品工件架上，抽真空，通入氩气；2)开启高频振荡脉冲型靶电源和脉冲负偏压基体电源对样品表面进行离子...
杨超蒋百铃曹政王戎郝娟
文献传递
一种两段式脉冲磁控溅射方法
本发明公开了一种两段式脉冲磁控溅射方法，主要是在阴极靶材与阳极真空腔体间构建两段式脉冲电场环境，通过对两段脉冲阶段内参数的调配，可快速制备多种组织和性能良好的薄膜，例如：C基、Ti基、Cr基或Si基薄膜等，特别是TiN/...
杨超蒋百铃曹政董丹马加豪王晓楠
文献传递
脉冲闭合场非平衡磁控溅射(P-CFUBMS)与直流闭合场非平衡磁控溅射(dc-CFUBMS)对CrNx镀层沉积效果差异比较
采用脉冲闭合场非平衡磁控溅射(P-CFUBMS)与直流闭合场非平衡磁控溅射(dc-CFUBMS)两种方法分别沉积CrNx镀层,研究了两种不同复合电磁场环境中制备的CrNx镀层厚度沿靶基距方向分布均匀性及微观结构的差异.结...
曹政蒋百灵宁富平张潜
关键词：微观结构
一种过压脉冲增强磁控溅射镀膜方法
本发明一种过压脉冲增强磁控溅射镀膜方法，包括以下步骤：将工件清洗干燥后，放置在磁控溅射离子镀设备的真空腔中；将所述真空腔抽真空，通入氩气，对工件进行离子清洗；对工件进行镀膜：其中，过压脉冲靶电源为：靶材脉冲峰值电压为60...
蒋百灵曹政
文献传递
溅射环境下基片表面所受到的轰击能量研究被引量：2
2011年
溅射环境下基于薄膜的沉积速率和Langmuir探针测出的基片位置处离子流通量量化了单位时间内基片表面微区所接受的溅射中性原子的轰击能量Ec1和各种轰击离子传递给基片的轰击能量Ec2;Ec1和Ec2的数量级近似相同,Ec1和Ec2同时作用于基片表面微区加速了薄膜沉积过程中最表层原子的表面扩散进程,Ec1和Ec2持续作用所引起的能量积淀和温升效应可促进薄膜表层下方原子的体扩散进程。
李洪涛蒋百灵杨波曹政
关键词：溅射LANGMUIR探针微观形貌
本底真空度对磁控溅射Cr/C镀层微观形貌及结合强度的影响被引量：2
2010年
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术于不同本底真空度下制备了Cr/C镀层。利用TEM、划痕仪分析了不同真空度下镀层微观截面形貌与结合强度的变化。结果表明,随本底真空度的降低,Cr/C镀层中物理混合界面层和Cr金属打底层的厚度显著减小;镀层结合强度随本底真空度的降低显著下降,物理混合界面层、Cr金属打底层厚度的减小以及镀层表面孔洞等缺陷增多、致密度变差等共同导致了其结合强度的下降。
李洪涛蒋百灵陈迪春曹政蔡敏利苗启林
基于磁控溅射离子镀技术的不同晶态纯Cr薄膜微观组织结构研究被引量：2
2011年
基于磁控溅射离子镀技术,制备了不同晶态结构的纯Cr薄膜,分析了电场环境对纯Cr薄膜晶态结构影响的客观规律;结合溅射原理和薄膜生长原理揭示了电场环境对纯Cr薄膜生长过程影响的内在机理;探讨了磁控溅射离子镀技术在工程材料的纳米化、非晶化进程中应有的功能,旨在为纳米材料的研发及其制备技术的创新提供参考依据。
李洪涛蒋百灵杨波曹政
关键词：柱状晶等轴晶纳米晶非晶
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